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公开(公告)号：CN110277342A
公开(公告)日：2019-09-24
申请号：CN201910149338.6
申请日：2019-02-28
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683
Abstract: 本发明的目的在于提供一种静电吸盘，在设置有多孔质部的静电吸盘中，能够确保对电弧放电的抗性及流动的气体流量，同时能够提高多孔质部的机械强度(刚性)。提供一种静电吸盘，其特征为，第1多孔质部具有：疏松部分，具有多个孔；及紧密部分，具有比疏松部分的密度更高的密度，多个疏松部分分别在从基座板朝向陶瓷电介体基板的第1方向上延伸，紧密部分位于多个疏松部分的彼此之间，疏松部分具有设置在孔与孔之间的壁部，在与第1方向大致正交的第2方向上，壁部的尺寸的最小值比紧密部分的尺寸的最小值更小。
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公开(公告)号：CN118538650A
公开(公告)日：2024-08-23
申请号：CN202410172193.2
申请日：2024-02-07
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683 , H01J37/32
Abstract: 静电吸盘具备：电介体基板，形成有多个第1气孔；底盘，形成有第2气孔；及接合层，设置在电介体基板和底盘之间，由绝缘性的材料形成。在电介体基板中的接合层侧的面上，形成有多个第1气孔的端部即第1开口。在底盘中的接合层侧的面上，形成有第2气孔的端部即第2开口。第2开口通过形成在底盘中的接合层侧的面上的连通槽而与多个第1开口连通。
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公开(公告)号：CN111128838B
公开(公告)日：2024-06-28
申请号：CN201910976997.7
申请日：2019-10-15
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683
Abstract: 本发明的目的在于提供一种静电吸盘，在设置有多孔质部的静电吸盘中，能够进一步抑制电弧放电的发生。具备：陶瓷电介体基板，具有放置吸附对象物的第1主面、所述第1主面相反侧的第2主面；基座板，支撑所述陶瓷电介体基板且具有气体导入路；及第1多孔质部，设置在所述基座板与所述陶瓷电介体基板的所述第1主面之间且与所述气体导入路相对的位置，其特征为，所述第1多孔质部具有分别具有多个孔且相互离开设置的多个疏松部分，所述多个疏松部分分别在相对于从所述基座板朝向所述陶瓷电介体基板的第1方向以规定角度倾斜的方向上延伸。
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公开(公告)号：CN111128837B
公开(公告)日：2024-06-25
申请号：CN201910976863.5
申请日：2019-10-15
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683
Abstract: 本发明的目的在于提供一种静电吸盘，在设置有多孔质部的静电吸盘中，能够进一步抑制电弧放电的发生。具备：陶瓷电介体基板，具有放置吸附对象物的第1主面、第2主面；基座板，具有气体导入路；及第1多孔质部，设置在与所述气体导入路相对的位置，其特征为，所述陶瓷电介体基板具有位于所述第1主面与所述第1多孔质部之间的第1孔部，所述第1多孔质部具有：多孔部，具有多个孔；及第1致密部，比所述多孔部更致密，在向垂直于从所述基座板朝向所述陶瓷电介体基板的第1方向的平面进行投影时，构成为所述第1致密部与所述第1孔部发生重叠，所述多孔部与第1孔部并不重叠。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110277342B
公开(公告)日：2023-04-21
申请号：CN201910149338.6
申请日：2019-02-28
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683
Abstract: 本发明的目的在于提供一种静电吸盘，在设置有多孔质部的静电吸盘中，能够确保对电弧放电的抗性及流动的气体流量，同时能够提高多孔质部的机械强度(刚性)。提供一种静电吸盘，其特征为，第1多孔质部具有：疏松部分，具有多个孔；及紧密部分，具有比疏松部分的密度更高的密度，多个疏松部分分别在从基座板朝向陶瓷电介体基板的第1方向上延伸，紧密部分位于多个疏松部分的彼此之间，疏松部分具有设置在孔与孔之间的壁部，在与第1方向大致正交的第2方向上，壁部的尺寸的最小值比紧密部分的尺寸的最小值更小。
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公开(公告)号：CN115732386A
公开(公告)日：2023-03-03
申请号：CN202210997609.5
申请日：2022-08-19
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683 , H01J37/32
Abstract: 本发明的目的在于提供一种可长期维持电弧放电的抑制效果的静电吸盘以及处理装置。提供一种静电吸盘，具备：接合部，设置在基板与基座板之间；气体导入路，具有位于基板的第1孔部、位于基座板的第2孔部和位于接合部的第3孔部；锪孔部，设置在第1孔部；多孔质部，具有第3孔部侧的第1面和第1面相反侧的第2面，设置在锪孔部；及弹性体，被设置成与接合部的第3孔部侧的端部相对，多孔质部的侧面具有第1面侧的第1侧部，在第1侧部中的至少与第1面相连的区域中，设置有倾斜的第1倾斜部，第1面与接合部及弹性体发生重叠，多孔质部在第1倾斜部处与弹性体发生接触。
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公开(公告)号：CN111668151A
公开(公告)日：2020-09-15
申请号：CN202010143616.X
申请日：2020-03-04
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683 , H01L21/67 , H01J37/32
Abstract: 本发明的静电吸盘具备：陶瓷电介体基板，具有放置吸附对象物的第1主面、所述第1主面相反侧的第2主面、向所述第1主面开口的槽；基座板，支撑所述陶瓷电介体基板且具有气体导入路；及第1多孔质部，设置于所述气体导入路之间，所述陶瓷电介体基板具有多个孔，其连通所述槽与所述气体导入路，在从所述基座板朝向所述陶瓷电介体基板的第1方向上穿通所述陶瓷电介体基板，所述第1多孔质部具有：多孔区域，具有多个孔；及致密区域，比所述多孔区域更致密，所述多孔区域还具有致密部，当向垂直于所述第1方向的平面进行投影时，设置于所述陶瓷电介体基板的所述多个孔的至少1个构成为与所述致密部的至少1个发生重叠。
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公开(公告)号：CN111508884A
公开(公告)日：2020-08-07
申请号：CN201911324485.9
申请日：2019-12-20
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683 , H01L21/67 , H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种静电吸盘，具备：基座板；及陶瓷电解质基板，具有第1主面，其特征在于，所述第1主面至少包含第1区域、第2区域，所述第1主面的所述第1区域设置有多个第1槽、至少1个第1气体导入孔，所述多个第1槽包含：第1边界槽，最靠近于所述第1区域和所述第2区域之间的第1边界而设置，且沿着所述第1边界延伸；及至少1个第1区域内槽，在所述第1主面的所述第2区域中，设置有多个第2槽、至少1个第2气体导入孔，所述多个第2槽包含沿着所述第1边界延伸的第2边界槽，所述第1边界槽和所述第2边界槽之间的槽端部间距离比所述第1边界槽和邻接于所述第1边界槽的所述第1区域内槽之间的槽端部间距离更小。
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公开(公告)号：CN110277343A
公开(公告)日：2019-09-24
申请号：CN201910149763.5
申请日：2019-02-28
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683
Abstract: 本发明的目的在于提供一种静电吸盘，在设置有多孔质部的静电吸盘中，能够提高强度。提供一种静电吸盘，具备：陶瓷电介体基板，具有放置吸附对象物的第1主面、所述第1主面相反侧的第2主面、在从所述第2主面到所述第1主面的跨度上设置的穿通孔；基座板，支撑所述陶瓷电介体基板且具有连通于所述穿通孔的气体导入路；及第1多孔质部，设置于所述穿通孔，其特征为，所述第1多孔质部具有位于所述陶瓷电介体基板侧的第1区域，所述陶瓷电介体基板具有位于所述第1区域侧的第1基板区域，所述第1区域与所述第1基板区域被设置成接触，所述第1区域中的平均粒径不同于所述第1基板区域中的平均粒径。
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