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公开(公告)号：CN103901726B
公开(公告)日：2019-12-13
申请号：CN201310729421.3
申请日：2013-12-26
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明提供能够形成分辨率优异的厚膜的感光性树脂层的、厚膜用负型感光性树脂组合物；具有包含该厚膜用负型感光性树脂组合物的厚膜的感光性树脂层的厚膜感光性干燥膜；以及使用该厚膜用负型感光性树脂组合物的厚膜抗蚀剂图案的形成方法。在含有（A）碱可溶性树脂和（B）光聚合性单体的厚膜用负型感光性树脂组合物中，配合（C）下述式（1）所示的化合物。
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公开(公告)号：CN103076716B
公开(公告)日：2017-10-17
申请号：CN201210369397.2
申请日：2012-09-27
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明提供能够抑制使不饱和羧酸(a1)与含环氧基的不饱和化合物(a2)进行聚合而成的共聚物(A1)的分子量的增大的树脂组合物、含有该树脂组合物的感光性树脂组合物、由该感光性树脂组合物形成的衬垫、以及具备该衬垫的显示装置。在包含至少使不饱和羧酸(a1)和含环氧基的不饱和化合物(a2)进行聚合而成的共聚物(A1)的碱可溶性树脂(A)、含有丙二醇单甲基醚乙酸酯的溶剂(S)的树脂组合物中，配合下述式(1)评价的化合物。
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公开(公告)号：CN105676601A
公开(公告)日：2016-06-15
申请号：CN201510882811.3
申请日：2015-12-03
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明提供：用于形成蚀刻掩模的玻璃基板的前处理方法，通过该方法，于在表面上具有金属布线和非导电性的被膜的玻璃基板上形成蚀刻掩模时，对于蚀刻掩模的开口部的在玻璃基板的面方向的截面积而言，能使在玻璃基板表面侧的截面积与蚀刻掩模表面的开口部的截面积之差小，能形成可从玻璃基板整面快速剥离的蚀刻掩模；在实施了前处理方法的玻璃基板上形成蚀刻掩模的方法；及利用该方法形成的具有蚀刻掩模的玻璃基板的基于蚀刻的加工方法。解决手段：于在表面上具有金属布线和由有机或无机材料形成的非导电性的被膜的玻璃基板上形成蚀刻掩模之前，针对玻璃基板表面，利用含有胺的处理液进行胺处理，该胺不具有可与玻璃基板的表面化学键合的官能团。
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公开(公告)号：CN105579907A
公开(公告)日：2016-05-11
申请号：CN201480052348.3
申请日：2014-09-25
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明提供灵敏度、保存稳定性、涂布性、显影性及安全性优异、并且能够利用曝光及显影形成使异物的产生受到抑制的图案的感放射线性组合物及使用该感放射线性组合物的图案制造方法。本发明的感放射线性组合物含有下述通式(1)所示的化合物。式中，R1表示氢原子或羟基，R2及R3独立地表示氢原子或C1～C3的烷基，R4及R5独立地表示C1～C3的烷基。
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公开(公告)号：CN105293934A
公开(公告)日：2016-02-03
申请号：CN201510398272.6
申请日：2015-07-08
Applicant: 东京应化工业株式会社 , 武蔵野精细玻璃株式会社
IPC: C03C15/00
Abstract: 本发明提供玻璃加工方法、玻璃蚀刻液、及玻璃基板，所述玻璃加工方法可以按照在玻璃基板的端部，使朝向玻璃基板的面方向外侧突出的顶部的顶端不位于玻璃基板的面方向的最外侧的方式加工玻璃基板。本发明的玻璃加工方法包括：第一玻璃蚀刻工序，使用含有氢氟酸0.5～20质量％、硝酸5.0～25.0质量％、和氢氟酸及硝酸以外的无机酸0.5～10质量％的第一玻璃蚀刻液，对在一对主平面上具有相同图案的蚀刻掩模的玻璃基板进行蚀刻；和第二玻璃蚀刻工序，使用含有氢氟酸0.5～20质量％、和硫酸10.0～50.0质量％的第二玻璃蚀刻液，对在所述第一玻璃蚀刻工序中被蚀刻了的所述玻璃基板进行蚀刻。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103543606A
公开(公告)日：2014-01-29
申请号：CN201310270789.8
申请日：2013-07-01
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 第一提供耐蚀刻性高且分辨率优异，同时抑制侧蚀，可形成纵横比高的树脂图案的玻璃加工用感光性树脂组合物及使用该组合物的玻璃加工方法。第二提供耐蚀刻性高且分辨率优异，同时抑制液体滴落的玻璃加工用感光性树脂组合物及使用该组合物的玻璃加工方法。本发明的第一上述组合物含有具有羟基的质均分子量20000以上的树脂和选自聚烯烃微粒及无机盐微粒中的至少1种填料。本发明的第二的玻璃加工用感光性树脂组合物含有具有羟基的质均分子量20000以上的树脂、填料与流变调节剂的组合。本发明的玻璃加工方法包括在玻璃基板上形成含上述组合物的树脂层的工序、将上述层选择性曝光的曝光工序、将曝光后的上述树脂层显影进行图案图案化的显影工序、将上述树脂图案用作掩模对上述玻璃基板进行蚀刻的蚀刻工序和剥离上述树脂图案的剥离工序。
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公开(公告)号：CN101713921B
公开(公告)日：2013-06-05
申请号：CN200910171181.3
申请日：2009-09-07
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/027 , G02F1/1339
Abstract: 本发明提供兼具优异的氢氟酸耐性和浸透性的感光性树脂组合物及密封剂。本发明的感光性树脂组合物包含：末端(甲基)丙烯酸酯低聚物(A)、选自下式(1)表示的单体(b1)以及下式(2)表示的单体(b2)中的1种以上的单体(B)、光聚合引发剂(C)。[化1](式中，A表示具有环状酰胺基或者环状酰亚胺基、且它们的氮原子与式(1)中的残基结合的基团；R1、R1’、以及R2独立地表示氢原子或者甲基；a和b独立地表示1～3的整数。)[化2](式中，R3表示氢原子或者甲基；B表示单键、或者碳原子数为1～5的亚烷基；R4表示将单环式或者多环式环内酯化合物的碳原子上结合的1个氢原子除去所形成的残基)。
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公开(公告)号：CN102902157A
公开(公告)日：2013-01-30
申请号：CN201210260761.1
申请日：2012-07-25
Applicant: 东京应化工业株式会社
Inventor： 植松照博
Abstract: 提供使用了蚀刻耐性高、且分辨率及剥离性优异的感光性树脂组合物的玻璃加工方法。本发明的玻璃加工方法包括以下工序：在玻璃基板上形成含有具有酚性羟基的碱可溶性树脂的感光性树脂组合物的涂布膜的涂布膜形成工序；对上述涂布膜进行选择性曝光的曝光工序；对曝光后的上述涂布膜进行显影而形成树脂图案的显影工序；以上述树脂图案作为掩模对上述玻璃基板进行蚀刻的蚀刻工序；以及将上述树脂图案剥离的剥离工序。
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公开(公告)号：CN101776845A
公开(公告)日：2010-07-14
申请号：CN200910215323.1
申请日：2009-12-23
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种感光性树脂组合物，该感光性树脂组合物兼具充分的耐药品性和良好的剥离性、并且用于得到与基材上的金属膜之间显示良好粘合性的树脂图案，以及提供一种使用了这种树脂图案的被蚀刻基体的制造方法。本发明的感光性树脂组合物包含：通过使来自含酸基的丙烯酸类树脂的一部分酸基与来自含脂环族环氧基的不饱和化合物的环氧基反应而生成的碱性可溶性树脂(A)；三官能以上的多官能单体(B)；含氮单官能单体(C)；光聚合引发剂(D)。
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公开(公告)号：CN101762970A
公开(公告)日：2010-06-30
申请号：CN200910215325.0
申请日：2009-12-23
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种被蚀刻基体的制造方法，该被蚀刻基体具有酸性和碱性条件下的耐蚀刻性，并且将在蚀刻工序结束后能够用碱性剥离液剥离的树脂图案作为掩模。本发明的被蚀刻基体的制造方法包括：在基体上形成感光性树脂层的工序；对上述感光性树脂层进行选择性曝光、显影以形成树脂图案的工序；将上述树脂图案作为掩模，使用45℃以下的酸性或碱性蚀刻液对上述基体进行选择性蚀刻的工序；使用50～80℃的碱性剥离液对上述树脂图案进行剥离的工序。上述感光性树脂组合物包含：通过使来自含酸基的丙烯酸类树脂的一部分酸基与来自含脂环族环氧基的不饱和化合物的环氧基反应而生成的碱性可溶性树脂；三官能以上的多官能单体；光聚合引发剂。
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