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公开(公告)号：CN108375878B
公开(公告)日：2023-12-08
申请号：CN201810085762.4
申请日：2018-01-29
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 合物固化而形成的透明绝缘膜、及具有该透明绝本发明的课题在于提供：即使含有选自由包 缘膜的显示装置。一种感光性的聚合性组合物，含特定元素的无机填料(D1)和碱性填料(D2)组 其包含选自由包含特定元素的无机填料(D1)和成的组中的1种以上的填料(D)和含聚合性基团 碱性填料(D2)组成的组中的1种以上的填料(D)、的成分、也能抑制在利用光刻法形成经图案化的 和含聚合性基团的成分，所述组合物中，含有特功能性膜时在非图案部中产生显影残渣的感光 定的含硅树脂(A)。性的聚合性组合物、使用该聚合性组合物的固化(56)对比文件Dar-Jong Lin et，.Preparation ofSilica-Filled Poly(2-hydroxymethylmethacrylate) Nanocomposites Cured byPhotoirradiation during the Sol–GelProcess《.Journal of Applied PolymerScience》.2004,第94卷第1927–1935页.
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公开(公告)号：CN111217946B
公开(公告)日：2022-12-06
申请号：CN202010079635.0
申请日：2014-03-28
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种包含新型的含有乙烯基的化合物的组合物。本发明涉及的组合物包含下述通式(1)所示的含有乙烯基的化合物。式中，W1和W2为下述通式(2)(式中，环Z为芳香族烃环、X为单键或－S－所示的基团、R1为单键或碳原子数1～4的亚烷基、R2为一价烃基等特定取代基、m为0以上的整数。)所示的基团、下述通式(4)所示的基团(式中，环Z、X、R1、R2和m如上所述。)、羟基或(甲基)丙烯酰氧基；环Y1和环Y2为芳香族烃环；R为单键或特定二价基团；R3a和R3b为氰基、卤原子或一价烃基；n1和n2为0～4的整数。
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公开(公告)号：CN113264856B
公开(公告)日：2022-11-22
申请号：CN202110562785.1
申请日：2015-09-25
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C07C321/30 , G03F7/004
Abstract: 本申请涉及锍盐、光产酸剂及感光性组合物。本发明提供对活性能量射线的敏感度高的新型锍盐、由该锍盐形成的光产酸剂、及含有该光产酸剂的感光性组合物。本发明涉及的锍盐由式(a1)表示。式中，R1和R2独立地表示可被卤素原子取代的烷基或式(a2)表示的基团，R1和R2可相互键合并与式中的硫原子共同形成环，R3表示式(a3)表示的基团或式(a4)表示的基团，A1表示S等，X‑表示1价的阴离子，其中，R1和R2不会同时为可被卤素原子取代的烷基。式(a2)～(a4)中，环Z1表示芳香族烃环，R4、R6、R9、和R10表示特定的1价基团，R5、R7、和R8表示特定的2价基团，A2及A3表示S等，m1表示0以上的整数，n1和n2表示0或1。
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公开(公告)号：CN108300305B
公开(公告)日：2021-10-01
申请号：CN201810007780.0
申请日：2018-01-04
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C09D183/16 , C09D7/63 , C09D7/20 , H01L21/316
Abstract: 本发明的课题在于提供一种组合物和使用了该组合物的二氧化硅质膜的制造方法，所述组合物即使在较低温度的烧成条件下也能稳定地提供膜质良好的二氧化硅质膜。本发明涉及的组合物包含(A)聚硅氮烷、和(B)以下的式(B)表示的含有咪唑基的化合物。
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公开(公告)号：CN108300305A
公开(公告)日：2018-07-20
申请号：CN201810007780.0
申请日：2018-01-04
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C09D183/16 , C09D7/63 , C09D7/20 , H01L21/316
CPC classification number: C09D183/16 , C08G77/62 , C08L83/16 , H01L21/02222 , H01L21/02282 , H01L21/02318 , H01L21/02326 , H01L21/02337 , C08K5/3445 , C08K5/55 , H01L21/02164 , H01L21/02205
Abstract: 本发明的课题在于提供一种组合物和使用了该组合物的二氧化硅质膜的制造方法，所述组合物即使在较低温度的烧成条件下也能稳定地提供膜质良好的二氧化硅质膜。本发明涉及的组合物包含(A)聚硅氮烷、和(B)以下的式(B)表示的含有咪唑基的化合物。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107709464A
公开(公告)日：2018-02-16
申请号：CN201680035786.8
申请日：2016-07-08
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C08L83/04 , C08K5/101 , C08L83/16 , C09D7/61 , C09D183/04 , C09D183/16
CPC classification number: C08L83/04 , C07C69/14 , C08G77/60 , C08J5/18 , C08J2383/04 , C08J2383/16 , C08K5/101 , C08L83/16 , C09D7/40 , C09D183/04 , C09D183/16
Abstract: 本发明提供能够形成裂纹的产生被抑制的二氧化硅系被膜的含硅树脂组合物、使用该含硅树脂组合物的二氧化硅系被膜的形成方法、和使用该含硅树脂组合物而形成的无裂纹的二氧化硅系被膜。含硅树脂组合物包含(A)含硅树脂和(S)溶剂，其中，使用选自硅氧烷树脂及聚硅烷中的一种以上作为(A)含硅树脂，并且使(S)溶剂含有特定结构的乙酸环烷基酯。作为乙酸环烷基酯，优选使用乙酸环己酯。
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公开(公告)号：CN103076716B
公开(公告)日：2017-10-17
申请号：CN201210369397.2
申请日：2012-09-27
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明提供能够抑制使不饱和羧酸(a1)与含环氧基的不饱和化合物(a2)进行聚合而成的共聚物(A1)的分子量的增大的树脂组合物、含有该树脂组合物的感光性树脂组合物、由该感光性树脂组合物形成的衬垫、以及具备该衬垫的显示装置。在包含至少使不饱和羧酸(a1)和含环氧基的不饱和化合物(a2)进行聚合而成的共聚物(A1)的碱可溶性树脂(A)、含有丙二醇单甲基醚乙酸酯的溶剂(S)的树脂组合物中，配合下述式(1)评价的化合物。
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公开(公告)号：CN103797418B
公开(公告)日：2017-06-13
申请号：CN201280040593.3
申请日：2012-06-15
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: G03F7/027 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C09B23/143 , G02B5/223 , G03F7/0002 , G03F7/0007 , G03F7/032 , G03F7/033 , G03F7/035 , G03F7/038 , G03F7/0388 , G03F7/085 , G03F7/105
Abstract: 本发明提供能够以低曝光量形成密合性优异的图案的负型感光性树脂组合物、使用该负型感光性树脂组合物的图案形成方法、使用该负型感光性树脂组合物而形成的固化膜、绝缘膜及滤色器、以及具备该固化膜、绝缘膜或滤色器的显示装置。本发明的负型感光性树脂组合物含有下述式（1）所示的化合物。式中，R1和R2分别独立地表示氢原子或有机基团，R1和R2中的至少一方表示有机基团。对于R1和R2，它们可以键合而形成环状结构，也可以包含杂原子的键。R3表示单键或有机基团。R4～R9分别独立地表示氢原子、有机基团等，但是，R6和R7不为羟基。R10表示氢原子或有机基团。
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公开(公告)号：CN106687485A
公开(公告)日：2017-05-17
申请号：CN201580051177.7
申请日：2015-09-25
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明提供使用新型的含乙烯基化合物的透明体的制造方法及利用该制造方法得到的透明体。本发明的透明体的制造方法包括对下述通式(1)所示的含乙烯基化合物以上述化合物的熔点以上的温度进行加热的步骤。式中，W1及W2为下述通式(2)(式中，环Z为芳香族烃环，X为单键或－S－所示的基团，R1为单键或碳数1～4的亚烷基，R2为1价烃基等特定的取代基，m为0以上的整数。)所示的基团、下述通式(4)所示的基团(式中，环Z、X、R1、R2及m如上述所示。)、羟基或(甲基)丙烯酰氧基，环Y1及环Y2为芳香族烃环，R为单键或特定的二价基团，R3a及R3b为氰基、卤素原子或1价烃基，n1及n2为0～4的整数。
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公开(公告)号：CN106256872A
公开(公告)日：2016-12-28
申请号：CN201610431454.3
申请日：2016-06-16
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C09K13/00 , H01L21/308 , G02F1/1362
Abstract: 本发明涉及蚀刻组合物及传导膜的制造方法。本发明的课题在于提供可抑制基板表面的铜等的腐蚀的蚀刻组合物、及使用该蚀刻组合物的传导膜的制造方法。本发明的蚀刻组合物含有氧化剂、水、及下述通式(1a)表示的腐蚀抑制剂。式(1a)中，R各自独立地表示氢原子或1价的有机基团，R2表示可以具有取代基的芳香族基，R4各自独立地表示卤素原子、羟基、巯基、硫醚基、甲硅烷基、硅烷醇基、硝基、亚硝基、磺酸盐/酯基、膦基、氧膦基、膦酸盐/酯基、或有机基团，n表示0～3的整数。上述R可以与另一个R或R2键合而形成环状结构。
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