抗蚀剂材料及图案形成方法
    41.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116804822A

    公开(公告)日:2023-09-26

    申请号:CN202310290323.8

    申请日:2023-03-23

    Inventor: 畠山润

    Abstract: 本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明课题提供高感度,且LWR、CDU有所改善的抗蚀剂材料、及使用其的图案形成方法。解决手段是一种抗蚀剂材料,包含含有下式(1)表示的锍盐的淬灭剂。#imgabs0#

    抗蚀剂材料及图案形成方法
    43.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116560190A

    公开(公告)日:2023-08-08

    申请号:CN202310052429.4

    申请日:2023-02-02

    Abstract: 本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供为高感度且LWR、CDU经改善的抗蚀剂材料、以及使用其的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂材料,含有:包含具有由键结于聚合物主链的磺酸阴离子与下式(1)表示的锍阳离子构成的盐结构的重复单元a的基础聚合物。

    抗蚀剂材料及图案形成方法
    44.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116500862A

    公开(公告)日:2023-07-28

    申请号:CN202310057731.9

    申请日:2023-01-18

    Abstract: 本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题提供为高感度且LWR、CDU经改善的抗蚀剂材料、以及使用其的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂材料,含有:包含下式(1)表示的锍盐的酸产生剂。

    抗蚀剂材料及图案形成方法
    45.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116500860A

    公开(公告)日:2023-07-28

    申请号:CN202310055729.8

    申请日:2023-01-18

    Abstract: 本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题提供为高感度且LWR、CDU经改善的抗蚀剂材料、以及使用其的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂材料,含有:包含下式(1)表示的锍盐的酸产生剂。式中,RAL为具预定芳香族基的环状仲或叔酯型酸不稳定基团。

    导电聚合物复合体及导电聚合物组合物

    公开(公告)号:CN111548708A

    公开(公告)日:2020-08-18

    申请号:CN202010082422.3

    申请日:2020-02-07

    Abstract: 本发明提供一种导电聚合物复合体及其组合物,其通过在掺杂聚合物中加入新型非掺杂性氟化单元,提高成膜时的水的挥发效率,进一步,通过用该非掺杂性氟化单元替换产生剩余酸的酸单元,降低H+的产生,其过滤性良好且成膜性良好,在形成膜时能够形成透明性高且平坦性良好的膜。该导电聚合物复合体的特征在于,其含有:(A)π共轭类聚合物;及(B)由含有下述通式(1)所表示的重复单元a、与选自下述通式(2-1)~(2-7)所表示的重复单元中的一种或两种以上的重复单元b的共聚物形成的掺杂聚合物。[化学式1]

    伸缩性配线膜及其形成方法

    公开(公告)号:CN111385968A

    公开(公告)日:2020-07-07

    申请号:CN201911348345.5

    申请日:2019-12-24

    Inventor: 畠山润

    Abstract: 本发明的课题是为了提供伸展时导电性的降低少,且膜表面的拨水性优良的伸缩性配线膜及其形成方法。一种伸缩性配线膜,含有:(A)伸缩性膜,至少表面由含有有机硅聚氨酯树脂的伸缩性膜材料的固化物构成,且该伸缩性膜的表面形成有深度为0.1μm~5mm、节距为0.1μm~10mm的范围的凹凸的重复图案,及(B)伸缩性配线;其特征为:在该伸缩性膜的形成有该凹凸的重复图案的表面上形成有该伸缩性配线。

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