公开(公告)号：CN111499500B

公开(公告)日：2024-04-23

申请号：CN202010077624.9

申请日：2020-01-31

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 畠山润 ,  长泽贤幸 ,  长谷川幸士 ,  提箸正义 ,  福岛将大

IPC: C07C43/23 ,  C08F220/38 ,  C08F212/14 ,  H10K50/805

Abstract: 本发明提供一种适合用作燃料电池用或导电材料用的掺杂剂的导电聚合物用高分子化合物与其制备方法，该导电聚合物用高分子化合物由共聚聚合物形成，该共聚聚合物含有具有氟磺酸、氟磺酰亚胺基、正羰基氟磺酰胺基的重复单元与具有3,3,3‑三氟‑2‑羟基‑2‑三氟甲基异丁醚基的苯乙烯的重复单元。使用下述通式(1)所表示的聚合性单体与选自具有由氟磺酸等的锂盐、钠盐、钾盐、氮化合物盐构成的盐结构的单体中的一种以上的单体，进行聚合反应，通过离子交换，将通过聚合反应而得到的聚合物的重复单元的盐结构变换为氟磺酸等。[化学式1]#imgabs0#

公开(公告)号：CN114478987A

公开(公告)日：2022-05-13

申请号：CN202111334279.3

申请日：2021-11-11

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 野中汐里 ,  长谷川幸士 ,  渡边修 ,  畠山润

IPC: C08G18/66 ,  C08G18/42 ,  C08G18/32 ,  H01B1/20 ,  H01B5/14 ,  H01B13/00

Abstract: 本发明涉及聚氨基甲酸酯、聚氨基甲酸酯的制造方法、导电性糊剂组成物、导电配线及其制造方法。本发明提供用以形成伸缩时的导电性的变化少的伸缩性导电配线的导电性糊剂组成物、及提供该组成物的聚氨基甲酸酯。一种聚氨基甲酸酯，其特征为：含有pKa5～11的弱酸性官能团。

公开(公告)号：CN109485590B

公开(公告)日：2021-02-23

申请号：CN201811066172.3

申请日：2018-09-13

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 福岛将大 ,  长谷川幸士 ,  畠山润

IPC: C07C381/12 ,  C07D333/76 ,  C07D335/12 ,  C07D335/16 ,  C07D339/08 ,  C07D327/08 ,  C07D307/00 ,  C07D279/22 ,  C07D279/20 ,  C07D333/46 ,  C07D333/54 ,  C07D335/02 ,  C07D327/06 ,  C07C25/18 ,  C07C43/225 ,  C08F112/14 ,  C08F120/38 ,  C08F120/16 ,  C08F120/32 ,  C08F120/20 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明为单体、聚合物、抗蚀剂组合物和图案化方法。提供了具有式(A)的单体。RA为H、甲基或三氟甲基，X1为单键，醚键、酯键或酰胺键，Ra为C1‑C20一价烃基，Rb为H或酸不稳定性基团，X为卤素，n为1至4的整数，m为0至3的整数，和1≤n+m≤4。包含衍生自所述单体的聚合物的抗蚀剂组合物具有对高能辐射、特别是EUV的高的感光度。

公开(公告)号：CN105315467B

公开(公告)日：2019-12-20

申请号：CN201510454091.0

申请日：2015-07-29

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 竹村胜也 ,  浦野宏之 ,  饭尾匡史 ,  藤原敬之 ,  长谷川幸士

IPC: C08G77/16 ,  C08G77/14 ,  C07C37/11 ,  C07C39/21 ,  G03F7/038 ,  G03F7/004 ,  G03F7/00

Abstract: 提供了带有有机硅结构的聚合物，其包含衍生自双(4‑羟基‑3‑烯丙基苯基)衍生物的重复单元并具有3,000‑500,000的Mw。包含所述聚合物的化学增幅型负型抗蚀剂组合物克服了将涂层从Cu或Al的金属配线、电极和SiN基材剥离的剥离问题。

公开(公告)号：CN110194827A

公开(公告)日：2019-09-03

申请号：CN201910136239.4

申请日：2019-02-25

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 畠山润 ,  岩渊元亮 ,  原田裕次 ,  野中汐里 ,  长谷川幸士

IPC: C08G18/66 ,  C08G18/61 ,  C08G18/48 ,  C08G18/32 ,  C08G77/18 ,  C08F283/00 ,  C08F220/18 ,  C08G77/16 ,  C08J5/18 ,  C07F7/08

Abstract: 本发明提供一种具有优异的伸缩性与强度、且膜表面的防水性也优异的伸缩性膜及其形成方法、用于该伸缩性膜的氨基甲酸酯树脂及作为该氨基甲酸酯树脂的材料的含硅化合物。所述含硅化合物由下述通式(1)表示，式中，R1、R2、R3、R4、R5及R6为碳原子数为1～6的直链状、支链状、环状的烷基、苯基、3,3,3-三氟丙基或-(OSiR7R8)n-OSiR9R10R11所表示的基团；R7、R8、R9、R10及R11与R1～R6相同，n为0～100的范围的整数；A为碳原子数为3～6的直链状、支链状的亚烷基，m为1～3的范围的整数。[化学式1]

公开(公告)号：CN105676592A

公开(公告)日：2016-06-15

申请号：CN201510893749.8

申请日：2015-12-08

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 熊木健太郎 ,  渡边聪 ,  长谷川幸士 ,  土门大将 ,  山田健司

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明提供收缩材料，其包括特定的聚合物和含有抗消失性溶剂的溶剂。通过将包含基础树脂和产酸剂的抗蚀剂组合物涂布到基材上以形成抗蚀剂膜、曝光、在有机溶剂显影剂中显影以形成负型抗蚀剂图案、将该收缩材料涂布到该图案上和用有机溶剂将过量的收缩材料除去以由此使该图案中的孔和/或狭缝的尺寸收缩，从而形成图案。

公开(公告)号：CN100578358C

公开(公告)日：2010-01-06

申请号：CN200410098151.1

申请日：2004-08-06

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 渡边武 ,  西恒宽 ,  土谷纯司 ,  船津显之 ,  长谷川幸士

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/20

CPC classification number: C08F220/18 ,  C08F220/26 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/111

Abstract: 一种包含式(1)、(2)、(3)和(4)的重复单元的聚合物，其在碱性显影剂中，在酸的作用提高了溶解速率，(见右式)R1、R2、R3和R6是H或CH3，R4和R5是H或OH，X是具有双环[2.2.1]庚烷框架的叔外-烷基基团，由式(X-1)-(X-4)的任一个表示：(见右式)其中R7是C1-C10烷基，Y是具有金刚烷结构的叔烷基。一种包括该创造性聚合物的抗蚀剂组合物具有对高能辐射的灵敏度，提高的分辨率和最小化的近似偏差并且采用电子束或深UV向其本身提供微图案而用于VLSI制造。