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    导电膜及其制备方法
    22.
    发明公开
    导电膜及其制备方法 无效

    公开(公告)号：CN102290129A

    公开(公告)日：2011-12-21

    申请号：CN201110169259.5

    申请日：2011-06-17

    Applicant: 富士胶片株式会社

    Inventor： 一木晃

    IPC: H01B5/14 ,  H01B13/00 ,  G06F3/041 ,  G03F7/00

    CPC classification number: G06F3/044 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/06 ,  G03F7/0957 ,  G03F7/2014 ,  G06F2203/04103 ,  G06F2203/04112

    Abstract: 本发明公开了导电膜(100)，其具有透明支持体(102)、设置在透明支持体(102)的一个主表面上的第一导电银图像(104a)和设置在透明支持体(102)的另一主表面上的第二导电银图像(104b)。通过以下步骤得到第一导电银图像和第二导电银图像(104a、104b)：在透明支持体(102)的各表面上形成至少一层卤化银乳剂层，然后将所述卤化银乳剂层曝光并显影。第一银图像(104a)和第二银图像(104b)各在需要透明的区域含有网状结构。所述网状结构包含线宽为10μm或更小的细线，并形成薄片电阻为50ohm/sq或更小的导电层。

    导电性基板的制造方法
    24.
    发明公开
    导电性基板的制造方法 审中-实审

    公开(公告)号：CN119096705A

    公开(公告)日：2024-12-06

    申请号：CN202380035219.2

    申请日：2023-04-20

    Applicant: 富士胶片株式会社

    Inventor： 一木晃

    IPC: H05K3/18 ,  G03C1/04 ,  G03C1/047 ,  G03F7/40 ,  H05K3/24

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种导电性基板的制造方法，其能够制造交点增粗得到抑制并且具有细线宽且导电性优异的导电性细线的导电性基板。本发明的导电性基板的制造方法包括：通过照片制作方法在基材的一个表面侧形成网格状的基底银图案的工序；在上述基材的形成有上述基底银图案的表面侧配置抗蚀剂膜的工序；从上述基材的未形成上述基底银图案的表面侧照射光，对上述抗蚀剂膜进行曝光的工序；对经曝光的上述抗蚀剂膜进行显影，形成抗蚀剂图案的工序；及将上述基底银图案作为种子层进行镀覆处理，在上述基底银图案上形成金属图案而获得导电性细线的工序。

    导电性基板的制造方法及导电性基板
    25.
    发明公开
    导电性基板的制造方法及导电性基板 审中-实审

    公开(公告)号：CN114365588A

    公开(公告)日：2022-04-15

    申请号：CN202080061129.7

    申请日：2020-08-18

    Applicant: 富士胶片株式会社

    Inventor： 温井克行 ,  片桐健介 ,  一木晃

    IPC: H05K3/10 ,  H05K3/02 ,  H05K1/02 ,  G06F3/044

    Abstract: 提供具有网格图案的导电性基板的制造方法及导电性基板，该网格图案的开口率高，表面电阻值低且表面电阻值的偏差小，网案内的开口部的透射率高。导电性基板的制造方法包括：在支撑体上形成用于形成由导电性细线构成的网格图案的图案前体的工序；及对图案前体施加多次镀覆反应液，并实施镀覆处理的工序。在实施镀覆处理的工序中，对图案前体施加镀覆反应液时，每一次图案前体与镀覆反应液的接触时间小于60秒。

    导电片和触控面板
    28.
    发明公开
    导电片和触控面板 有权

    公开(公告)号：CN103384870A

    公开(公告)日：2013-11-06

    申请号：CN201280009700.6

    申请日：2012-02-17

    Applicant: 富士胶片株式会社

    Inventor： 一木晃

    IPC: G06F3/044 ,  G06F3/041

    CPC classification number: H05K1/0274 ,  G06F3/044 ,  G06F2203/04112

    Abstract: 一种导电片和触控面板，其中所述导电片（54）包括被布置在输入操作侧上的第一导电部（14A）以及被布置在显示面板侧上的第二导电部（14B）；所述第一导电部（14A）和所述第二导电部（14B）被布置成彼此面对；所述第一导电部（14A）具有多个第一导电图案（64A），所述第一导电图案（64A）在一个方向上排列并且多个多个第一电极（68A）分别连接到所述第一导电图案（64A）；所述第二导电部（14B）具有多个第二导电图案（64B），所述第二导电图案（64B）在垂直于所述第一导电图案（64A）的所述一个方向的方向上排列并且多个第二电极（68B）分别连接到所述第二导电图案（64B）；并且所述导电片具有虚设电极（66B），所述虚设电极(66B)包括在所述第一导电部（14A）和/或所述第二导电部（14B）中并且布置在所述第一电极（68A）和所述第二电极（68B）之间；以及其它虚设电极，所述其它虚设电极包括在第一导电部（14A）中并且布置在与所述第二电极（68B）对应的位置上。

    触摸屏用导电膜及其制造方法
    29.
    发明授权
    触摸屏用导电膜及其制造方法 失效

    公开(公告)号：CN101728010B

    公开(公告)日：2013-03-27

    申请号：CN200910208116.3

    申请日：2009-10-28

    Applicant: 富士胶片株式会社

    Inventor： 德永司 ,  一木晃

    IPC: H01B5/14 ,  H01B13/00 ,  H01B1/00 ,  G06F3/041 ,  G03C1/005

    Abstract: 本发明提供一种具有作为触摸屏用导电膜的良好的导电性、波纹充分减少、触摸屏特性优异的触摸屏用导电膜。本发明是具有含有银的导电层(14)的触摸屏用导电膜(10)，其中，导电层(14)是通过将银盐乳剂层(16)曝光显影而形成的层，银盐乳剂层(16)的涂布银量为1.1～2.5g/m2，导电层(14)形成间距为600μm以上的网格图案(18)，且导电层(14)的表面电阻为1000～2500Ω/sq.。

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