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公开(公告)号:CN105814162A
公开(公告)日:2016-07-27
申请号:CN201480067318.X
申请日:2014-12-05
Applicant: 株式会社大赛璐
IPC: C09K3/00 , C09D11/033
CPC classification number: C09D11/033
Abstract: 本发明提供电子器件制造用溶剂组合物,其为糊组合物的原料,该糊组合物可以使用印刷法精度良好地涂布、可以抑制在涂布后基于烧结而产生的灰分、挥发物而成品率良好地形成电气特性优异的配线/涂膜。本发明的电子器件制造用溶剂组合物包含:溶剂和下式(1)所示的化合物(式中的环Z表示选自苯、二苯甲酮、联苯及萘中的环,R表示碳原子数6以上的脂肪族烃基。n表示3以上的整数。n个R任选相同或不同)。
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公开(公告)号:CN104093690A
公开(公告)日:2014-10-08
申请号:CN201380008325.8
申请日:2013-02-04
Applicant: 株式会社大赛璐
IPC: C07C43/13 , A61K8/34 , A61Q1/14 , C07C43/178 , C08G65/28
CPC classification number: C07C43/15 , A61K8/33 , A61K8/34 , A61K8/345 , A61K2800/10 , A61Q1/14 , A61Q19/00 , A61Q19/10 , C07C43/11 , C07C43/13 , C07C43/135 , C07C43/178 , C08G65/34 , C08G65/48 , C08G65/2609
Abstract: 本发明提供一种作为亲水性高的双子型表面活性剂有用的新型多甘油二烷基或烯基醚及含有所述多甘油二烷基或烯基醚的化妆剂用组合物。本发明的多甘油二烷基或烯基醚由下述式(1)表示。式中,R1、R2相同或不同,为任选具有羟基的直链状或者支链状的烷基、或直链状或者支链状的烯基。n表示甘油单元数,为2以上的整数。
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公开(公告)号:CN111742262B
公开(公告)日:2024-11-26
申请号:CN201980014155.1
申请日:2019-01-30
Applicant: 株式会社大赛璐
Inventor: 坂西裕一
IPC: G03F7/11 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供可提高基板表面相对于光致抗蚀剂的润湿性的基板亲水化处理剂。本发明的基板亲水化处理剂是对待通过光刻法进行图案形成的基板的表面进行亲水化的处理剂,其至少含有下述成分(A)及成分(B)。成分(A):重均分子量为100以上且小于10000的水溶性低聚物;成分(B):水。作为成分(A)中的水溶性低聚物,优选下述式(a‑1)表示的化合物。Ra1O‑(C3H6O2)n‑H(a‑1)(式中,Ra1表示氢原子、任选具有羟基的烃基、或酰基。n为2~60的整数。)
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公开(公告)号:CN109843257B
公开(公告)日:2023-05-09
申请号:CN201780063326.0
申请日:2017-10-03
Applicant: 株式会社大赛璐
Inventor: 坂西裕一
Abstract: 本发明提供一种使用感及神经酰胺溶解稳定性优异的透明的化妆品组合物。本发明的化妆品组合物包含(a)神经酰胺、(b)表面活性剂及(c)水,其中,上述(a)的含量为化妆品组合物总量的0.00001~5.0重量%,作为上述(b),聚甘油脂肪族醚的含量为化妆品组合物总量的0.1~5.0重量%,(c)的含量为化妆品组合物总量的50.0重量%以上。作为上述聚甘油脂肪族醚,优选聚甘油单脂肪族醚的含量为聚甘油脂肪族醚总量的75重量%以上、聚甘油二脂肪族醚的含量为聚甘油脂肪族醚总量的5重量%以下。
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公开(公告)号:CN110178204B
公开(公告)日:2022-11-04
申请号:CN201780083628.4
申请日:2017-12-28
Applicant: 株式会社大赛璐
Inventor: 坂西裕一
IPC: H01L21/304 , C11D1/68 , C11D1/72 , C11D3/30 , C11D3/39 , C11D7/18 , C11D7/26 , C11D7/32 , C11D17/08
Abstract: 本发明提供能够在不腐蚀金属的情况下除去附着于半导体基板的金属抛光屑等杂质、并防止上述杂质的再附着的清洗剂。本发明的半导体基板清洗剂至少含有下述成分(A)及成分(B)。成分(A):重均分子量为100以上且低于10000的水溶性低聚物;成分(B):水。作为上述水溶性低聚物,优选为选自下述式(a‑1)~(a‑3)所示的化合物中的至少一种化合物。Ra1O‑(C3H6O2)n‑H(a‑1);Ra2O‑(Ra3O)n’‑H(a‑2);(Ra4)3‑s‑N‑[(Ra5O)n"‑H]s(a‑3)。
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公开(公告)号:CN110392689B
公开(公告)日:2022-10-28
申请号:CN201880017226.9
申请日:2018-03-02
Applicant: 株式会社大赛璐 , 国立大学法人山口大学
Abstract: 本发明提供一种使流动性有机物质增稠或凝胶化为希望的粘度、或者使含有流动性有机物质的组合物均匀地稳定化的化合物。本发明的化合物是下述式(1)所示的化合物。式(1)中,R1表示碳原子数4以上的1价的脂肪族烃基,R2表示碳原子数1~12的2价的脂肪族烃基,R3表示碳原子数1~12的1价的脂肪族烃基。m表示0~10的整数,n表示1~4的整数。在n=1或2时,(4‑n)个R1任选相同或不同。在n=2~4时,n个R2、R3、m分别任选相同或不同。
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公开(公告)号:CN111511347A
公开(公告)日:2020-08-07
申请号:CN201980006667.3
申请日:2019-02-18
Applicant: 公立大学法人名古屋市立大学 , 株式会社大赛璐
Abstract: 本发明的课题在于提供在水性分散介质中均匀而稳定地分散有由蛋白石型胶体晶体形成的粒子、通过光的干涉而呈现出结构色的装饰性水性组合物及其制造方法。为了解决上述课题,本发明的装饰性水性组合物在溶解有高分子的水性分散介质中分散有蛋白石型胶体晶体的粒子,该蛋白石型胶体晶体的粒子的平均粒径为10nm以上且1000nm以下的范围且粒径的变动系数为20%以内。因此,本发明的装饰性水性组合物在水性分散介质中均匀而稳定地分散有蛋白石型胶体晶体、可通过光的干涉而呈现出结构色。因此可以适宜用于化妆水等。
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公开(公告)号:CN108303862A
公开(公告)日:2018-07-20
申请号:CN201810018876.7
申请日:2018-01-09
Applicant: 株式会社大赛璐
Inventor: 坂西裕一
IPC: G03F7/42
CPC classification number: C11D11/0047 , C11D1/008 , C11D1/72 , C11D3/2068 , C11D3/43 , C11D7/263 , G03F7/425 , G03F7/426 , H01L21/31133 , G03F7/42
Abstract: 本发明的目的在于提供一种抗蚀剂除去用组合物,其在使用光致抗蚀剂来制造在对基板实施蚀刻处理而形成元件、电路等时使用的掩模的工序中,可以有效地除去附着于基板的边缘部分、背面的光致抗蚀剂。为此,本发明的抗蚀剂除去用组合物为包含表面活性剂和溶剂的组合物,其中,作为上述表面活性剂,至少含有下述成分(A)。成分(A):以下述式(a)表示的聚甘油衍生物。RaO-(C3H5O2Ra)n-Ra(a)[式中,n表示上述重复单元的个数,为2~60的整数。Ra相同或不同,表示氢原子、碳原子数1~18的烃基、或碳原子数2~24的酰基。并且,在(n+2)个Ra中,至少2个为碳原子数1~18的烃基和/或碳原子数2~24的酰基]。
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公开(公告)号:CN106478475A
公开(公告)日:2017-03-08
申请号:CN201610771931.0
申请日:2016-08-30
Applicant: 株式会社大赛璐 , 国立大学法人山口大学
IPC: C07C323/42 , C07C233/65 , C09K3/00
Abstract: 本发明提供将流动性有机物质增稠或凝胶化至期望的粘度、或使含有流动性有机物质的组合物均一地稳定化的化合物。本发明的化合物以下述式(1)表示。式中,R1表示从苯、环己烷、丁烷、二苯甲酮、联苯或萘的结构式中去除4个氢原子而成的基团,R2表示碳原子数4以上的脂肪族烃基。n表示1~3的整数。n为2或3的情况下,2个或3个R2各自任选相同或不同。
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公开(公告)号:CN106458858A
公开(公告)日:2017-02-22
申请号:CN201580022720.0
申请日:2015-05-01
Applicant: 株式会社大赛璐 , 国立大学法人山口大学
IPC: C07C233/58 , C09K3/00 , A61K8/42
Abstract: 本发明提供将流动性有机物质增稠或凝胶化至期望的粘度、或使含有流动性有机物质的组合物均一地稳定化的化合物、包含上述化合物的增稠稳定剂、包含上述增稠稳定剂和流动性有机物质的增稠稳定化组合物、以及增稠稳定化组合物的制造方法。本发明的化合物以下述式(1)表示。式中,R1、R2互不相同,为碳原子数4以上的脂肪族烃基。n表示1~3的整数。本发明的增稠稳定剂包含上述化合物。
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