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公开(公告)号：CN112442373A
公开(公告)日：2021-03-05
申请号：CN202010827110.0
申请日：2020-08-17
Applicant: SK新技术株式会社 , 爱思开新材料有限公司
IPC: C09K13/06 , H01L21/306
Abstract: 本发明涉及蚀刻组合物、使用蚀刻组合物蚀刻半导体器件的绝缘膜的方法以及制备半导体器件的方法。一种蚀刻组合物，其包含：磷酸、包含至少一个硅(Si)原子的硅烷化合物以及由下式1表示的有机磷酸酯：[式1] 其中，R1至R3独立地为氢或者取代或未取代的烃基基团，并且R1至R3的至少一个为取代或未取代的烃基基团。
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公开(公告)号：CN112442372A
公开(公告)日：2021-03-05
申请号：CN202010908291.X
申请日：2020-09-02
Applicant: SK新技术株式会社 , 爱思开新材料有限公司
IPC: C09K13/04 , C09K13/06 , H01L21/311
Abstract: 蚀刻组合物，使用其蚀刻半导体器件的绝缘膜的方法以及制备半导体器件的方法。一种蚀刻组合物，其包括磷酸、包含至少一个硅(Si)原子的硅烷化合物和由以下式1表示的铵盐：[式1]其中：L1‑L3独立地为取代或未取代的亚烃基，R1‑R4独立地为氢、取代或未取代的烃基基团，以及Xn‑为n价阴离子，其中n为1‑3的整数。
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公开(公告)号：CN106252710B
公开(公告)日：2021-02-26
申请号：CN201610393214.9
申请日：2016-06-06
Applicant: SK新技术株式会社
IPC: H01M10/0525 , H01M10/0566 , H01M10/0567
Abstract: 本发明提供锂二次电池用电解质和含有其的锂二次电池。本发明的二次电池用电解质具有优异的高温稳定性、优异的低温放电容量和优异的生命周期特性。
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公开(公告)号：CN111225934A
公开(公告)日：2020-06-02
申请号：CN201880049559.X
申请日：2018-07-02
Abstract: 本发明涉及一种用于半导体和显示器的制造工艺的具有新结构的聚合物、包含该聚合物的用于半导体和显示器的制造工艺的下层膜组合物以及利用该下层膜组合物制造半导体元件的方法，更具体地，本发明的新型聚合物具有优化的蚀刻选择比和平坦化特性以及优异的耐热性，因此包含该聚合物的下层膜组合物可以在半导体多层光刻工艺中用作硬掩膜。
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公开(公告)号：CN111100641A
公开(公告)日：2020-05-05
申请号：CN201911016141.1
申请日：2019-10-24
Applicant: SK新技术株式会社 , 爱思开新材料有限公司
IPC: C09K13/06 , H01L21/311
Abstract: 本发明提供了一种蚀刻组合物、用于蚀刻半导体器件的绝缘层的方法以及用于制备半导体器件的方法，所述蚀刻组合物包括磷酸、磷酸酐、下式1表示的硅烷化合物和水：[式1] 其中，R1-R6独立地为氢、卤素、取代的或未取代的C1-C20烃基、C1-C20烷氧基、羧基、羰基、硝基、三(C1-C20-烷基)甲硅烷基、磷酰基或氰基。L为直接键或者C1-C3亚烃基，A为n价基团，n为1-4的整数。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109422848A
公开(公告)日：2019-03-05
申请号：CN201810754156.7
申请日：2018-07-11
Applicant: SK新技术株式会社
IPC: C08F220/14 , C08F212/08 , C08F220/36 , C08F212/14 , C09D133/14
Abstract: 本发明涉及促进形成定向自组装图案的用于形成中性层的无规共聚物及包含其的用于形成图案的层压体、利用其形成高品质图案的方法。
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公开(公告)号：CN105440010B
公开(公告)日：2018-04-20
申请号：CN201510593730.1
申请日：2015-09-17
Applicant: SK新技术株式会社
IPC: C07D319/12 , C07D321/08 , H01M10/0567
CPC classification number: H01M10/0567 , C07D319/12 , C07D321/08 , H01M10/052 , H01M10/0568 , H01M10/0569
Abstract: 本发明提供一种新型化合物、包含其的锂二次电池电解液以及包含本发明的锂二次电池电解液的锂二次电池，本发明的二次电池电解液的高温稳定性、低温放电容量及寿命特性非常优异。
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公开(公告)号：CN107868194B
公开(公告)日：2022-04-05
申请号：CN201710869088.4
申请日：2017-09-22
IPC: C08F293/00 , C08F220/14 , C08F212/08 , C08F212/14 , G03F7/00 , G03F7/09 , G03F7/16 , G03F7/40 , G03F7/42 , H01L21/027 , H01L21/033 , H01L21/308 , H01L21/311 , H01L21/3213
Abstract: 本发明提供了一种形成精细图案的方法，该方法通过使用具有优异蚀刻选择性的嵌段共聚物而能够最小化LER和LWR，从而形成高质量纳米图案。本发明提供了一种嵌段共聚物，其包含具有由以下化学式1表示的重复单元的第一嵌段和具有由以下化学式2表示的重复单元的第二嵌段：[化学式1][化学式2]其中R1‑R5、X1‑X5、l、n和m如权利要求1中所定义。
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公开(公告)号：CN109422849A
公开(公告)日：2019-03-05
申请号：CN201810886120.4
申请日：2018-08-06
Applicant: SK新技术株式会社
IPC: C08F220/14 , C08F212/08 , C08F220/34 , C08F212/14 , C08F8/14 , C08J3/24 , G03F7/039 , G03F7/11 , C08L33/12
Abstract: 本发明提供用于形成促进定向自组装图案形成的中性层的无规共聚物、用于形成包含所述无规共聚物的图案的层压板以及使用所述无规共聚物形成高质量图案的方法。
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公开(公告)号：CN105359325B
公开(公告)日：2018-05-18
申请号：CN201480038143.X
申请日：2014-12-19
Applicant: SK新技术株式会社
IPC: H01M10/0567 , H01M10/052
CPC classification number: H01M10/0567 , H01M10/052 , H01M10/0525 , H01M10/0568 , H01M2300/0025
Abstract: 本发明提供一种锂二次电池电解液及包含其的锂二次电池，本发明的二次电池电解液具有高温稳定性、低温放电容量及寿命特性高的优点。
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