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公开(公告)号：CN115128721B
公开(公告)日：2024-06-25
申请号：CN202210664611.0
申请日：2022-06-14
申请人： 浙江美迪凯光学半导体有限公司
摘要： 本发明涉及滤光片技术领域，且公开了一种红外三波峰膜系结构，其特征在于：包括基板、第一匹配膜系、主膜膜系、第二匹配膜系；所述主膜膜系依次由第一多层膜通带、耦合层、多层膜长波通带、耦合层、第二多层膜通带、第三多层膜通带组成。本发明公开了一种红外三波峰膜系，使其满足入射角在0°‑30°时折射偏移＜12nm的要求。
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公开(公告)号：CN115807207B
公开(公告)日：2024-06-18
申请号：CN202111071468.6
申请日：2021-09-14
申请人： 中国科学院上海技术物理研究所
摘要： 本发明公开了一种用于空间遥感系统的近红外滤光片的制作方法，涉及光学薄膜技术领域。其包括步骤：制备Si膜层和SiO2膜层，获取所述膜层的第一光学厚度，进行退火处理；获取经退火处理后的Si膜层和SiO2膜层的光学常数及第二光学厚度；根据所述光学常数，计算滤光片的膜系；根据光学厚度的变化量，计算所述滤光片的修正监控膜系；在修正监控膜系的光学监控下制备所述滤光片，并进行退火处理，制得近红外滤光片。本发明提供的一种用于空间遥感系统的近红外滤光片的制作方法，其制备的近红外滤光片具有高透过率和高环境稳定性等优点。
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公开(公告)号：CN118186339A
公开(公告)日：2024-06-14
申请号：CN202410136679.0
申请日：2024-01-31
申请人： 南京理工大学
IPC分类号： C23C14/16 , C23C14/08 , C23C14/10 , C23C14/06 , C23C14/30 , C23C14/58 , C23C14/54 , B05D1/00 , B05D7/24 , B05D1/38 , F25B23/00 , G16C60/00 , G06N3/126
摘要： 本发明涉及辐射冷却技术领域，公开了一种彩色亚环境辐射冷却薄膜及其制备方法，此辐射冷却薄膜包括，多层膜结构，其包括交替层叠的金属层和非金属层，金属层选自Al、Au、Ag、Ti中的一种；非金属层选自Al2O3、SiO2、ZnS、TiO2、WO3、Si3N4中的一种；聚合物发射器，设置于多层膜结构的表面；本发明中，通过对基于Fabry‑Perot共振的多层膜结构的优化设计，将单峰的减法色系扩大到加法色系，色域面积提高180％；同时以RGB色值和太阳光反射率为目标函数，实现对色彩精确控制；聚合物发射器固化在多层膜结构的表面，提供高红外发射率，同时对共振结构起到封装保护的作用。其表面的柱状光栅结构减小了与空气之间的阻抗失配，进一步提高了红外发射率，弥补了冷却功率损失。
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公开(公告)号：CN114402090B
公开(公告)日：2024-06-14
申请号：CN202080064516.6
申请日：2020-10-09
摘要： 在成膜室(2a)的内部至少设置蒸镀材料和基板(S)，通过排气和/或提供不改变蒸镀材料的组成的气体，将所述成膜室(2a)的内部的包含所述基板(S)的第1区域(A)设定为0.05Pa～100Pa的气氛，将所述成膜室(2a)的内部的包含所述蒸镀材料的第2区域(B)设定为0.05Pa以下的气氛，在上述的状态下，通过真空蒸镀法，在第2区域(B)中使蒸镀材料蒸发，在第1区域(A)中将蒸发出的蒸镀材料成膜在被蒸镀物上。
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公开(公告)号：CN118166352A
公开(公告)日：2024-06-11
申请号：CN202311589679.8
申请日：2023-11-27
申请人： 阿自倍尔株式会社
发明人： 汤山真由美
IPC分类号： C23C28/04 , C23C16/455 , C23C16/34 , C23C16/40 , C23C14/06 , C23C14/10 , G01K7/16 , G01F1/68
摘要： 本发明涉及一种保护膜的形成方法。形成覆盖测定被测定流体的流量的传感器所具备的测温电阻体(13)而保护测温电阻体(23)不受被测定流体影响的保护膜(23)。该保护膜(23)的形成方法具备：第1步骤，通过原子层沉积法形成覆盖测温电阻体(13)的第1绝缘层(23A)作为保护膜(23)的最下层；第2步骤，在第1绝缘层(23A)上通过化学气相生长法或物理气相生长法形成第2绝缘层(23B)作为保护膜(23)的中间层；以及第3步骤，通过原子层沉积法在第2绝缘层(23B)上形成第3绝缘层(23C)作为保护膜(23)的最上层。
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公开(公告)号：CN118166313A
公开(公告)日：2024-06-11
申请号：CN202410356992.5
申请日：2024-03-27
申请人： 洛阳理工学院
IPC分类号： C23C14/04 , C23C14/35 , C23C14/16 , C23C14/58 , C23C14/06 , C23C14/10 , C23C14/08 , C23C4/02 , C23C4/11 , C23C4/10 , C23C4/06 , C23C4/08 , C23C4/18
摘要： 本发明提出了一种耐磨无机不沾涂层的制备方法，利用液相镀膜法制得网状开裂模板图形，并利用真空镀膜技术在其表面制备无机厚膜；本发明以网状开裂模板图形作掩膜板，使开裂涂层的缝隙中存有与基片连接的无机厚膜，得到基片‑开裂涂层‑无机厚膜三层结构的镀层；再经液相溶液法或高温气化法去除镀层中具有自开裂性质的涂层以及开裂涂层表面的无机厚膜，此时基片上凸起的硬质网状结构即为本发明制得的耐磨无机不沾涂层；本发明制得的耐磨无机不沾涂层具有良好的疏水性且不含任何有机成分，同时不沾涂层的网状结构增加了不沾涂层的硬度和耐磨性，有利于长期使用；本发明的制备成本低廉，易实现大规模工业化生产，具有广阔的应用前景。
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公开(公告)号：CN115787288B
公开(公告)日：2024-05-28
申请号：CN202211624832.1
申请日：2022-12-16
申请人： 江苏先诺新材料科技有限公司
IPC分类号： D06M11/79 , C23C14/10 , C23C14/35 , C23C14/54 , C08J5/06 , C08L63/00 , C08L79/04 , C08L79/08 , C08L61/34 , D06M101/30
摘要： 本发明涉及一种聚酰亚胺纤维表面改性方法及其应用，该方法包括以下步骤：采用磁控溅射在聚酰亚胺纤维表面沉积二氧化硅，进行表面改性，所述磁控溅射用氩离子对聚酰亚胺纤维清洗2～10min，以所述聚酰亚胺纤维为基材，以SiO2为靶材，以高纯度氩气为工作气体，以电离的氩离子轰击SiO2靶。聚酰亚胺纤维采用本发明方法进行表面改性后，纤维和树脂的界面剪切强度有明显提升，同时纤维压缩强度有明显提升。
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公开(公告)号：CN114150283B
公开(公告)日：2024-05-28
申请号：CN202111444719.0
申请日：2021-11-30
申请人： 广州市中禧珠宝有限公司
发明人： 刘丽丽
摘要： 本发明提供了一种首饰表面抗氧化膜的制备方法，将待处理首饰作为阳极，硅靶材作为阴极，先在氩气氛围下经一次磁控溅射在待处理首饰表面形成硅膜，可以有效阻隔氧气与首饰表面的接触，杜绝首饰被氧化变色，随后充入氧气经二次磁控溅射将灰色的硅膜氧化成无色透明的二氧化硅膜，并进一步将硅离子氧化成二氧化硅沉积，使得二氧化硅膜明显增厚。本发明所述制备方法不仅可以在二氧化硅膜制备中避免首饰被氧化发黄发黑的问题，还可以利用更厚的二氧化硅膜提高首饰的透明度、耐磨性、光泽度和抗氧化等性能，而且降低了对待处理首饰材质的限制。
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公开(公告)号：CN118068459A
公开(公告)日：2024-05-24
申请号：CN202410120947.X
申请日：2024-01-29
申请人： 杭州美迪凯光电科技股份有限公司
摘要： 本发明提供一种兼顾低透低反和低透高反的膜层结构及其制备方法，该膜层结构包括膜面部分和基底部分，所述膜面部分具有低透低反功能，所述基底部分具有低透高反功能，所述基底部分的膜层结构包括基板层和基底金属层，所述基底金属层设置在所述基板层与所述膜面部分之间，所述膜面部分的膜层结构包括介质膜和膜面金属层，所述膜面金属层设置在所述介质膜与所述基底部分之间。根据各层需要的原料材质，在30℃‑500℃，镀膜真空3.0×10‑3Pa以上，以速率0.1A‑100A/S进行镀膜即可。本发明性能优越，满足了膜层结构适用于环境多样场景，应用广泛。
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公开(公告)号：CN118064854A
公开(公告)日：2024-05-24
申请号：CN202410119404.6
申请日：2024-01-27
申请人： 淮安亮谷光电科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种基于红外线环型圆柱体加热灯管一次成型镀膜制备方法，涉及成型镀膜技术领域，该一种基于红外线环型圆柱体加热灯管一次成型镀膜制备方法包括S1前处理、S2溅射镀膜、S3后处理三步，S2包含工件夹具、角度调节、安装固定转动方式等，利用高速离子轰击靶材表面，使得靶材原子或分子从表面脱离并沉积在基材上形成涂层。溅射镀膜能够得到高质量、致密、均匀的涂层，具有优异的附着力和光学性能，通过调整靶材的成分、工艺参数等，对薄膜的厚度、成分、结构等进行精确控制，能够满足不同应用需求，解决镀膜过程中，存在着颜色，色差不一致，不均匀，有部分位置死角镀不到的技术问题。
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