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公开(公告)号：CN115975145A
公开(公告)日：2023-04-18
申请号：CN202211257458.6
申请日：2022-10-14
申请人： 信越化学工业株式会社
IPC分类号： C08G18/66 , C08G18/42 , C08G18/44 , C08G18/32 , C08G18/76 , C08G18/75 , C09D175/06 , C09D5/24 , C09D7/63 , H01B1/22 , H01B1/24 , H05K1/09 , H05K3/10
摘要： 本发明涉及聚氨酯、聚氨酯的制造方法、导电性糊剂组成物、导电配线以及导电配线的制造方法。本发明为一种聚氨酯，其特征为：是下述通式(1A)表示的含有酚性羟基者。借此提供用以形成在伸缩时的导电性的变化少的伸缩性导电配线的导电性糊剂组成物、以及提供该组成物的聚氨酯。[化1]
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公开(公告)号：CN109422672B
公开(公告)日：2021-08-20
申请号：CN201810970031.8
申请日：2018-08-24
申请人： 信越化学工业株式会社
IPC分类号： C07C381/12 , C07D333/76 , C08F220/18 , C08F220/32 , G03F7/20 , G03F7/004
摘要： 本发明为锍化合物、抗蚀剂组合物和图案化方法。包含特定结构的锍化合物作为PAG的抗蚀剂组合物具有优异的光刻性能因素，如最小的缺陷、高感光度、改善的LWR和CDU，并且是用于精确微图案化的相当有效的抗蚀剂材料。
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公开(公告)号：CN105315467A
公开(公告)日：2016-02-10
申请号：CN201510454091.0
申请日：2015-07-29
申请人： 信越化学工业株式会社
摘要： 提供了带有有机硅结构的聚合物，其包含衍生自双(4-羟基-3-烯丙基苯基)衍生物的重复单元并具有3,000-500,000的Mw。包含所述聚合物的化学增幅型负型抗蚀剂组合物克服了将涂层从Cu或Al的金属配线、电极和SiN基材剥离的剥离问题。
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公开(公告)号：CN114478987B
公开(公告)日：2024-07-02
申请号：CN202111334279.3
申请日：2021-11-11
申请人： 信越化学工业株式会社
摘要： 本发明涉及聚氨基甲酸酯、聚氨基甲酸酯的制造方法、导电性糊剂组成物、导电配线及其制造方法。本发明提供用以形成伸缩时的导电性的变化少的伸缩性导电配线的导电性糊剂组成物、及提供该组成物的聚氨基甲酸酯。一种聚氨基甲酸酯，其特征为：含有pKa5～11的弱酸性官能团。
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公开(公告)号：CN109426080B
公开(公告)日：2022-06-17
申请号：CN201810957182.X
申请日：2018-08-22
申请人： 信越化学工业株式会社
IPC分类号： G03F7/038 , G03F7/004 , C08F220/28 , C08F220/20 , C08F220/38 , C07C67/297 , C07C69/54 , C07D493/08 , C07D493/18 , C07D307/00
摘要： 本发明为单体、聚合物、抗蚀剂组合物和图案化方法。提供了具有在酸的作用下能够极性转换的取代基的单体和聚合物。包含所述聚合物的抗蚀剂组合物以高分辨率形成不溶于碱性显影剂中并且具有高的耐蚀刻性的负型图案。
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公开(公告)号：CN109422672A
公开(公告)日：2019-03-05
申请号：CN201810970031.8
申请日：2018-08-24
申请人： 信越化学工业株式会社
IPC分类号： C07C381/12 , C07D333/76 , C08F220/18 , C08F220/32 , G03F7/20 , G03F7/004
摘要： 本发明为锍化合物、抗蚀剂组合物和图案化方法。包含特定结构的锍化合物作为PAG的抗蚀剂组合物具有优异的光刻性能因素，如最小的缺陷、高感光度、改善的LWR和CDU，并且是用于精确微图案化的相当有效的抗蚀剂材料。
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公开(公告)号：CN105717744A
公开(公告)日：2016-06-29
申请号：CN201510955723.1
申请日：2015-12-18
申请人： 信越化学工业株式会社
IPC分类号： G03F7/039 , C08F220/28 , C08F220/32 , C08F220/38 , C07C69/533 , C07C69/54
摘要： 提供具有多个叔醇羟基的单体。通过将该单体聚合而得到的有用的聚合物。由包含该聚合物的抗蚀剂组合物，以高分辨率形成在碱显影剂中不可溶并且具有高耐蚀刻性的负型图案。
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公开(公告)号：CN1607461A
公开(公告)日：2005-04-20
申请号：CN200410098151.1
申请日：2004-08-06
申请人： 信越化学工业株式会社
CPC分类号： C08F220/18 , C08F220/26 , G03F7/0397 , Y10S430/111
摘要： 一种包含式(1)、(2)、(3)和(4)的重复单元的聚合物，其在碱性显影剂中，在酸的作用提高了溶解速率，R1、R2、R3和R6是H或CH3，R4和R5是H或OH，X是具有双环[2.2.1]庚烷框架的叔外－烷基基团，由式(X－1)－(X－4)的任一个表示，其中R7是C1－C10烷基，Y是具有金刚烷结构的叔烷基。一种包括该创造性聚合物的抗蚀剂组合物具有对高能辐射的灵敏度，提高的分辨率和最小化的近似偏差并且采用电子束或深UV向其本身提供微图案而用于VLSI制造。
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公开(公告)号：CN117165014A
公开(公告)日：2023-12-05
申请号：CN202310955336.2
申请日：2022-03-11
申请人： 信越化学工业株式会社
IPC分类号： C08L33/08 , C08L43/04 , C08K3/24 , C08K3/04 , C08K7/00 , C08K3/08 , C08K5/05 , C08J5/18 , A61B5/259 , A61B5/268 , A61B5/263 , A61B5/274 , A61B5/28
摘要： 本发明涉及导电膜组成物、及导电膜。本发明为一种导电膜组成物，是含有硅的粘着性导电膜，其特征为：该导电膜组成物含有：离子性材料(A)，选自氟磺酸、氟磺酰亚胺、N‑羰基氟磺酰胺中的任一者的铵盐、锂盐、钠盐、钾盐。
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公开(公告)号：CN117069634A
公开(公告)日：2023-11-17
申请号：CN202310548890.9
申请日：2023-05-16
申请人： 信越化学工业株式会社
IPC分类号： C07C381/12 , G03F7/00 , G03F7/42 , G03F7/20 , C07D493/08 , C07D333/76 , C07D333/46 , C07D335/12 , C07D327/08 , C07D279/20 , C07D339/08 , C07D335/02 , C07D333/54 , C07D495/10 , C07D309/10 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , C08F20/38 , C08F12/30
摘要： 本发明涉及新颖锍盐型聚合性单体、高分子光酸产生剂、基础树脂、抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明课题提供溶剂溶解性优良且高感度、对比度及LWR等光刻性能优良同时即使在微细图案形成中亦可抗图案崩坏的抗蚀剂组成物、高分子、单体及图案形成方法。解决手段是式(1)表示锍盐型聚合性单体。#imgabs0#p是1～3的整数。R11是碳数1～20的烃基。Rf表示氟原子、碳数1～6的含氟原子的烷基、烷氧基、硫基。q表示1～4的整数。RALU表示酸不稳定基团。r是1～4的整数。R12是碳数1～20的烃基。s是0～4的整数。t表示0～2的整数。Rf及‑O‑RALU互相键结于相邻碳原子。A‑X‑表示含有聚合性基团A的非亲核性相对离子。
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