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公开(公告)号：CN112020770B
公开(公告)日：2024-12-27
申请号：CN201980028149.1
申请日：2019-02-21
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/768 , H01L21/027 , H01L21/52 , H01L33/00 , H01L27/146 , G03F7/00
Abstract: 此处系统及方法相关于使用硅晶圆、玻璃、或如基板的装置来形成光学装置，所述光学装置包含堆叠的光学元件层。可在暂时或永久基板上制造此处所讨论的光学元件。在一些范例中，制造光学装置以包含透明基板或装置，所述装置包含电荷耦合装置(CCD)、或互补式金属氧化物半导体(CMOS)图像传感器、发光二极管(LED)、微LED(μLED)显示器、有机发光二极管(OLED)或垂直腔表面发光激光器(VCSEL)。光学元件可在光学元件层之间形成夹层，夹层的厚度范围可为1nm至3mm。
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公开(公告)号：CN112368639B
公开(公告)日：2024-07-09
申请号：CN201980040608.8
申请日：2019-06-27
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 卢多维克·戈代 , 韦恩·麦克米兰 , 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森
IPC: G03F7/00 , G03F7/20 , G03F1/80 , H01L21/033 , H01L21/02 , H01L21/306
Abstract: 本文讨论的系统与方法用于衍射光栅(诸如在波导组合器中使用的那些光栅)的制造。本文讨论的波导组合器是使用高折射率与低折射率材料的纳米压印光刻(NIL)结合高折射率与低折射率材料的定向蚀刻来制造的。波导组合器可额外地或替代地通过定向蚀刻透明基板来形成。包括本文讨论的衍射光栅的波导组合器可直接地形成在永久透明基板上。在其他示例中，衍射光栅可形成在临时基板上并转移至永久、透明基板。
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公开(公告)号：CN113196442B
公开(公告)日：2024-05-24
申请号：CN201980083747.9
申请日：2019-12-17
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 卢多维克·戈代 , 约瑟夫·C·奥尔森 , 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森
IPC: H01J37/305 , H01J37/08 , H01J37/30
Abstract: 本公开内容的方面涉及用于制造波导的装置。在一个实例中，利用成角度的离子源来朝向基板投射离子以形成包括成角度的光栅的波导。在另一个实例中，利用成角度的电子束源来朝向基板投射电子以形成包括成角度的光栅的波导。本公开内容的另外的方面提供了用于利用成角度的离子束源和成角度的电子束源来在波导上形成成角度的光栅的方法。
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公开(公告)号：CN116710744A
公开(公告)日：2023-09-05
申请号：CN202180081206.X
申请日：2021-11-23
Applicant: 应用材料公司
IPC: G01M11/04
Abstract: 本文中的实施方式提供一种确定光学装置调制传递函数(MTF)的方法。本文中所述方法包括从光引擎将图案的基线影像投射至检测器。该基线影像被分析以确定基线函数。该基线函数的基线快速傅里叶变换(FFT)或基线MTF被取得。该方法进一步包括从该光引擎将该图案的影像投射至一或更多光学装置。该图案从该一或更多光学装置出耦合至该检测器。该影像被分析以确定函数。对应于该影像取得函数FFT或函数MTF。通过将该基线FFT与通过分析该影像所确定的该函数FFT做比较、或是通过将该基线MTF与通过分析该影像所确定的该函数MTF做比较，来确定该一或更多光学装置的光学装置MTF。
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公开(公告)号：CN114945870A
公开(公告)日：2022-08-26
申请号：CN202080092787.2
申请日：2020-12-11
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 徐永安 , 克里斯多弗·丹尼斯·本彻 , 罗伯特·简·维瑟 , 卢多维克·戈代
Abstract: 本公开内容的实施方式关于用于在光源的传播方向上定位掩模的方法。掩模对应于待写入基板的光刻胶层中的图案。通过拼接第一掩模和第二掩模来定位掩模。第一掩模包括一组第一特征，第一特征具有在第一特征界面处从第一特征延伸的第一特征延伸部分。第二掩模包括一组第二特征，第二特征具有在第二特征界面处从第二特征延伸的第二特征延伸部分。每个第一特征延伸部分与每个对应的第二特征延伸部分拼接，以形成第一对掩模的第一拼接部分的每个拼接部分。第一对掩模的拼接部分限定了要写入光刻胶层中的图案的一部分。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114930253A
公开(公告)日：2022-08-19
申请号：CN202080090426.4
申请日：2020-12-08
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 徐永安 , 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森 , 郭津睿 , 卢多维克·戈代
Abstract: 提供了一种在基板上形成图案化特征的方法。该方法包括以下步骤：将布置在掩模布局中的多个掩模定位在基板上方。基板定位在第一平面中，且多个掩模定位在第二平面中，掩模布局中的多个掩模具有多个边缘，多个边缘各自平行于第一平面且平行或垂直于基板上的对准特征延伸，基板包括多个分区，多个分区被配置为被引导通过布置在掩模布局中的掩模的能量图案化。该方法进一步包括以下步骤：通过基板上方的掩模布局中布置的多个掩模向多个分区引导能量，以在多个分区的各者中形成多个图案化特征。
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公开(公告)号：CN114846403A
公开(公告)日：2022-08-02
申请号：CN202080088002.4
申请日：2020-12-07
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 阿弥陀·乔希 , 伊恩·马修·麦克马金 , 拉米·胡拉尼 , 骆英东 , 斯瓦帕基亚·甘纳塔皮亚潘 , 卢多维克·戈代
IPC: G03F7/004 , C08F20/10 , C08F2/48 , C08F2/44 , C08L83/04 , C08K3/22 , C08K3/04 , C08K9/10 , G03F9/00
Abstract: 本发明的多个实施方式一般涉及对于纳米压印平板印刷术(NIL)有用的压印组成物与材料和相关工艺。在一个或多个实施方式中，压印组成物含有一种或多种的纳米粒子、一个或多个表面配体、一个或多个溶剂、一个或多个添加剂、和一个或多个丙烯酸酯。
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公开(公告)号：CN114556409A
公开(公告)日：2022-05-27
申请号：CN202080071132.7
申请日：2020-09-14
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 本公开内容之实施方式包括裸片系统与比较对准向量的方法。该裸片系统包括以期望图案排列的多个裸片。能够从该裸片的边缘特征确定对准向量，诸如裸片向量。这些对准向量能够与相同系统中的其他裸片或裸片图案比较。一种比较裸片与裸片图案的方法包括：比较裸片向量和/或图案向量。对准向量之间的比较允许为下一轮的处理固定裸片图案。所提供的方法允许刚沉积的边缘特征之间的准确比较，使得能够实现准确的裸片拼接。
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公开(公告)号：CN114207482A
公开(公告)日：2022-03-18
申请号：CN202080053854.X
申请日：2020-05-19
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 提供了一种成像系统和一种制造超透镜阵列的方法。所述成像系统包括超透镜阵列，并且从对象散射的光被所述超透镜阵列分割，使得在观察者面前形成图像。所述超透镜阵列对可见光是至少部分地透明的，使得所述观察者也可看到环境。制造所述超透镜阵列的所述方法包括将多个基板粘结在一起，并且将所述多个基板切割成超透镜阵列。所述超透镜阵列可用于所述成像系统中。
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公开(公告)号：CN114051485A
公开(公告)日：2022-02-15
申请号：CN202080048619.3
申请日：2020-06-16
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 本文描述的实施方式涉及扁平光学器件和形成扁平光学器件的方法。一个实施方式包括基板，该基板具有在其上形成的第一多个支柱的第一布置。第一多个支柱的第一布置包括具有高度h和横向距离d的支柱，以及与第一多个支柱中的相邻支柱之间的距离相对应的间隙g。间隙g与高度h的深宽比在约1：1和约1:20之间。第一封装层设置在第一多个支柱的第一布置上。第一封装层的折射率为约1.0至约1.5。第一封装层、基板与第一布置的每个支柱在它们之间界定第一空间。第一空间的折射率为约1.0至约1.5。
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