公开(公告)号：CN107078026A

公开(公告)日：2017-08-18

申请号：CN201580059699.1

申请日：2015-09-30

申请人： 株式会社LG化学

发明人： 具世真 ,  李美宿 ,  柳亨周 ,  金廷根 ,  尹圣琇 ,  朴鲁振 ,  李济权 ,  崔银英

IPC分类号： H01L21/027 ,  C08F299/00 ,  C08F297/00 ,  C08F212/14 ,  C08F212/08 ,  C08F216/12

摘要： 本申请提供了制造图案化基底的方法。该方法可以应用于制造装置如电子器件或集成电路的过程，或者应用于其他用途例如制造集成光学系统、磁畴存储器的引导和检测图案、平板显示器、LCD、薄膜磁头或有机发光二极管；并且该方法可用于在用来制造离散磁道介质如集成电路、位元图案化介质和/或磁存储装置如硬盘驱动器的表面上构造图案。

公开(公告)号：CN107075051A

公开(公告)日：2017-08-18

申请号：CN201580059573.4

申请日：2015-09-30

申请人： 株式会社LG化学

发明人： 李美宿 ,  金廷根 ,  具世真 ,  朴鲁振 ,  李济权 ,  崔银英 ,  尹圣琇 ,  柳亨周

IPC分类号： C08F293/00 ,  C08F299/00 ,  C08F297/00 ,  C08F212/08 ,  C08F220/10 ,  G03F7/00 ,  C08J5/18 ,  C08L53/00

摘要： 本申请提供了嵌段共聚物及其用途。本申请的嵌段共聚物表现出优异的自组装特性或相分离特性，可以没有限制地提供多种所需功能，并且特别是可以确保蚀刻选择性，使得所述嵌段共聚物可有效地用于诸如图案形成的用途。

公开(公告)号：CN105934455A

公开(公告)日：2016-09-07

申请号：CN201480074045.1

申请日：2014-12-08

申请人： 株式会社LG化学

发明人： 李济权 ,  金廷根 ,  朴鲁振 ,  李美宿 ,  具世真 ,  崔银英 ,  尹圣琇

IPC分类号： C08F297/00 ,  C08F299/00 ,  C08F212/14 ,  C08F220/10 ,  C08F220/30 ,  C08F216/12 ,  C08L55/00 ,  C08J5/00 ,  C08J7/04

CPC分类号： C08F293/005 ,  B81C1/00428 ,  B81C1/00531 ,  B81C2201/0149 ,  B82Y40/00 ,  C07C35/48 ,  C07C43/215 ,  C07C43/225 ,  C07C217/84 ,  C07C2601/16 ,  C07D209/48 ,  C07F7/1804 ,  C08F12/20 ,  C08F12/22 ,  C08F12/26 ,  C08F12/32 ,  C08F212/14 ,  C08F220/10 ,  C08F220/30 ,  C08F2438/03 ,  C08J5/18 ,  C08J7/123 ,  C08J7/14 ,  C08J2353/00 ,  C09D153/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/162

摘要： 本发明可提供嵌段共聚物及其用途。本发明的嵌段共聚物具有优异的自组装特性和相分离特性，并且可具有必要时向其提供的多种所需功能。

公开(公告)号：CN105899556A

公开(公告)日：2016-08-24

申请号：CN201480072759.9

申请日：2014-12-08

申请人： 株式会社LG化学

发明人： 李济权 ,  金廷根 ,  朴鲁振 ,  尹圣琇

IPC分类号： C08F297/00 ,  C08F299/00 ,  C08F212/14 ,  C08F212/12 ,  C08F220/10 ,  C08F220/30 ,  C08F216/12 ,  C08L55/00 ,  C08J5/00 ,  C08J7/04

CPC分类号： C08F293/005 ,  B81C1/00428 ,  B81C1/00531 ,  B81C2201/0149 ,  B82Y40/00 ,  C07C35/48 ,  C07C43/215 ,  C07C43/225 ,  C07C217/84 ,  C07C2601/16 ,  C07D209/48 ,  C07F7/1804 ,  C08F12/20 ,  C08F12/22 ,  C08F12/26 ,  C08F12/32 ,  C08F212/14 ,  C08F220/10 ,  C08F220/30 ,  C08F2438/03 ,  C08J5/18 ,  C08J7/123 ,  C08J7/14 ,  C08J2353/00 ,  C09D153/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/162

摘要： 本发明涉及单体、用于制备嵌段共聚物的方法、嵌段共聚物及其用途。本发明的单体可形成嵌段共聚物，所述嵌段共聚物具有优异的自组装特性并且必要时任选地向其提供多种所需的功能。

公开(公告)号：CN110869442B

公开(公告)日：2022-11-22

申请号：CN201880046248.8

申请日：2018-07-16

申请人： 株式会社LG化学

发明人： 具世真 ,  李美宿 ,  姜那那 ,  李应彰 ,  尹圣琇 ,  朴鲁振 ,  李济权 ,  崔银英 ,  柳亨周 ,  许允衡

IPC分类号： C08L53/00 ,  C08L25/18 ,  C08F12/16 ,  C08F16/14 ,  C08F20/10 ,  G03F7/004

摘要： 本申请涉及中性层组合物。本申请可以提供能够形成可以有效地控制各种嵌段共聚物的取向特性的中性层的中性层组合物。

公开(公告)号：CN109996840B

公开(公告)日：2022-03-29

申请号：CN201780071946.9

申请日：2017-11-29

申请人： 株式会社LG化学

发明人： 具世真 ,  李美宿 ,  柳亨周 ,  尹圣琇 ,  朴鲁振 ,  金廷根 ,  李济权 ,  崔银英

IPC分类号： C09D153/00 ,  C08F293/00 ,  H01L21/027 ,  H01L21/311 ,  G03F1/00

摘要： 本申请涉及聚合物组合物及其用途。本申请可以提供具有优异的自组装特性并且即使在未进行中性处理的表面上也能够形成垂直取向结构的聚合物组合物及其用途，其中垂直取向的自组装结构可以在短时间内有效地形成。

公开(公告)号：CN107258009B

公开(公告)日：2020-09-01

申请号：CN201680010555.1

申请日：2016-02-02

申请人： 株式会社LG化学

发明人： 具世真 ,  崔银英 ,  尹圣琇 ,  朴鲁振 ,  金廷根 ,  李济权 ,  李美宿

IPC分类号： H01L21/306

摘要： 本发明涉及一种用于对彼此具有不同耐蚀刻性的自组装嵌段共聚物薄膜使用湿法蚀刻工艺选择性除去一侧上的嵌段的工艺。通过克服现有技术的不能通过湿法蚀刻实现垂直孔结构的限制，即使在具有垂直取向的柱体自组装结构且具有一个或更多个周期的厚膜的情况下，本发明也可以形成具有高长径比的垂直纳米孔结构。

公开(公告)号：CN111094370A

公开(公告)日：2020-05-01

申请号：CN201880059350.1

申请日：2018-09-17

申请人： 株式会社LG化学

发明人： 姜那那 ,  具世真 ,  李美宿 ,  李应彰 ,  崔银英 ,  尹圣琇 ,  朴鲁振 ,  李济权 ,  柳亨周 ,  许允衡

IPC分类号： C08F220/30 ,  C08F212/14 ,  B32B27/28 ,  B32B27/08 ,  B29C71/02

摘要： 本申请涉及用于制备图案化基底的方法。所述方法可以应用于制造诸如电子装置和集成电路的装置的过程，或者其他应用，例如集成光学系统、磁畴存储器的引导和检测图案、平板显示器、液晶显示器(LCD)、薄膜磁头或有机发光二极管等的制造，并且还可以用于诸如集成电路、比特图案化介质和/或磁存储装置如硬盘驱动器的离散轨道介质的制造用于在表面上构建图案。

公开(公告)号：CN110799553A

公开(公告)日：2020-02-14

申请号：CN201880042567.1

申请日：2018-07-16

申请人： 株式会社LG化学

发明人： 许允衡 ,  李济权 ,  尹圣琇 ,  朴鲁振 ,  崔银英 ,  具世真 ,  李美宿 ,  柳亨周 ,  姜那那 ,  李应彰

IPC分类号： C08F20/02 ,  C08F8/18 ,  C08F8/42

摘要： 本申请涉及用于生产聚合物的方法。本申请可以在最小化或消除副反应等的同时以优异的效率生产在其末端含有金属原子或卤素原子的聚合物，并且还可以自由地控制聚合物的分子量特性。

公开(公告)号：CN110023384A

公开(公告)日：2019-07-16

申请号：CN201780072491.2

申请日：2017-11-29

申请人： 株式会社LG化学

发明人： 李美宿 ,  具世真 ,  朴鲁振 ,  金廷根 ,  李济权 ,  崔银英 ,  柳亨周 ,  尹圣琇

IPC分类号： C08J5/22 ,  G03F1/66 ,  G03F1/76 ,  G03F1/80 ,  C08L33/06

摘要： 本申请涉及嵌段共聚物及其用途。本申请可以提供层合体以及使用其生产图案化基底的方法，所述层合体能够在基底上形成高度取向的嵌段共聚物，并因此可以有效地应用于生产各种图案化基底。