公开(公告)号：CN111742402A

公开(公告)日：2020-10-02

申请号：CN201980014108.7

申请日：2019-01-29

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 约瑟夫·尤多夫斯基 ,  维斯韦斯瓦伦·西瓦拉玛克里施南 ,  卢多维克·戈代 ,  罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森

IPC: H01L21/683

Abstract: 此处所述的实施方式涉及具有多个孔穴形成于其中的基板吸盘设备。在吸盘设备的主体中形成所述孔穴。在一个实施方式中，在主体的吸盘表面中形成第一多个通口且延伸至主体的底部表面。在另一实施方式中，在多个孔穴的底部表面中形成第二多个通口且延伸穿过主体至主体的底部表面。

公开(公告)号：CN101978474B

公开(公告)日：2013-11-13

申请号：CN200980109820.1

申请日：2009-01-26

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 卡希克·贾纳基拉曼 ,  托马斯·诺瓦克 ,  胡安·卡洛斯·罗奇-阿尔维斯 ,  马克·A·福多尔 ,  戴尔·R·杜波依斯 ,  阿米特·班塞尔 ,  穆罕默德·阿尤布 ,  埃勒·Y·朱科 ,  维斯韦斯瓦伦·西瓦拉玛克里施南 ,  希姆·M·萨德

IPC: H01L21/205 ,  H01L21/26 ,  H01L21/30 ,  H05H1/34

CPC classification number: C23C16/45565 ,  C23C16/4412 ,  C23C16/458 ,  C23C16/4586 ,  C23C16/503 ,  C23C16/505 ,  C23C16/5096 ,  H01J37/32091 ,  H01J37/32165 ,  H01J37/32532 ,  H01J37/32541

Abstract: 本发明提供一种设备及方法，用于控制等离子体腔室中的等离子体放电的强度及分布。在一实施例中，成形电极嵌入基板支撑件中，以在所述腔室内提供具有径向及轴向分量的电场。在另一实施例中，用绝缘体将喷头组件的面板电极划分为多个区域，而能将不同电压施加至不同区域。此外，一或更多个电极可嵌入所述腔室侧壁中。

公开(公告)号：CN101981659B

公开(公告)日：2013-09-11

申请号：CN200980111063.1

申请日：2009-03-02

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 迪内士·帕德希 ,  哈阳成 ,  苏达·拉西 ,  德里克·R·维迪 ,  程秋 ,  朴贤秀 ,  加内什·巴拉萨布拉曼尼恩 ,  卡希克·贾纳基拉曼 ,  马丁·杰·西蒙斯 ,  维斯韦斯瓦伦·西瓦拉玛克里施南 ,  金柏涵 ,  伊沙姆·迈’萨德

IPC: H01L21/205

CPC classification number: H01L21/02115 ,  C23C16/045 ,  C23C16/26 ,  C23C16/5096 ,  C23C16/56 ,  H01L21/02274 ,  H01L21/31144 ,  H01L21/3146

Abstract: 一种在基板上沉积非晶碳层的方法，包括下列步骤：将基板放置在处理室中；将烃源导入处理室；将重惰性气体导入处理室；以及在处理室中产生等离子体。重惰性气体选自由氩气、氪气、氙气、及其混合物所组成的群组，并且惰性气体的摩尔流速大于烃源的摩尔流速。该方法可包括沉积后终止步骤，其中烃源及惰性气体的流动停止，并且将等离子体维持在处理室中一段时间，以自处理室中移除粒子。