公开(公告)号：CN1616522A

公开(公告)日：2005-05-18

申请号：CN200410080712.5

申请日：2004-10-08

申请人： 松下电器产业株式会社

发明人： 岸村真治 ,  远藤政孝 ,  屉子胜 ,  上田充 ,  饭森弘和 ,  福原敏明

IPC分类号： C08G75/30 ,  G03F7/04

CPC分类号： G03F7/0046 ,  C08F12/20 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

摘要： 光致抗蚀剂材料的基础树脂，由含有式1这样的通式表示的第一单元及式2这样的通式表示的第二单元的高分子化合物构成。还提供一种对波长小于等于300nm带的曝光光的透过性优良、基板密接性、显影溶解性优良的光致抗蚀剂材料。

公开(公告)号：CN1209570A

公开(公告)日：1999-03-03

申请号：CN98117484.1

申请日：1998-08-27

申请人： 日本电气株式会社

发明人： 岩佐繁之 ,  前田胜美 ,  中野嘉一郎 ,  长谷川悦雄

IPC分类号： G03F7/04

CPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/0045 ,  Y10S430/109

摘要： 一种负型光致抗蚀剂组合物,由以下成分组成:含有由化学通式(1)所示重复单元的聚合物,由含有化学通式(2)所示官能团的化合物组成的交联剂,和响应光而产酸的光－酸发生剂。化学通式(1)和(2)如下,式中的R1,R2和R8如说明书中所述。