一种控制离子均匀注入的二维扫描装置

    公开(公告)号:CN102446687A

    公开(公告)日:2012-05-09

    申请号:CN201010514078.7

    申请日:2010-10-13

    Abstract: 本发明公开了一种控制离子均匀注入的二维扫描装置,属于半导体制造领域。该装置包括剂量控制器、运动控制器、移动法拉第、扫描板、直线电机和计算机。扫描板和剂量控制器连接;直线电机和运动控制器连接;移动法拉第和剂量控制器连接;剂量控制器和运动控制器连接;剂量控制器和运动控制器均与计算机连接,由计算机协调动作并进行控制。本发明能够实现离子注入剂量的精确检测和剂量的均匀性控制。

    一种离子源坩埚控制方法
    32.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102446685A

    公开(公告)日:2012-05-09

    申请号:CN201010513581.0

    申请日:2010-10-13

    Abstract: 本发明阐述了一种离子源坩埚控制方法,控制离子注入机离子源中的坩埚除气和蒸发过程,以稳定产生所需气体。本方法涉及离子注入机,属于半导体制造领域。本方法包含了两个大的步骤,即图中的除气部分(1)和闭环稳气部分(2)。除气部分(1)是通过预热和不断加热坩埚,将坩埚中的杂质气体和所要加热的固体中含有的水分除掉。闭环稳气部分(2)是将坩埚温度的控制与离子源真空值进行闭环控制,并以PID控制算法实现对于二者间的关联控制。离子源真空值可通过人机交互界面设定,由本方法自动调节坩埚温度,使得离子源真空值保持稳定,即获得目标气体浓度。

    一种霍尔器件误差补偿电路

    公开(公告)号:CN102445671A

    公开(公告)日:2012-05-09

    申请号:CN201010514189.8

    申请日:2010-10-13

    Abstract: 本发明涉及一种霍尔器件误差补偿电路,该电路包括恒交流源1、电感2、绕线电感3、校正电阻4、负载电阻5、霍尔器件6、电感7、绕线电感8、变压器9、电阻10、放大器11及接地端12。该电路不仅通过并联负载电阻5来补偿温度误差,而且采用了由电感2和绕线电感3构成的补偿器件耦合电感,使温度误差补偿达到最佳效果;另在霍尔器件6的激励端与输出端并联上由电感7和绕线电感8构成耦合电感来补偿霍尔器件6的零位误差,使不等位电势降到最小。本发明电路简单,时间特性好,对于进行磁场检测的霍尔器件温度漂移及零位误差进行自动补偿,使之更加准确可靠。

    一种分体式离子源引出电极系统

    公开(公告)号:CN102347191A

    公开(公告)日:2012-02-08

    申请号:CN201010243073.5

    申请日:2010-08-02

    Abstract: 一种分体式离子源引出电极系统,包括:减速电极3、屏蔽筒2、绝缘子4、加速电极7、减速电极连接杆1、加速电极连接杆8、电极基座10,所述屏蔽筒2安装在减速电极3上面向加速电极7的一侧;所述绝缘子4安装加速电极上7面向减速电极3的一侧,靠近屏蔽筒2并与屏蔽筒2相对应,其特征在于,其中所述减速电极3通过所述减速电极连接杆1连接固定到基座10上;其中所述加速电极7通过所述加速电极连接杆8连接固定到基座10上,连接方式使得所述加速电极7在需要时能够通过所述加速电极连接杆8的前后移动而沿离子束流的方向精确地前后移动。本发明的离子源引出电极结构稳定可靠,在过热的情况下加速电极和减速电极之间不会产生应力应变,从而不会损失电极的精度,还具有许多其它优点。

    快速闪光退火炉中的温度控制程控方法

    公开(公告)号:CN102003882A

    公开(公告)日:2011-04-06

    申请号:CN200910090667.4

    申请日:2009-09-03

    Abstract: 本发明公开了一种新型的快速闪光退火炉的温度控制程控方法,快速闪光退火炉是半导体行业的工艺设备,该发明属于半导体器件制造领域。硅晶片的加热升温方法采用卤素钨灯辐射加热升温法,共应用了28根1.5KW和2KW两种规格的卤素灯管,分别设置在炉腔的顶部和底部,各有14根灯管,顶部和底部的灯管成垂直交叉状安放,将28根灯管分成10个加热功率控制区,顶部和底部各分布5个加热功率控制区,为了保证硅晶片在加热退火处理过程中温度均匀,每个加热功率区安放不一样的灯管功率和灯管根数,顶部和底部的加热功率控制区的灯管数按对称分布,按照自适应算法模型对每个区的灯管加热实行精确调整和控制,以达到使炉腔中的硅晶片快速升温和温度均匀的目的。

    一种快速热处理炉用有机玻璃门自动升降机构

    公开(公告)号:CN101728231A

    公开(公告)日:2010-06-09

    申请号:CN200810224641.X

    申请日:2008-10-22

    Abstract: 本发明公开了一种有机玻璃门的快速升降机构,涉及快速热处理炉,属于半导体制造领域。该结构包括:一对直线运动导轨副,两导轨支架,两导轨滑块支架。一气缸,一有机玻璃门。有机玻璃门与导轨滑块通过螺钉固定连接,导轨支架与机器体垂直固定连接,气缸再与滑块支架固定连接,气缸的顶升驱动力使玻璃门上升,气缸收回,有机玻璃门下降。直线运动导轨副运动精度高,气缸作为驱动力源,驱动力大,动作简单。

    非均匀磁场平行束透镜系统

    公开(公告)号:CN100587894C

    公开(公告)日:2010-02-03

    申请号:CN200510127733.2

    申请日:2005-12-05

    Abstract: 本发明公开了一种非均匀磁场平行束透镜系统,该系统包括侧磁轭、真空盒、上磁轭、上磁极、上线包、下线包、冷却板、下磁轭、下磁极、磁钳。其中上磁轭和下磁轭之间螺钉连接有上磁极和下磁极;上磁极和下磁极之间的距离为非线性;上磁极和下磁极之间放置真空盒;上磁极外侧螺钉连接上线包;下磁极外侧螺钉连接下线包;上线包、下线包串联使用;上线包、下线包中间都有用于冷却线包的冷却板;上线包、下线包外侧,上磁轭和下磁轭之间螺钉连接有侧磁轭,侧磁轭与上磁轭、下磁轭构成磁场回路;磁钳螺钉连接在上磁轭和下磁轭外侧,位于离子束入射面和出射面,由四块构成,能有效地减小的磁铁的边缘磁场效应。

    晶片定向缺口信息获取电路

    公开(公告)号:CN1851889A

    公开(公告)日:2006-10-25

    申请号:CN200610072968.0

    申请日:2006-04-07

    Abstract: 本发明公开了一种晶片定向缺口信息获取电路,其与光电元件连接,包括微分电路和放大器电路,微分电路包括电容器和第一放大器及其外围元件,放大器电路包括第二放大器及其外围元件。微分电路的输入信号端连接光电元件的输出信号端,其输出信号端连接放大器电路的输入信号端,放大器电路的输出信号端连接控制器。由于本发明晶片定向缺口信息获取电路中设计了微分电路,使原来的缺口信号转化成为窄脉冲信号,又经过放大器电路的放大,将信号幅度增加到控制器容易识别的程度,缺口定向检测率极高。该电路简单可靠,检测速度快,精度高。

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