纳米场效应晶体管的总剂量辐射试验方法及装置

    公开(公告)号:CN111693838B

    公开(公告)日:2022-08-02

    申请号:CN202010405988.5

    申请日:2020-05-14

    Abstract: 本发明涉及一种纳米场效应晶体管的总剂量辐射试验方法和装置,该试验方法包括如下过程:提供具有统计学意义数量的场效应晶体管器件,进行第一电参数测试,获取其第一阈值电压;对场效应晶体管进行若干次辐射处理至达到预设的总辐射剂量,在每次辐射处理后均进行第二电参数测试;对辐射处理至总辐射剂量后的场效应晶体管进行偏置处理,然后进行第三电参数测试,获得第三阈值电压;根据数据处理所得的缺陷分布值判断所述场效应晶体管器件是否符合产品要求。该试验方法提供了一种针对纳米场效应晶体管的分析方法,其有效解决了纳米场效应晶体管的量子效应及涨落效应导致的波动幅度大,传统技术无法准确分析的问题。

    GaN基HEMT器件潜径迹表征用测试结构及表征方法

    公开(公告)号:CN111722075A

    公开(公告)日:2020-09-29

    申请号:CN202010611079.7

    申请日:2020-06-30

    Abstract: 本发明涉及半导体技术领域,具体公开了一种GaN基HEMT器件潜径迹表征用测试结构及表征方法,结构包括底座、导电连接层及扫描探针。底座用于放置GaN基异质结构,GaN基异质结构包括沿远离底座方向依次层叠设置的GaN缓冲层、势垒层以及欧姆接触层,其中,GaN缓冲层和势垒层之间形成有二维电子气,欧姆接触层与二维电子气连通;导电连接层连接底座与欧姆接触层;扫描探针由底座引出,并连接势垒层,以在扫描探针与底座之间形成电回路,扫描探针用于沿势垒层表面扫描并在预设的偏压条件下获取势垒层中潜径迹的表征结果。通过上述测试结构能够快速准确地验证GaN基异质结构的势垒层中是否存在潜径迹,当存在潜径迹,可获取其表征结果,实现对潜径迹的有效表征。

Patent Agency Ranking