公开(公告)号：CN104428713B

公开(公告)日：2019-06-07

申请号：CN201380036812.5

申请日：2013-06-06

Applicant: 东丽株式会社

Inventor： 藤原健典 ,  谷垣勇刚 ,  舛田伊知郎 ,  福崎雄介

IPC: G03F7/038 ,  C08F290/12 ,  G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0388 ,  C08F290/126 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/027 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0755 ,  G06F2203/04103 ,  C08F222/1006

Abstract: 本发明的目的是提供负型感光性树脂组合物，其不损害高硬度、高透明、高耐热和高耐药品性这样的特性、保存稳定性极其优异、可进行碱显影。本发明提供感光性树脂组合物，其包含在共聚物具有的一部分酸基上加成了含有环氧基的不饱和化合物(C)的含有不饱和基的树脂(D)，所述共聚物是使(甲基)丙烯酸酯(A)、与含有不饱和基和酸的化合物(B)共聚了的共聚物、具有特定结构的(甲基)丙烯酸系化合物(E)、具有选自氨基、酰胺基、脲基、酮亚胺和异氰酸酯基中的取代基的硅烷化合物(G)、和光聚合引发剂(F)。

公开(公告)号：CN108138013A

公开(公告)日：2018-06-08

申请号：CN201680061574.7

申请日：2016-10-24

Applicant: 东丽株式会社

Inventor： 小田拓郎 ,  有本真治 ,  藤原健典

IPC: C09J7/30 ,  B32B27/00 ,  B32B27/34 ,  C09J7/00 ,  C09J11/04 ,  C09J11/06 ,  C09J179/08 ,  C09J183/04 ,  C09J183/08 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明提供临时粘合用层叠体膜，所述临时粘合用层叠体膜的耐热性优异，直到基板周边部均能够平坦地形成被膜，能够利用1种粘接剂将半导体电路形成基板、与支承基板或支承膜层粘接，且能够于室温以温和的条件进行剥离。本发明为临时粘合用层叠体膜，其至少具有(A)保护膜层、(B)粘接剂层、(C)支承膜层这3层，上述(B)粘接剂层至少含有特定的通式表示的硅氧烷聚合物或特定的通式表示的化合物。

公开(公告)号：CN104487516B

公开(公告)日：2017-10-24

申请号：CN201380037773.0

申请日：2013-07-16

Applicant: 东丽株式会社

Inventor： 藤原健典 ,  谷垣勇刚

IPC: C08L83/04 ,  C09D183/04

CPC classification number: C09D183/04 ,  C08G77/80

Abstract: 本发明的课题是提供图案固化被膜的密合性印刷图案的转印性优异的适合于墨液用的聚硅氧烷组合物、由该墨液组合物形成的固化被膜以及电子器件或光学器件。一种适合于墨液的硅氧烷组合物，其特征在于，包含：(A)通过使包含选自通式(1)～(3)中的1种以上硅烷化合物的硅烷化合物水解和缩合而得的聚硅氧烷，和(b)溶剂。R02‑nR1nSi(OR9)2(1)(R0表示氢、烷基、链烯基、苯基或它们的取代体。R1表示多环式芳香族基或其取代体。R9表示氢、甲基、乙基、丙基或丁基，可以相同也可以不同。n为1或2。在n为2的情况下，多个R1可以相同也可以不同。)R2Si(OR10)3(2)(R2表示多环式芳香族基或其取代体。R10表示氢、甲基、乙基、丙基或丁基，可以相同也可以不同。)(R11O)mR43‑mSi‑R3‑Si(OR12)lR53‑l(3)(R3表示2价的多环式芳香族基或其取代体。R4和R5表示氢、烷基、链烯基、芳基或它们的取代体，分别可以相同也可以不同。R11和R12表示氢、甲基、乙基、丙基或丁基，分别可以相同也可以不同。m和l各自独立地为1～3的整数。)。

公开(公告)号：CN102667625B

公开(公告)日：2015-11-25

申请号：CN201080058514.2

申请日：2010-12-20

Applicant: 东丽株式会社

Inventor： 藤原健典 ,  内田圭一 ,  谷垣勇刚 ,  诹访充史

IPC: G03F7/075 ,  C08G77/04 ,  C08G77/14 ,  G03F7/022 ,  G03F7/023

CPC classification number: C08G77/14 ,  C08G77/70 ,  C09D183/06 ,  G03F7/0757

Abstract: 本发明的正型感光性树脂组合物，其特征在于，是含有(a)聚硅氧烷、(b)重氮萘醌化合物、(c)溶剂的正型感光性组合物，(a)聚硅氧烷中的来源于通式(1)所示的有机硅烷的结构的含有比率，以相对于聚硅氧烷全体的Si原子摩尔数的Si原子摩尔比计，为20%～80%，并且包含来源于通式(2)所示的有机硅烷的结构。通过本发明的正型感光性组合物，可以提供具有高耐热性、高透明性的特性，并且能够以高灵敏度形成高分辨率的图案的正型感光性组合物。此外，可以用于由本发明的正型感光性组合物形成的TFT基板用平坦化膜、层间绝缘膜、芯材、包层材等的固化膜、以及具有该固化膜的显示元件、半导体元件、固体摄像元件、光波导等的元件。

公开(公告)号：CN102918460B

公开(公告)日：2015-07-22

申请号：CN201180028270.8

申请日：2011-06-02

Applicant: 东丽株式会社

Inventor： 妹尾将秀 ,  藤原健典 ,  福原将 ,  诹访充史 ,  山本荣悟 ,  內田圭一

IPC: G03F7/075 ,  C08K3/28 ,  C08L83/00 ,  G02F1/1333 ,  G02F1/1368 ,  G03F7/004 ,  G03F7/023

CPC classification number: G03F7/0233 ,  C08G77/02 ,  C08G77/14 ,  C08G77/80 ,  C09D183/06 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0755 ,  G03F7/0757 ,  C08L83/00

Abstract: 感光性硅氧烷组合物，其含有（a）通过使通式（1）所示的有机硅烷的1种以上反应而合成的聚硅氧烷、（b）重氮醌化合物、（c）溶剂和（d）通式（2）所示的硅酸酯化合物。（式（1）中，R1表示氢、碳原子数为1～10的烷基、碳原子数为2～10的烯基、碳原子数为6～15的芳基的任一者，多个R1可以分别相同或不同，R2表示氢、碳原子数为1～6的烷基、碳原子数为2～6的酰基、碳原子数为6～15的芳基的任一者，多个R2可以分别相同或不同，n表示0～3的整数。）（式（2）中，R3～R6分别独立地表示氢、碳原子数为1～6的烷基、碳原子数为2～6的酰基、碳原子数为6～15的芳基的任一者，ｐ表示2～10的整数。）可以提供能够得到具有高耐热性、高透明性的特性、且耐药品性良好的固化膜的感光性硅氧烷组合物。。

公开(公告)号：CN102089870B

公开(公告)日：2013-08-28

申请号：CN200980109467.7

申请日：2009-02-27

Applicant: 东丽株式会社

Inventor： 村濑清一 ,  藤原健典 ,  城由香里 ,  塚本遵

IPC: H01L21/312 ,  C08G59/20 ,  C08G59/68 ,  C09D5/25 ,  C09D183/04 ,  H01L29/786 ,  H01L51/05

CPC classification number: H01L51/052 ,  C08G59/306 ,  C08G59/3281 ,  C08G65/20 ,  C08G77/14 ,  C09D163/00 ,  G03F7/0757 ,  H01B3/40 ,  H01B3/46 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/3122 ,  H01L51/0036 ,  H01L51/0068 ,  H01L51/0545

Abstract: 提供耐化学试剂性高、抗蚀剂或有机半导体涂液的涂布性优异、并且磁滞小的栅极绝缘材料。是含有至少以通式(1)表示的硅烷化合物及通式(2)表示的含环氧基的硅烷化合物为共聚成分的聚硅氧烷的栅极绝缘材料。R1m Si(OR2)4-m(1)，R1为氢、烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基或链烯基，R2为烷基或环烷基。m为1～3的整数。R3nR4lSi(OR5)4-n-l(2)，R3是链的一部分具有1个以上环氧基的烷基或环烷基，R4为氢、烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基或链烯基，R5为烷基或环烷基。l为0～2的整数，n为1或2。l+n≤3。

公开(公告)号：CN102089870A

公开(公告)日：2011-06-08

申请号：CN200980109467.7

申请日：2009-02-27

Applicant: 东丽株式会社

Inventor： 村濑清一 ,  藤原健典 ,  城由香里 ,  塚本遵

IPC: H01L21/312 ,  C08G59/20 ,  C08G59/68 ,  C09D5/25 ,  C09D183/04 ,  H01L29/786 ,  H01L51/05

CPC classification number: H01L51/052 ,  C08G59/306 ,  C08G59/3281 ,  C08G65/20 ,  C08G77/14 ,  C09D163/00 ,  G03F7/0757 ,  H01B3/40 ,  H01B3/46 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/3122 ,  H01L51/0036 ,  H01L51/0068 ,  H01L51/0545

Abstract: 提供耐化学试剂性高、抗蚀剂或有机半导体涂液的涂布性优异、并且磁滞小的栅极绝缘材料。是含有至少以通式(1)表示的硅烷化合物及通式(2)表示的含环氧基的硅烷化合物为共聚成分的聚硅氧烷的栅极绝缘材料。R1m Si(OR2)4-m(1)(此处，R1为氢、烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基或链烯基，R2为烷基或环烷基。m为1～3的整数。)R3nR4lSi(OR5)4-n-l(2)(此处，R3是链的一部分具有1个以上环氧基的烷基或环烷基，R4为氢、烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基或链烯基，R5为烷基或环烷基。l为0～2的整数，n为1或2。l+n≤3)。