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公开(公告)号：CN102197302A
公开(公告)日：2011-09-21
申请号：CN200980142363.6
申请日：2009-10-28
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G01N23/04
CPC classification number: G06T7/0002 , A61B6/4291 , A61B6/484 , G01J9/02 , G01N23/04 , G01N23/20075 , G01N2223/401 , G21K1/06 , G21K2201/06 , G21K2201/067
Abstract: 一种在采用穿过被检物体的放射线的干涉条纹的强度信息的放射线成像装置中使用的分析方法包括以下步骤：从干涉条纹的强度信息产生卷绕到2π的范围中的被检物体的第一相位信息；从干涉条纹的强度信息产生关于被检物体的吸收强度梯度的信息；基于关于吸收强度梯度的信息中的梯度的绝对值产生加权函数；和通过使用加权函数展开第一相位信息，产生第二相位信息。
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公开(公告)号：CN102138185A
公开(公告)日：2011-07-27
申请号：CN200980126444.7
申请日：2009-07-01
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
Inventor： C·梅茨马歇尔
IPC: G21K1/06
CPC classification number: G02B5/283 , B82Y10/00 , G21K1/062 , G21K2201/061 , G21K2201/067
Abstract: 本发明涉及改进的EUV反射元件，包括：a)第一层，基本上由高反射性材料制成；b)第二层，厚度≤5nm，基本上由耐溅射性≤10nm/108次射击的材料制成，并且由此第二层被设置在入射的和/或反射的EUV光的路径中。
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公开(公告)号：CN101836163A
公开(公告)日：2010-09-15
申请号：CN200780101177.9
申请日：2007-08-20
Applicant: 卡尔蔡司SMT股份公司
CPC classification number: G03F7/70308 , B82Y10/00 , G02B5/0891 , G02B13/143 , G02B17/0663 , G03F7/70233 , G21K1/062 , G21K2201/067
Abstract: 一种光学系统包括所布置的用以将波长λ的辐射从物面中的物场成像到像面中的像场的多个元件。所述多个元件包括布置在辐射路径中的多个镜元件，镜元件具有由反射涂层形成的反射表面。至少一个镜元件具有在一个或多个位置从最佳拟合旋转对称反射表面偏离约λ以上的非旋转反射表面。该元件包括切趾校正元件，相对于不具有切趾校正元件的光学系统，该切趾校正元件有效地校正光学系统的出瞳中的空间强度分布。优选地，相对于不具有切趾校正元件的光学系统，该切趾校正元件有效地增加出瞳中的空间强度分布的对称性。
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公开(公告)号：CN100559217C
公开(公告)日：2009-11-11
申请号：CN200610079943.3
申请日：2006-04-26
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·M·J·W·范赫尔彭 , L·P·巴克 , V·Y·巴尼纳 , D·J·W·克伦德
CPC classification number: G02B1/10 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G02B5/0816 , G02B5/0891 , G02B5/283 , G03F1/24 , G03F7/70575 , G03F7/70958 , G21K1/062 , G21K2201/067
Abstract: 多层反射镜包括位于多层反射镜顶部的光谱纯度增强层，其比如可用于EUV光刻设备。这个光谱纯度增强层包括第一光谱纯度增强层，但是介于多层反射镜和第一光谱纯度增强层之间可存在有中间层或者第二光谱纯度增强层和中间层。因此，具有下列配置的多层反射镜是可能的：多层反射镜/第一光谱纯度增强层；多层反射镜/中间层/第一光谱纯度增强层；以及多层反射镜/第二光谱纯度增强层/中间层/第一光谱纯度增强层。可提高正入射辐射的光谱纯度，以使DUV辐射的减少相对EUV辐射更强。
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公开(公告)号：CN1333408C
公开(公告)日：2007-08-22
申请号：CN200480002249.0
申请日：2004-01-14
Applicant: 欧洲系统光学公司
IPC: G21K1/06
CPC classification number: G21K1/06 , G02B7/182 , G02B26/0816 , G02B26/0825 , G21K2201/067
Abstract: 本发明涉及一种可变形系统，该系统包括一呈矩形块状的部件(P)，例如一个梁，其连接在一致动器上，该致动器通过使该部件沿纵向产生弯曲而发生变形。本发明的特征在于，所述部件(P)具有一将被变形的主体部分(10)，该主体部分在其端部设有突出部(11，12)，从而使得该部件(P)的纵剖面呈细长U形，该致动器(20)具有用以抵靠所述突出部(11，12)的杠杆(30，40)，以传递适于使该部件(P)产生变形的力。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1304311C
公开(公告)日：2007-03-14
申请号：CN03154329.4
申请日：2003-08-15
Applicant: 肖特公开股份有限公司
CPC classification number: C03B23/0357 , C03B19/02 , C03B23/025 , C03B23/0252 , C03B32/02 , C03B40/00 , C03C10/0027 , G21K1/067 , G21K2201/064 , G21K2201/067
Abstract: 本发明公开了玻璃或玻璃陶瓷的成型方法，其中玻璃陶瓷模具(12)是由起始玻璃成模制得，该起始玻璃通过热处理转化成一种热液石英玻璃陶瓷，该热液石英玻璃陶瓷主要含有热液石英混合晶体。使用所述的热液石英玻璃陶瓷模具(12)，在重力作用和高于胚件(14)的转变温度下，可将胚件下陷到模具中而制备成型体。
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公开(公告)号：CN1299781C
公开(公告)日：2007-02-14
申请号：CN01821224.7
申请日：2001-09-19
Applicant: 姆拉丁·阿布比奇罗维奇·库马科夫
Inventor： 姆拉丁·阿布比奇罗维奇·库马科夫
IPC: A61N5/10
CPC classification number: G21K1/06 , A61N5/1001 , A61N5/1014 , A61N2005/1091 , A61N2005/1095 , G21K2201/064 , G21K2201/067
Abstract: 本发明涉及一种X射线治疗恶性和良性肿瘤和某些其它疾病的设备，它包括一中空探头(5)、一X射线或γ量子或中子形式的中性粒子的放射源(1)和一形成沿探头的纵轴线定向的粒子束的装置。本发明的形成粒子束的装置是以准直器或透镜(18)的形式被部分埋置的，它是以一组用于具有全内反射的放射传送的曲线通道的形式被埋置的。所述装置可以位于探头的内部。本发明的探头在使用时引入病人的身体(11)内，它的远端接近病理部位或直接插入其中。为了作用于病理部位，使用了中性粒子源的放射线或位于探头的远端内的目标中激发的二次放射或由这目标散射的放射。本发明设备的结构不要求探头抽真空或在探头内使用高电压。通过调换探头，尤其是改变其尺寸和作用在病理区上的照射的能量和方向，易于变换它的结构设计。可拆卸的探头简化了它的消毒。
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公开(公告)号：CN1284978C
公开(公告)日：2006-11-15
申请号：CN02819611.2
申请日：2002-10-02
Applicant: 卡尔赛斯半导体制造技术股份公司
CPC classification number: B82Y10/00 , G02B5/08 , G02B5/0816 , G03F7/70916 , G03F7/70958 , G21K1/062 , G21K2201/067 , Y10T428/24942 , Y10T428/2495
Abstract: 为了减少在衬底上包含多层系统的光学元件的沾污，提出了将多层系统的至少一个层的层材料和/或层厚度选择成使在辐照的工作波长的反射过程中形成的驻波在多层系统的自由界面区域中形成电场强度的节点(节点条件)。而且，描述了用来确定多层系统的设计的方法以及制造工艺和光刻设备。
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公开(公告)号：CN1854771A
公开(公告)日：2006-11-01
申请号：CN200610079943.3
申请日：2006-04-26
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·M·J·W·范赫尔彭 , L·P·巴克 , V·Y·巴尼纳 , D·J·W·克伦德
CPC classification number: G02B1/10 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G02B5/0816 , G02B5/0891 , G02B5/283 , G03F1/24 , G03F7/70575 , G03F7/70958 , G21K1/062 , G21K2201/067
Abstract: 多层反射镜包括位于多层反射镜顶部的光谱纯度增强层，其比如可用于EUV光刻设备。这个光谱纯度增强层包括第一光谱纯度增强层，但是介于多层反射镜和第一光谱纯度增强层之间可存在有中间层或者第二光谱纯度增强层和中间层。因此，具有下列配置的多层反射镜是可能的：多层反射镜/第一光谱纯度增强层；多层反射镜/中间层/第一光谱纯度增强层；以及多层反射镜/第二光谱纯度增强层/中间层/第一光谱纯度增强层。可提高正入射辐射的光谱纯度，以使DUV辐射的减少相对EUV辐射更强。
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公开(公告)号：CN1144237C
公开(公告)日：2004-03-31
申请号：CN00802292.5
申请日：2000-05-30
Applicant: 穆鲁丁阿布贝克诺维奇·库马科夫
Inventor： 穆鲁丁阿布贝克诺维奇·库马科夫
CPC classification number: C03B23/047 , A61N5/10 , A61N2005/1091 , A61N2005/1095 , B82Y10/00 , C03B23/0473 , G03F7/70166 , G03F7/70216 , G21K1/06 , G21K2201/067 , Y02P40/57
Abstract: 一种本发明通过透镜装置可增强辐射的集成程度，使用高能量的粒子，并改善装置的参数，使用该参数取决于上述因素的透镜。该透镜有一组具有各种集成(合)度的小透镜(18和19)，其中有最低级集成(合)度的透镜采用一种管道(通道)形式。小透镜由发明性工作产生，其中在管道内的气体媒质的压力比先前集成度的小透镜之间的间隙的压力大，且温度足够地使小透镜的材料软化，从而粘到墙壁上。
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