-
公开(公告)号:CN105161454B
公开(公告)日:2018-09-28
申请号:CN201510405436.3
申请日:2015-07-10
申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方光电科技有限公司
摘要: 本发明提供一种阵列基板及其制备方法、显示装置,属于显示技术领域,其可解决现有的半导体材料层曝光显影后的光刻胶与基板接触的面积小,导致光刻胶易脱落的问题。本发明的制备方法中,采用掩膜板对光刻胶进行曝光、显影,使第一区域保留第一厚度的光刻胶,第二区域保留第二厚度的光刻胶,其中第一厚度大于第二厚度,第一区域为对应薄膜晶体管的有源区的区域,且每个第一区域均至少部分与第二区域相连,使得曝光后的光刻胶与基板接触的面积大,第一区域的光刻胶不易脱落。本发明的阵列基板的制备方法适用于制备各种阵列基板。
-
公开(公告)号:CN104483795B
公开(公告)日:2017-12-08
申请号:CN201510001804.8
申请日:2015-01-04
申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方光电科技有限公司
IPC分类号: G02F1/1362 , G02F1/13
CPC分类号: G09G3/006 , G09G3/3648 , G09G2300/0426 , G09G2330/12
摘要: 本发明提供一种阵列基板及其检测方法、显示面板和显示装置,所述阵列基板包括多条数据线、设置在每条所述数据线末端的短路环以及将各短路环串联的公共导线,其中,所述阵列基板还包括连接在所述数据线的末端与相应的短路环之间的开关单元,所述开关单元用于在测试阶段将所述数据线与相应的所述短路环断开。本发明能够提高基板检测时的检出率和准确率。
-
公开(公告)号:CN104090437B
公开(公告)日:2016-08-17
申请号:CN201410298744.6
申请日:2014-06-26
申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方光电科技有限公司
IPC分类号: G02F1/1362 , G02F1/1368
CPC分类号: G09G3/006 , G02F1/1309 , G02F1/136259 , G02F2001/136254 , G02F2001/136272 , G09G2300/0426
摘要: 本发明公开了一种阵列基板、显示装置、母板及其检测方法,在至少一条信号线末端设置有与信号线对应连接的短路环,各短路环通过公共电极线串联,在阵列基板中增加了测试线和测试端子衬垫,测试端子衬垫通过测试线与公共电极线连接,用于在对信号线进行测试时,对与测试线连接的公共电极线加载负电压,以避免与公共电极线连接的各短路环导通后使已经断开的信号线发生信号倒灌现象,保证在进行检测时检出已断开的信号线,从而提高AT检出率和准确性,进一步提高通过化学气相沉积设备对断线处进行相应维修的维修率,从而提高产品良率。
-
公开(公告)号:CN105161454A
公开(公告)日:2015-12-16
申请号:CN201510405436.3
申请日:2015-07-10
申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方光电科技有限公司
CPC分类号: H01L27/1288 , H01L21/31138 , H01L27/1222 , H01L29/6675 , H01L29/66765 , H01L27/1214
摘要: 本发明提供一种阵列基板及其制备方法、显示装置,属于显示技术领域,其可解决现有的半导体材料层曝光显影后的光刻胶与基板接触的面积小,导致光刻胶易脱落的问题。本发明的制备方法中,采用掩膜板对光刻胶进行曝光、显影,使第一区域保留第一厚度的光刻胶,第二区域保留第二厚度的光刻胶,其中第一厚度大于第二厚度,第一区域为对应薄膜晶体管的有源区的区域,且每个第一区域均至少部分与第二区域相连,使得曝光后的光刻胶与基板接触的面积大,第一区域的光刻胶不易脱落。本发明的阵列基板的制备方法适用于制备各种阵列基板。
-
公开(公告)号:CN105093751A
公开(公告)日:2015-11-25
申请号:CN201510506313.9
申请日:2015-08-18
申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方光电科技有限公司
IPC分类号: G02F1/1362
CPC分类号: H01L27/1244 , G02F1/136204 , G02F1/136286 , G02F2001/133388 , H01L27/0288 , H01L27/1296 , H01L29/1041 , H01L29/66765 , H01L29/78669 , G02F2001/136295
摘要: 预防ESD的GOA布局设计,本发明涉及一种阵列基板,包括显示区和驱动电路区,所述驱动电路区包括GOA单元,所述GOA单元包括基板、栅电极层、绝缘层、有源层和源漏电极层,并且所述驱动电路区还包括连接到所述栅电极层的栅极引线以及位于与所述源漏电极层同一层的源漏层引线,其中在所述栅极引线和所述源漏层引线中相互交叉的部分之间仅形成有所述绝缘层。本发明还涉及一种阵列基板的制造方法以及一种包括该阵列基板的显示装置。
-
公开(公告)号:CN105093751B
公开(公告)日:2018-09-11
申请号:CN201510506313.9
申请日:2015-08-18
申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方光电科技有限公司
IPC分类号: G02F1/1362
摘要: 预防ESD的GOA布局设计,本发明涉及一种阵列基板,包括显示区和驱动电路区,所述驱动电路区包括GOA单元,所述GOA单元包括基板、栅电极层、绝缘层、有源层和源漏电极层,并且所述驱动电路区还包括连接到所述栅电极层的栅极引线以及位于与所述源漏电极层同一层的源漏层引线,其中在所述栅极引线和所述源漏层引线中相互交叉的部分之间仅形成有所述绝缘层。本发明还涉及一种阵列基板的制造方法以及一种包括该阵列基板的显示装置。
-
公开(公告)号:CN104749849B
公开(公告)日:2018-06-12
申请号:CN201510201759.0
申请日:2015-04-24
申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方光电科技有限公司
IPC分类号: G02F1/1362 , G02F1/1368 , H01L23/50 , H01L27/12
CPC分类号: G02F1/136286 , G02F1/134309 , G02F1/134336 , G02F1/13439 , G02F1/1368 , G02F2201/121 , G02F2201/123
摘要: 本发明公开了一种阵列基板、显示面板及显示装置,该阵列基板包括:栅极、栅线、数据线、像素电极和公共电极线;其中,公共电极线与栅线延伸方向相同,像素电极位于相邻的栅线和相邻的数据线定义的区域;栅线沿其延伸方向贯穿于与栅线位于同一行的栅极,像素电极靠近栅线的一端与栅线之间具有间隙,这样栅线可以沿着靠近像素电极的方向移动,进而栅线可以水平穿过与栅线位于同一行的栅极,使得栅极延伸到像素区域的面积减小,随之栅极延伸到像素区域的边缘的周长减小,在阵列基板的制作工艺中,有源层成膜后的清洗过程中,有源层金属在栅极边缘处的残留可以减少,从而有效降低阵列基板制作工艺中有源层金属的残留,可以提高阵列基板的产品良率。
-
公开(公告)号:CN105140241B
公开(公告)日:2018-02-02
申请号:CN201510599628.2
申请日:2015-09-18
申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方光电科技有限公司
摘要: 本发明公开了一种阵列基板及其制造方法、显示装置,属于显示技术领域。该阵列基板包括:衬底基板;衬底基板上形成有包含至少一个凸起的铺垫层;形成有铺垫层的衬底基板上形成有数据线,数据线在铺垫层的正投影与凸起存在重叠区域。本发明解决了数据线的功能性不良,阵列基板的功能性不良的问题,实现了消除数据线的功能性不良,以及阵列基板的功能性不良的效果,本发明用于阵列基板的制造。
-
公开(公告)号:CN107274822A
公开(公告)日:2017-10-20
申请号:CN201710536675.1
申请日:2017-07-04
申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方光电科技有限公司
IPC分类号: G09G3/20
摘要: 一种扫描驱动电路及驱动方法、阵列基板和显示装置。该扫描驱动电路包括扫描信号发生电路、多条扫描线以及多个切换电路。所述扫描信号发生电路包括多个输出端,以分别输出扫描信号;所述多条扫描线分别对应于所述扫描信号发生电路的多个输出端且划分为多个扫描线组,每个扫描线组包括至少两条扫描线;所述多个切换电路分别对应于所述多个扫描线组,且分别设置在所述多个扫描线组与所述多个输出端之间;每个切换电路配置为可被控制以将与之对应的一个扫描线组中的至少两条扫描线彼此短接以电连接到同一个输出端,或者彼此分离以分别电连接到不同的输出端。该扫描驱动电路可以改变显示分辨率,从而降低功耗。
-
公开(公告)号:CN106876387A
公开(公告)日:2017-06-20
申请号:CN201710086972.0
申请日:2017-02-17
申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方光电科技有限公司
摘要: 本发明公开了一种阵列基板及其制造方法,属于半导体技术领域。该制造方法包括提供一衬底基板;在衬底基板上制作栅极金属层,栅极金属层包括间隔设置的栅线和公共电极信号线;在栅极金属层上形成栅极绝缘层、有源层、源漏极层、钝化层和保护图形;在钝化层和栅极绝缘层上开设用于连接公共电极信号线的过孔。通过在栅线上方形成保护图形,使得在刻蚀过程中,需要刻透钝化层、保护图形和栅极绝缘层才会使栅线露出,而公共电极信号线上方没有设置保护图形,在刻蚀过程中,只需刻透钝化层和栅极绝缘层就会将公共电极信号线露出,因此在形成过孔的过程中可以保证在公共电极信号线露出时,栅线不露出,从而避免栅线与公共电极信号线出现短接。
-
-
-
-
-
-
-
-
-