公开(公告)号：CN107142461A

公开(公告)日：2017-09-08

申请号：CN201710111543.4

申请日：2017-02-28

Applicant: 丰田自动车株式会社

Inventor： 橘和孝 ,  佐藤贵康 ,  佐藤羊治 ,  中田博道 ,  真锅和干 ,  冈村诚士 ,  山本出

IPC: C23C16/26 ,  C23C16/513 ,  C23C16/52

CPC classification number: C23C16/26 ,  C23C16/511 ,  C23C16/52 ,  H05H1/46 ,  H05H2001/4622 ,  C23C16/513

Abstract: 本发明提供一种成膜方法及等离子体化学气相沉积装置。PCVD装置具备以位于反应炉内的部位支承工件并使从高频输出装置输出的微波向工件传播的导波构件。将使通过导波构件向工件传播的微波的强度从“0”开始逐渐加大的过程中该工件的偏置电流跳跃时的从高频输出装置输出的微波的强度设为第一强度，将使微波的强度从第一强度加大的过程中偏置电流再次跳跃时的微波的强度设为第二强度。在成膜时，从高频输出装置输出比第一强度大且比第二强度小的强度的微波。