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公开(公告)号:CN113462278B
公开(公告)日:2024-06-07
申请号:CN202110344299.2
申请日:2021-03-30
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C09D179/08 , C09D7/63
Abstract: 本发明涉及清漆组合物、聚酰亚胺树脂的制造方法及添加剂。本发明提供能形成热膨胀系数、断裂伸长率及拉伸强度等物理性质得到改善的聚酰亚胺树脂的清漆组合物、使用该清漆组合物的聚酰亚胺树脂的制造方法、和适合用作上述清漆组合物的构成成分的添加剂。针对含有聚酰胺酸(A)及溶剂(S)的用于形成聚酰亚胺树脂的清漆组合物,配合下述式(C1)表示的化合物作为酰胺化合物(C)。式(C1)中,Rc1为介由碳‑碳键与羰基进行键合的n价有机基团,Rc2为氢原子、或碳原子数1以上且6以下的烷基,n为1以上且4以下的整数。Rc1‑(‑CO‑NH‑Rc2)n···(C1)。
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公开(公告)号:CN113462277B
公开(公告)日:2024-04-19
申请号:CN202110344297.3
申请日:2021-03-30
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C09D179/08 , C09D7/20 , C08G73/10
Abstract: 本发明涉及清漆组合物、及聚酰亚胺树脂的制造方法。本发明提供能够形成表面高度平滑的聚酰亚胺树脂的清漆组合物、和使用该清漆组合物的聚酰亚胺树脂的制造方法。在含有聚酰胺酸的用于形成聚酰亚胺树脂的清漆组合物中,作为溶剂(S),配合在氮原子上键合有碳原子数3以上且7以下的烷基的N‑烷基‑2‑吡咯烷酮。作为N‑烷基‑2‑吡咯烷酮,优选N‑正丁基‑2‑吡咯烷酮。溶剂(S)优选包含特定结构的含氮化合物。
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公开(公告)号:CN108957956B
公开(公告)日:2024-04-02
申请号:CN201810464330.4
申请日:2018-05-15
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明涉及固化性组合物、固化物、固化膜、显示面板、及固化物的制造方法。本发明的课题在于提供:可形成折射率高、耐弯曲性优异的固化物的固化性组合物;该固化性组合物的固化物;由该固化物形成的固化膜;具有该固化膜的显示面板;以及,使用前述的固化性组合物的固化物的制造方法。本发明的技术手段是,在包含(A)固化性化合物和(C)固化剂的固化性组合物中,使(A)固化性化合物含有以包含芳香环的3个以上的环稠合而形成的稠环为主骨架的固化性化合物,并且,在所述固化性组合物中配合有(B)金属氧化物,在所述(B)金属氧化物的表面以共价键键合有封端剂。
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公开(公告)号:CN108375878B
公开(公告)日:2023-12-08
申请号:CN201810085762.4
申请日:2018-01-29
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 合物固化而形成的透明绝缘膜、及具有该透明绝本发明的课题在于提供:即使含有选自由包 缘膜的显示装置。一种感光性的聚合性组合物,含特定元素的无机填料(D1)和碱性填料(D2)组 其包含选自由包含特定元素的无机填料(D1)和成的组中的1种以上的填料(D)和含聚合性基团 碱性填料(D2)组成的组中的1种以上的填料(D)、的成分、也能抑制在利用光刻法形成经图案化的 和含聚合性基团的成分,所述组合物中,含有特功能性膜时在非图案部中产生显影残渣的感光 定的含硅树脂(A)。性的聚合性组合物、使用该聚合性组合物的固化(56)对比文件Dar-Jong Lin et,.Preparation ofSilica-Filled Poly(2-hydroxymethylmethacrylate) Nanocomposites Cured byPhotoirradiation during the Sol–GelProcess《.Journal of Applied PolymerScience》.2004,第94卷第1927–1935页.
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公开(公告)号:CN114302923B
公开(公告)日:2023-10-03
申请号:CN202080059990.X
申请日:2020-08-28
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C09D11/38 , C09K23/54 , C09K23/42 , H10K50/858
Abstract: 本发明提供金属氧化物粒子分散用组合物,其能够制备耐热性优异、可适用喷墨法、用于形成OLED显示元件等显示器用途等或OLED照明等中的高折射率层的高折射率材料。金属氧化物粒子分散用组合物,其含有:萘环键合于芴而成的特定的甲硅烷基改性芴化合物;和,特定的(甲基)丙烯酸酯化合物。甲硅烷基优选为三甲氧基甲硅烷基、三乙氧基甲硅烷基、甲基二甲氧基甲硅烷基、乙基二甲氧基甲硅烷基、甲基二乙氧基甲硅烷基、或乙基二乙氧基甲硅烷基。
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公开(公告)号:CN111217946B
公开(公告)日:2022-12-06
申请号:CN202010079635.0
申请日:2014-03-28
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种包含新型的含有乙烯基的化合物的组合物。本发明涉及的组合物包含下述通式(1)所示的含有乙烯基的化合物。式中,W1和W2为下述通式(2)(式中,环Z为芳香族烃环、X为单键或-S-所示的基团、R1为单键或碳原子数1~4的亚烷基、R2为一价烃基等特定取代基、m为0以上的整数。)所示的基团、下述通式(4)所示的基团(式中,环Z、X、R1、R2和m如上所述。)、羟基或(甲基)丙烯酰氧基;环Y1和环Y2为芳香族烃环;R为单键或特定二价基团;R3a和R3b为氰基、卤原子或一价烃基;n1和n2为0~4的整数。
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公开(公告)号:CN113264856B
公开(公告)日:2022-11-22
申请号:CN202110562785.1
申请日:2015-09-25
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C07C321/30 , G03F7/004
Abstract: 本申请涉及锍盐、光产酸剂及感光性组合物。本发明提供对活性能量射线的敏感度高的新型锍盐、由该锍盐形成的光产酸剂、及含有该光产酸剂的感光性组合物。本发明涉及的锍盐由式(a1)表示。式中,R1和R2独立地表示可被卤素原子取代的烷基或式(a2)表示的基团,R1和R2可相互键合并与式中的硫原子共同形成环,R3表示式(a3)表示的基团或式(a4)表示的基团,A1表示S等,X‑表示1价的阴离子,其中,R1和R2不会同时为可被卤素原子取代的烷基。式(a2)~(a4)中,环Z1表示芳香族烃环,R4、R6、R9、和R10表示特定的1价基团,R5、R7、和R8表示特定的2价基团,A2及A3表示S等,m1表示0以上的整数,n1和n2表示0或1。
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公开(公告)号:CN113462277A
公开(公告)日:2021-10-01
申请号:CN202110344297.3
申请日:2021-03-30
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C09D179/08 , C09D7/20 , C08G73/10
Abstract: 本发明涉及清漆组合物、及聚酰亚胺树脂的制造方法。本发明提供能够形成表面高度平滑的聚酰亚胺树脂的清漆组合物、和使用该清漆组合物的聚酰亚胺树脂的制造方法。在含有聚酰胺酸的用于形成聚酰亚胺树脂的清漆组合物中,作为溶剂(S),配合在氮原子上键合有碳原子数3以上且7以下的烷基的N‑烷基‑2‑吡咯烷酮。作为N‑烷基‑2‑吡咯烷酮,优选N‑正丁基‑2‑吡咯烷酮。溶剂(S)优选包含特定结构的含氮化合物。
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公开(公告)号:CN108300305B
公开(公告)日:2021-10-01
申请号:CN201810007780.0
申请日:2018-01-04
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C09D183/16 , C09D7/63 , C09D7/20 , H01L21/316
Abstract: 本发明的课题在于提供一种组合物和使用了该组合物的二氧化硅质膜的制造方法,所述组合物即使在较低温度的烧成条件下也能稳定地提供膜质良好的二氧化硅质膜。本发明涉及的组合物包含(A)聚硅氮烷、和(B)以下的式(B)表示的含有咪唑基的化合物。
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公开(公告)号:CN113354945A
公开(公告)日:2021-09-07
申请号:CN202110181091.3
申请日:2021-02-09
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C08L79/08 , C09D179/08 , C09D7/20 , C08J3/09 , C08J3/11
Abstract: 本发明涉及清漆组合物、及聚酰亚胺树脂的制造方法。本发明的课题在于提供聚酰胺酸良好地溶解、并且在保存清漆组合物时、使用清漆组合物形成聚酰亚胺树脂时不易产生臭气的清漆组合物,和使用该清漆组合物的聚酰亚胺树脂的制造方法。在含有聚酰胺酸的用于形成聚酰亚胺树脂的清漆组合物中,作为溶剂(S),配合分别为特定结构的含氮有机溶剂(S‑I)、和含硫有机溶剂(S‑II)。
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