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公开(公告)号：CN112341337A
公开(公告)日：2021-02-09
申请号：CN202011129934.7
申请日：2020-10-21
申请人： 宁波南大光电材料有限公司
IPC分类号： C07C69/675 , C07C67/31 , C08F220/18 , C08F220/28 , G03F7/004
摘要： 本发明提供了一种双酯结构单体及其制备方法和ArF光刻胶配方的应用。所述双酯结构单体的制备方法包括如下步骤有：将乙醇酸酯类溶解于反应溶剂中，配制成乙醇酸酯类溶液；在保护气氛中，将所述乙醇酸酯类溶液与三乙胺混合处理后，进行冷却处理，形成混合溶液；保持保护气氛不变，将所述甲基丙烯酰氯加入至所述混合溶液中进行酯化反应，生成双酯结构单体。所述双酯结构单体制备方法生成双酯结构单体具有双酯长侧链和小体积、高酸敏度的基团；赋予所述双酯结构单体合成的树脂具有较好的附着力和成膜性能、去保护反应效率和可塑性，其硬度和脆性得到了改善。而且制得的双酯酸保护结构单体具有较高的产率，副产物低，易分离纯化。
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公开(公告)号：CN111302959A
公开(公告)日：2020-06-19
申请号：CN202010128579.5
申请日：2020-02-28
申请人： 宁波南大光电材料有限公司
IPC分类号： C07C219/06 , C07C213/08 , C08F120/34 , G03F7/039 , G03F7/004
摘要： 本发明属于高分子聚合物技术领域，提供了一种带酯键的酸扩散抑制剂，其是以(甲基)丙烯酸酯为结构单元，在其中引入含酯键的碱性基团形成的聚合物树脂，避免了光刻胶中高分子的树脂化合物和小分子的酸抑制剂之间的互溶性不匹配，导致成膜能力差，出现光刻胶膜脆裂、剥落等的问题，可以控制非曝光区的光酸扩散；同时能更有效改善本身在光刻胶内的溶解性和分布，提高光刻胶分辨率和线宽粗糙度，改善光刻胶的成膜能力。本发明还提供所述带酯键的酸扩散抑制剂的制备方法以及其光刻胶组合物。将本发明提供的酸扩散抑制剂应用于光刻胶组合物时，其具有分布固定、酸扩散抑制能力高并且与酸活性树脂性质匹配、成膜能力好的特点。
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公开(公告)号：CN110673245A
公开(公告)日：2020-01-10
申请号：CN201910859698.5
申请日：2019-09-11
申请人： 宁波南大光电材料有限公司
IPC分类号： G02B5/18
摘要： 本发明适用于光学全息成像技术领域，提供了一种斜齿图形光栅板的制作方法及光栅板，其中，方法包括：对衬底进行直角刻蚀形成凹槽；对所述凹槽第一侧进行斜角刻蚀形成斜角；对所述凹槽第二侧进行倒斜角刻蚀形成倒斜角。本发明通过对所述光掩膜板进行多次偏离设置，对所述衬底分别进行直角刻蚀、斜角刻蚀及倒斜角刻蚀，可以得到具有斜齿图形的非对称凹槽的衬底，能够增强光学全息成像的效果，提高生产效率，降低生产成本。
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公开(公告)号：CN110658575A
公开(公告)日：2020-01-07
申请号：CN201910869991.X
申请日：2019-09-16
申请人： 宁波南大光电材料有限公司
IPC分类号： G02B5/18
摘要： 本发明适用于光学全息成像技术领域，提供了一种高深宽比结构斜齿光栅板的制作方法及光栅板，其中，方法包括：对衬底进行直角刻蚀形成凹槽；对所述凹槽的一侧进行斜角刻蚀形成第一斜角；在形成所述第一斜角的衬底上设置第一介质膜并进行晶圆键合形成倒斜角；对形成所述倒斜角的衬底进行斜角刻蚀形成第二斜角，得到斜齿光栅板；在所述非对称斜齿光栅板上设置第二介质膜，进行键合及刻蚀形成高深宽比结构斜齿光栅板。本发明能够形成高深宽比结构斜齿光栅板，有利于增强光学全息成像的效果，且通过投影式光刻方式结合晶圆键合制作所述高深宽比结构斜齿光栅板，可以加快制作速度，提高生产效率。
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公开(公告)号：CN110658574A
公开(公告)日：2020-01-07
申请号：CN201910859699.X
申请日：2019-09-11
申请人： 宁波南大光电材料有限公司
IPC分类号： G02B5/18
摘要： 本发明适用于光学全息成像技术领域，提供了一种斜齿图形光栅板的制作方法及光栅板，其中，方法包括：对衬底进行直角刻蚀形成凹槽；对所述凹槽的一侧进行斜角刻蚀形成第一斜角；在形成所述第一斜角的衬底上设置介质膜并进行刻蚀，形成凸起；对所述凸起的一侧进行斜角刻蚀形成第二斜角。本发明能够大大提高斜齿图形光栅板的生产效率，降低生产成本。
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公开(公告)号：CN110560424A
公开(公告)日：2019-12-13
申请号：CN201910879546.1
申请日：2019-09-18
申请人： 宁波南大光电材料有限公司
摘要： 本发明涉及机械设备领域，具体涉及到一种用于光刻设备的非接触式超声清洗装置。该清洗装置包括清洗装置、支架、导轨和气浮装置；所述清洗装置中央设置有清洗液循环装置；所述清洗液循环装置上设置有中心位置的出水口和设置在外围的吸水口；所述出水口周围设置有超声发生器；所述清洗装置边缘设置有所述气浮装置；所述导轨设置在所述支架上；所述清洗装置通过可移动挂片与所述导轨连接。
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公开(公告)号：CN117645810A
公开(公告)日：2024-03-05
申请号：CN202311611695.2
申请日：2023-11-29
申请人： 宁波南大光电材料有限公司
IPC分类号： C09D5/00 , C09D133/12 , C09D7/65 , C09D7/63
摘要： 本申请提供了一种抗反射涂层及其制备方法，抗反射涂层包括BARC主树脂、交联剂、热敏酸以及溶剂，热敏酸与所述BARC主树脂的质量比大于0且小于1，溶剂与BARC主树脂的质量比大于0且小于100，交联剂与BARC主树脂的质量比大于0且小于1，交联剂的含氧数量决定抗反射层的刻蚀速率。本申请只需通过调整抗反射涂层中交联剂的含氧数量，进而无需在合成BARC主树脂的过程中添加含氧官能团，便可以实现抗反射涂层的刻蚀速率的稳定调节，提高了抗反射涂层的生产效率，降低了抗反射涂层的生产成本。
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公开(公告)号：CN117075427A
公开(公告)日：2023-11-17
申请号：CN202310996608.3
申请日：2023-08-08
申请人： 宁波南大光电材料有限公司
IPC分类号： G03F7/004 , C07C381/12 , C07D333/46 , C07C309/17 , C07C309/06
摘要： 本发明涉及高分子聚合物技术领域，尤其涉及IPC C07C229领域，更具体的，涉及一种低吸光度的光敏剂及其在光刻胶组合物中的应用。所述低吸光度的光敏剂结构的通式为I或II，所述每种结构中均包括阳离子部分和阴离子部分：#imgabs0#其中，R1、R2、R3取代基中包含芳香基团或烷基基团，Rx包括碳原子数量在5‑20的单环、多环或立体笼状结构的烷基取代基中的一种，Rf包括三氟甲基、全氟丁基、全氟乙基、全氟丙基中的一种。使用特定的光敏剂，减少光刻胶配方的吸光度，可以改善光刻胶的底部站脚和形貌不佳的问题。
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公开(公告)号：CN114395068B
公开(公告)日：2023-11-03
申请号：CN202111622198.3
申请日：2021-12-28
申请人： 宁波南大光电材料有限公司
IPC分类号： C08F212/14 , C08F212/08 , C08F220/20 , G03F7/004
摘要： 本发明适用于高分子技术领域，提供一种窄分布的193 nm深紫外光刻胶用BARC树脂的制备方法，包括：将BARC树脂单体、羧基化富勒烯、引发剂置于溶剂中溶解，得到单体溶液，高温加热，发生自由基聚合反应，得到反应液并冷却，利用不同极性的混合溶剂对冷却反应液进行沉淀处理、分离、干燥，得到光刻胶用BARC树脂。本发明中羧基化富勒烯的羧基可以与甲基丙烯酸羟丙酯、对羟基苯乙烯的羟基反应，减少一些链转移显影；富勒烯的空心球网状结构可以降低光反射；利用不同极性的混合溶剂处理沉淀，可以改变BARC树脂的分子量和分子量分布，从而制得窄分布的193 nm深紫外光刻胶用BARC树脂。
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公开(公告)号：CN114315580B
公开(公告)日：2023-09-26
申请号：CN202111630286.8
申请日：2021-12-28
申请人： 宁波南大光电材料有限公司
IPC分类号： C07C67/48 , C07C67/58 , C07C67/52 , C07C67/54 , C07C69/653
摘要： 本发明适用于光刻胶技术领域，提供了一种去除2,2,3,3‑四氟丙基甲基丙烯酸酯中有机盐和金属杂质的方法，包括以下步骤：(1)将2,2,3,3‑四氟丙基甲基丙烯酸酯粗品加入反应容器中，加入阻聚剂；(2)温度控制在50‑100℃，真空度控制在200‑2000Pa，根据不同温度出料，将低沸杂质和2,2,3,3‑四氟丙基甲基丙烯酸酯分不同馏分进行接收；(3)将2,2,3,3‑四氟丙基甲基丙烯酸酯馏分通过颗粒过滤器进行过滤；(4)使用纯水对2,2,3,3‑四氟丙基甲基丙烯酸酯进行洗涤；(5)洗涤完成后，将水相导出，重复多次。本发明的方法得到的2,2,3,3‑四氟丙基甲基丙烯酸酯产品中有机盐含量大幅度降低，同时金属杂质含量单金杂可降低至1ppb以下。
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