公开(公告)号：CN115210853A

公开(公告)日：2022-10-18

申请号：CN202180017254.2

申请日：2021-02-04

Applicant: DIC株式会社

Inventor： 伊部武史 ,  今田知之

IPC: H01L21/312 ,  C08F290/06 ,  C08F299/08 ,  H01B3/44

Abstract: 提供能够以高生产率制造具有高杨氏模量和低相对介电常数的进行了图案形成的层间绝缘膜的层间绝缘膜制造用涂布组合物、及层间绝缘膜的制造方法、以及具有该层间绝缘膜的半导体元件。具体而言，一种层间绝缘膜制造用涂布组合物，其含有聚合性化合物(A)和光聚合引发剂(B)，所述聚合性化合物(A)为具有2个以上聚合性基团的聚合性硅化合物，前述2个以上聚合性基团中的至少1个为*‑O‑R‑Y所示的聚合性基团Q(*表示对硅原子的键合，R表示单键、任选包含杂原子的非取代或取代的碳数1～12的亚烷基、或亚苯基，Y表示聚合性基团)。

公开(公告)号：CN109195999B

公开(公告)日：2021-04-16

申请号：CN201780029089.6

申请日：2017-04-25

Applicant: DIC株式会社

Inventor： 伊部武史 ,  矢田真

IPC: C08F2/46 ,  B29C59/02 ,  C08F299/08 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明要解决的课题在于，提供含有聚硅氧烷等含有硅原子的聚合性化合物、对基板的密合性及在微细图案模具中的脱模性优异、并且模具污染非常少的压印用固化性组合物。通过提供光压印用固化性组合物来解决上述课题，所述光压印用固化性组合物的特征在于，包含：分子中含有硅原子的聚合性化合物(A)、光聚合引发剂(B)和添加剂(C)，前述添加剂(C)为下述式(C1)或下述式(C2)[式(C1)中的R1为碳数12～30的烷基，X1为氢原子或酰基，n为0～50的整数。式(C2)中的X2及X3各自独立地表示氢原子或酰基，p、q、r各自独立地为1～50的整数。]所示的化合物。

公开(公告)号：CN105849862B

公开(公告)日：2019-07-05

申请号：CN201480071050.7

申请日：2014-12-17

Applicant: DIC株式会社

Inventor： 伊部武史 ,  矢田真

IPC: H01L21/027 ,  C08F12/34 ,  C08F257/00 ,  C08K5/00 ,  C08L25/02 ,  C08L101/02 ,  H01L21/3065

CPC classification number: C08F12/36 ,  B29C59/026 ,  B81C2201/0153 ,  C08F12/32 ,  C08F12/34 ,  C08F257/00 ,  C08K5/00 ,  C08L101/02 ,  C09D125/16 ,  G03F7/0002 ,  H01L21/31144

Abstract: 本发明提供一种干式蚀刻抗蚀剂用固化性树脂组合物，其特征在于，所述干式蚀刻抗蚀剂用固化性树脂组合物含有聚合物(A)，所述聚合物(A)在侧链具有包含连接有乙烯基的芳香族基团的特定结构，该聚合物(A)中的特定结构在聚合物(A)中占80～100重量％。还提供一种干式蚀刻用抗蚀掩模，其特征在于，其是使该干式蚀刻抗蚀剂用固化性组合物固化而成的，以及提供一种干式蚀刻用抗蚀掩模，其具有由纳米压印法得到的图案。

公开(公告)号：CN109195999A

公开(公告)日：2019-01-11

申请号：CN201780029089.6

申请日：2017-04-25

Applicant: DIC株式会社

Inventor： 伊部武史 ,  矢田真

IPC: C08F2/46 ,  B29C59/02 ,  C08F299/08 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明要解决的课题在于，提供含有聚硅氧烷等含有硅原子的聚合性化合物、对基板的密合性及在微细图案模具中的脱模性优异、并且模具污染非常少的压印用固化性组合物。通过提供光压印用固化性组合物来解决上述课题，所述光压印用固化性组合物的特征在于，包含：分子中含有硅原子的聚合性化合物(A)、光聚合引发剂(B)和添加剂(C)，前述添加剂(C)为下述式(C1)或下述式(C2)[式(C1)中的R1为碳数12～30的烷基，X1为氢原子或酰基，n为0～50的整数。式(C2)中的X2及X3各自独立地表示氢原子或酰基，p、q、r各自独立地为1～50的整数。]所示的化合物。

公开(公告)号：CN107075017A

公开(公告)日：2017-08-18

申请号：CN201580056812.0

申请日：2015-10-06

Applicant: DIC株式会社

Inventor： 伊部武史 ,  矢木直人 ,  谷本尚志 ,  矢田真

IPC: C08F30/08 ,  C07F7/18 ,  C08F290/00 ,  C08F299/08 ,  H01L21/027 ,  C08G77/20

Abstract: 本发明的课题在于提供固化后的清洗容易、耐干法蚀刻性高、能够制成精密图案的转印精度优异的抗蚀剂的固化性组合物，提供含有该固化性组合物的抗蚀膜及层叠体、以及使用该抗蚀膜的图案形成方法。本发明通过提供如下的固化性组合物，从而解决了上述课题，所述固化性组合物含有多官能聚合性单体(A)，且不挥发组分量中的硅原子的量为10wt％以上，所述多官能聚合性单体(A)具备两个以上具有聚合性基团的基团，并且具备至少一个所述式(1)所示的具有聚合性基团的基团Q。

公开(公告)号：CN103890029B

公开(公告)日：2016-05-04

申请号：CN201280051535.0

申请日：2012-10-18

Applicant: DIC株式会社

Inventor： 杉山将志 ,  浜元育惠 ,  井上直人 ,  仲泽大助 ,  伊部武史

IPC: C08F299/06 ,  B32B27/00 ,  B32B27/30 ,  C09J4/06 ,  C09J7/02 ,  C09J11/06 ,  C09J167/07 ,  C09J175/14

CPC classification number: C09J175/14 ,  B32B7/12 ,  B32B27/308 ,  B32B27/36 ,  B32B2270/00 ,  C08F299/065 ,  C08G18/4216 ,  C08G18/4238 ,  C08G18/672 ,  C08G18/755 ,  C08G18/7621 ,  C08L67/02 ,  C09J4/06 ,  C09J167/07 ,  C09J175/16 ,  Y10T428/31786

Abstract: 本发明提供即使对于未处理PET薄膜、氟系薄膜、聚碳酸酯薄膜等难以粘接的塑料薄膜、即所谓的难粘接薄膜也具有高粘接强度，且即使在湿热条件下也能够维持其粘接强度的活性能量射线固化型树脂组合物；包含该树脂组合物的粘接剂；以及使用该粘接剂而得到的层叠薄膜。所述活性能量射线固化型树脂组合物的特征在于，其含有如下必需成分：分子结构中具有聚酯结构部位和(甲基)丙烯酰基、且重均分子量(Mw)在5000～30000的范围的(甲基)丙烯酸酯化合物(A)；酸值在40～90mgKOH/g的范围的聚酯树脂(B)；以及，聚合引发剂(D)。