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公开(公告)号：CN107868194B
公开(公告)日：2022-04-05
申请号：CN201710869088.4
申请日：2017-09-22
IPC: C08F293/00 , C08F220/14 , C08F212/08 , C08F212/14 , G03F7/00 , G03F7/09 , G03F7/16 , G03F7/40 , G03F7/42 , H01L21/027 , H01L21/033 , H01L21/308 , H01L21/311 , H01L21/3213
Abstract: 本发明提供了一种形成精细图案的方法，该方法通过使用具有优异蚀刻选择性的嵌段共聚物而能够最小化LER和LWR，从而形成高质量纳米图案。本发明提供了一种嵌段共聚物，其包含具有由以下化学式1表示的重复单元的第一嵌段和具有由以下化学式2表示的重复单元的第二嵌段：[化学式1][化学式2]其中R1‑R5、X1‑X5、l、n和m如权利要求1中所定义。
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公开(公告)号：CN110998446A
公开(公告)日：2020-04-10
申请号：CN201880049505.3
申请日：2018-07-04
Abstract: 本发明涉及一种底部抗反射涂层形成用聚合物和包含其的底部抗反射涂层形成用组合物。更具体地，本发明涉及一种底部抗反射涂层形成用聚合物，其能够减轻光刻胶层的基板上的曝光光和照射光的反射，所述光刻胶层在制造半导体设备的光刻工艺中涂布在基板上；以及包含所述底部抗反射涂层形成用聚合物的底部抗反射涂层形成用组合物。
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公开(公告)号：CN109422849A
公开(公告)日：2019-03-05
申请号：CN201810886120.4
申请日：2018-08-06
Applicant: SK新技术株式会社
IPC: C08F220/14 , C08F212/08 , C08F220/34 , C08F212/14 , C08F8/14 , C08J3/24 , G03F7/039 , G03F7/11 , C08L33/12
Abstract: 本发明提供用于形成促进定向自组装图案形成的中性层的无规共聚物、用于形成包含所述无规共聚物的图案的层压板以及使用所述无规共聚物形成高质量图案的方法。
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公开(公告)号：CN106467754A
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：CN201610689209.2
申请日：2016-08-19
IPC: C10G29/22
CPC classification number: C10G17/04 , B01D11/0446 , B01D11/0488 , B01D11/0492 , C10G17/02 , C10G31/08 , C10G53/06 , C10G2300/205 , C10G2300/4081 , C10G2300/80 , C10G29/22
Abstract: 本发明公开了一种从烃油中除去金属的方法，包括：提供含有烃油的原料；将所述原料与含有金属清除剂的水溶液混合，以制备第一混合物；将所述第一混合物分离成第一水溶液相和第一烃相，并排出所述分离出的第一水溶液相；将分离出的所述第一烃相与洗涤水混合，以产生第二混合物；将所述第二混合物分离成第二水溶液相和第二烃相；以及回收所述分离出的第二烃相并将所述分离出的第二水溶液相再循环。本发明的方法减少了整个工艺中水的使用并且容易且有效地从烃油中除去了金属组分。
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公开(公告)号：CN105074993A
公开(公告)日：2015-11-18
申请号：CN201380072368.2
申请日：2013-12-09
Applicant: SK新技术株式会社
IPC: H01M10/056 , H01M10/0569 , H01M10/052
CPC classification number: H01M10/0567 , H01M10/052 , H01M10/0525 , H01M10/0568 , H01M10/0569 , H01M2300/0025
Abstract: 本发明涉及一种用于高电压锂二次电池的电解液及包含其的高电压锂二次电池，更详细地，涉及一种电解液在高电压下高温放置时，由于不会被氧化/分解，因此能够抑制气体的产生，从而防止电池的膨胀，在降低电池厚度增加率的同时，还具有优异的高温存储特性，并且在低温下的放电特性也优异的用于高电压锂二次电池的电解液及包含其的高电压锂二次电池。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110998446B
公开(公告)日：2023-04-07
申请号：CN201880049505.3
申请日：2018-07-04
Abstract: 本发明涉及一种底部抗反射涂层形成用聚合物和包含其的底部抗反射涂层形成用组合物。更具体地，本发明涉及一种底部抗反射涂层形成用聚合物，其能够减轻光刻胶层的基板上的曝光光和照射光的反射，所述光刻胶层在制造半导体设备的光刻工艺中涂布在基板上；以及包含所述底部抗反射涂层形成用聚合物的底部抗反射涂层形成用组合物。
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公开(公告)号：CN109422849B
公开(公告)日：2021-07-16
申请号：CN201810886120.4
申请日：2018-08-06
Applicant: SK新技术株式会社
IPC: C08F220/14 , C08F212/08 , C08F220/34 , C08F212/14 , C08F8/14 , C08J3/24 , G03F7/039 , G03F7/11 , C08L33/12
Abstract: 本发明提供用于形成促进定向自组装图案形成的中性层的无规共聚物、用于形成包含所述无规共聚物的图案的层压板以及使用所述无规共聚物形成高质量图案的方法。
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公开(公告)号：CN105074993B
公开(公告)日：2018-01-09
申请号：CN201380072368.2
申请日：2013-12-09
Applicant: SK新技术株式会社
IPC: H01M10/056 , H01M10/0569 , H01M10/052
CPC classification number: H01M10/0567 , H01M10/052 , H01M10/0525 , H01M10/0568 , H01M10/0569 , H01M2300/0025
Abstract: 本发明涉及一种用于高电压锂二次电池的电解液及包含其的高电压锂二次电池，更详细地，涉及一种电解液在高电压下高温放置时，由于不会被氧化/分解，因此能够抑制气体的产生，从而防止电池的膨胀，在降低电池厚度增加率的同时，还具有优异的高温存储特性，并且在低温下的放电特性也优异的用于高电压锂二次电池的电解液及包含其的高电压锂二次电池。
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公开(公告)号：CN105051053A
公开(公告)日：2015-11-11
申请号：CN201480016363.2
申请日：2014-03-20
Applicant: SK新技术株式会社
CPC classification number: C08G64/34 , C07F11/00 , C07F15/00 , C07F15/065 , C08G64/0208 , C07F11/005 , C08G64/30
Abstract: 本发明提供了在使用由包括季铵盐的席夫碱型配体合成的新络合物作为催化剂制备二氧化碳/环氧化物的共聚物的过程中，使用分子量调节剂制备聚(碳酸亚烃酯)的方法。根据本发明，即使使用分子量调节剂，仍可稳定地保持催化剂的活性，由此可有效地提供具有期望水平的低分子量的聚(碳酸亚烃酯)。另外，预期因为作为本发明催化剂的新络合物相较于现有共聚催化剂结构简单，由于其经济的制备成本，该新络合物可有效地用于大规模商业过程。
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公开(公告)号：CN103328556B
公开(公告)日：2015-05-20
申请号：CN201180057132.2
申请日：2011-11-28
Applicant: SK新技术株式会社
Abstract: 本发明涉及使用二羧酸二酯衍生物作为增塑剂的树脂组合物，具体地，涉及通过将增塑剂加入到选自脂肪族或芳香族聚碳酸酯树脂、聚氨酯树脂、聚氯乙烯树脂和环氧树脂中的一种或更多种树脂中得到的树脂组合物，其具有低玻璃化转变温度(Tg)并且可易于加工并能够赋予产品柔性。所述增塑剂呈现出高增塑效率，包含所述增塑剂的树脂组合物可以表现出低玻璃化转变温度和在低温下良好的柔性，因此提高了物理性能如抗拉强度，即使在只添加少量增塑剂时也是如此。
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