有机溶剂的处理方法及处理材料

    公开(公告)号:CN113631269B

    公开(公告)日:2022-11-18

    申请号:CN202080024017.4

    申请日:2020-03-10

    Abstract: 一种有机溶剂的处理方法,从电子部件制造工序中使用的有机溶剂中去除微粒,所述有机溶剂的处理方法的特征在于,包括使处理材料与所述有机溶剂接触的工序,所述处理材料是在水中具有正电荷或负电荷且含水率为3质量%以上的处理材料。一种面向电子部件制造工序的有机溶剂处理材料,通过与电子部件制造工序中使用的有机溶剂接触从而从有机溶剂中去除微粒,所述有机溶剂处理材料在水中具有正电荷或负电荷。

    超纯水制造系统
    42.
    发明授权

    公开(公告)号:CN108779006B

    公开(公告)日:2021-05-28

    申请号:CN201780019033.2

    申请日:2017-03-24

    Abstract: 本发明提供一种超纯水制造系统,其能够除去水中的粒径20nm以下、特别是10nm以下的微粒,能够高效率且高水量制造超纯水。超纯水制造系统具备预备处理装置、及处理该预备处理装置的处理水的全量过滤装置。该预备处理装置以其处理水中的微粒数成为800~1200个/mL(粒径20nm以上)的方式进行处理。全量过滤装置作为过滤膜具备精密过滤膜或超滤膜,精密过滤膜的膜表面的孔径在0.05~1μm的范围的细孔的开口率为50~90%,膜厚为0.1~1mm;超滤膜的膜表面的孔径在0.005~0.05μm的范围的细孔数为1E13~1E15个/m2,膜厚为0.1~1mm,透过流束为10m3/m2/天时的膜间差压为0.02~0.10MPa。

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