一种模块化多电平变流器子模块分组阶梯波调制方法

    公开(公告)号:CN103199729B

    公开(公告)日:2016-01-20

    申请号:CN201310122375.0

    申请日:2013-04-10

    CPC classification number: H02M7/483 H02M2007/4835

    Abstract: 本发明提供一种模块化多电平变流器子模块分组阶梯波调制方法,包括以下步骤:将换流链中的子模块分成N个子模块组;将子模块组的参考电压取整,得到取整后的参考阶梯波电压Vstair_wave;分配触发脉冲给子模块组内部的子模块;子模块组之间进行均压。本发明中,将子模块分成N个子模块组,每个子模块组视为一个可控电压源,子模块组内采用阶梯波调制,N个子模块组采用取整修正量,可以达到类似于载波移相的目的,子模块组之间采用恰当的均压控制方式进行稳压控制,简化了阶梯波调制的复杂度,大大降低了调制算法及均压控制算法对软硬件的要求。

    一种大功率压接式IGBT封装模块夹具

    公开(公告)号:CN104795348A

    公开(公告)日:2015-07-22

    申请号:CN201510213686.7

    申请日:2015-04-29

    CPC classification number: H01L21/68707

    Abstract: 本发明提供一种大功率压接式IGBT封装模块夹具,所述夹具包括竖直设置的绝缘支撑杆,水平方向由下至上依次设置的下端承重法兰组套、下端引出排、下方水冷散热组套、中间引出排、上方水冷散热组套、上端引出排和上端夹具法兰组套,上、下方水冷散热组套两侧安装有电容组件和阻尼电阻组件,其另外两侧分别安装有散热器水路组件以及短路板、驱动板和导线槽组件;所述上、下方水冷散热组套包括竖直方向相互平行的其间夹有所述压接式IGBT封装模块的水冷散热器,所述水冷散热器表面电镀镍。本发明提供的大功率压接式IGBT封装模块夹具整体结构更加简单紧凑、制作和装配更加简便、布局更加合理、可靠性更高、散热性能更好。

    一种用于新能源并网的谐振升压装置

    公开(公告)号:CN103001502A

    公开(公告)日:2013-03-27

    申请号:CN201210456865.X

    申请日:2012-11-14

    CPC classification number: Y02E60/60

    Abstract: 本发明涉及电力电子领域,具体涉及一种用于新能源并网的谐振升压装置,包括谐振升压环节和整流环节,在所述谐振升压环节与整流环节之间设有隔离变压器;所述谐振升压环节包括直流电源DC、低压大电容C0、高压小电容C1、全桥电路和谐振电抗器L1;所述低压大电容C0并联在直流电源DC的两端;所述低压大电容C0、全桥电路、谐振电抗器L1和高压小电容C1依次连接;所述谐振电抗器L1连接在全桥电路和高压小电容C1之间。本发明提供的谐振升压环节代替目前采用的高压大容量VSC整流器和DC/DC装置,降低技术难度,节约成本,满足目前风电并网技术的要求,对风电技术的发展具有重要的作用。本发明所描述的谐振升压环节优化了半桥谐振升压环节结构,提高了输送效率。

    一种大功率压接式IGBT封装模块压装测试夹具

    公开(公告)号:CN106706963B

    公开(公告)日:2024-05-31

    申请号:CN201510451005.0

    申请日:2015-07-28

    Abstract: 本发明提供一种大功率压接式IGBT封装模块压装测试夹具,包括水平方向由下至上依次压接的第一固定板组套、第一导电板、第一水冷散热组套、第二导电板、第二水冷散热组套、第三导电板和第二固定板组套,竖直方向设置的水路主管和绝缘支撑杆;水路主管通过水路支管与第一、第二水冷散热组套相连,绝缘支撑杆设于第一固定板组套和第二固定板组套之间;第二固定板组套包括顶压柱和中部留有通孔的第二固定板,顶压住包括一体成型的底座和支柱,底座与第三导电板压接,支柱伸入通孔内;底座与第二固定板之间设有补偿调换垫片,补偿调换垫片为金属垫片。这种夹具易于操作、便于维护、整体结构更加简单紧凑、布局合理、可靠性和稳定性更好、散热性能更好。

    一种碳化硅外延材料及其制备方法

    公开(公告)号:CN104465721B

    公开(公告)日:2019-05-14

    申请号:CN201410737773.8

    申请日:2014-12-05

    Abstract: 本发明提供了一种碳化硅外延材料。所述碳化硅外延材料包括:N+碳化硅单晶衬底层,位于衬底下面的P+支撑层和位于衬底表面的N‑漂移层,其制备方法包括以下步骤:1、N+型衬底的准备;2、对N+型衬底的背面化学机械抛光;3、在背面进行P+支撑层的生长;4、N+型衬底正面的减薄;5、正面化学机械抛光;6、在正面进行N‑型漂移层的生长。相对于传统碳化硅外延材料而言,采用本发明提供的外延材料P+支撑层电阻率低并且均匀性高,满足高压器件的需求。同时,该外延材料缺陷少,制作方法简单,工艺重复性好,适合工业化生产。

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