抗反射玻璃基底及其制造方法

    公开(公告)号:CN105917252B

    公开(公告)日:2019-05-28

    申请号:CN201580004980.5

    申请日:2015-01-05

    CPC classification number: G02B1/11 C03C15/00 G02B1/12 G02B1/18 G02B2207/107

    Abstract: 提供了一种包括具有距表面预定深度的抗反射层的抗反射玻璃基底,所述抗反射玻璃基底的特征在于:抗反射层具有相继从表面开始的深度方向设置的第一层和第二层的至少两层,第一层和第二层中的每个具有多个气孔,第一层的孔隙率小于第二层的孔隙率。此外,提供了一种制造抗反射玻璃基底的方法,所述方法顺序包括利用第一蚀刻液体蚀刻玻璃基底的步骤和利用第二蚀刻液体蚀刻玻璃基底的步骤,所述方法的特征在于:第一蚀刻液体的多价金属离子的摩尔浓度大于第二蚀刻液体的多价金属离子的摩尔浓度。提供了一种制造抗反射玻璃基底的方法,所述方法顺序包括利用第一蚀刻液体蚀刻玻璃基底的步骤和利用第二蚀刻液体蚀刻玻璃基底的步骤,所述方法的特征在于:第一蚀刻液体的氢氧化物和氟化物的摩尔浓度小于第二蚀刻液体的氢氧化物和氟化物的摩尔浓度。

    制造用于有机发光二极管的光提取基底的方法、用于有机发光二极管的光提取基底以及包括该光提取基底的有机发光二极管

    公开(公告)号:CN107112435B

    公开(公告)日:2019-05-03

    申请号:CN201580071172.0

    申请日:2015-12-18

    Abstract: 本发明涉及制造用于有机发光二极管的光提取基底的方法、用于有机发光二极管的光提取基底以及包括该光提取基底有机发光二极管,更具体地,涉及制造用于有机发光二极管的光提取基底的方法、用于有机发光二极管的光提取基底以及包括该光提取基底有机发光二极管,所述方法通过在基质层上形成可以引起由有机发光二极管发射的光的散射的裂纹来使发射的光的路径复杂化或多样化,从而进一步改善有机发光二极管的光提取效率。为此,本发明中提供一种制造用于有机发光二极管的光提取基底的方法,所述方法包括:混合物制备步骤,通过将包含第一金属氧化物的溶胶‑凝胶溶液与由具有与第一金属氧化物的折射率不同的折射率的第二金属氧化物组成的多个散射颗粒混合来制备混合物;混合物涂覆步骤,在基体基底上涂覆混合物;混合物烧制步骤,烧制已经被涂覆的混合物,以在基体基底上形成基质层,所述基质层包括第一金属氧化物,并且多个散射颗粒分散在基质层的内部,其中,在混合物烧制步骤中,由于基体基底与第一金属氧化物之间的热膨胀系数(CTE)的差异,在基质层上形成能够引起由有机发光二极管发射的光的散射的裂纹。

    用于有机发光元件的光提取基底及包括其的有机发光元件

    公开(公告)号:CN106716670B

    公开(公告)日:2019-01-18

    申请号:CN201580051733.0

    申请日:2015-09-18

    Abstract: 本发明涉及一种用于有机发光元件的光提取基底以及包括该光提取基底的有机发光元件,更具体地,涉及通过优化能够使散射效率最大化的堆叠结构来能够提高有机发光元件的光提取效率的用于有机发光元件的光提取基底。为此,本发明提供了用于有机发光元件的光提取基底以及包括该光提取基底的有机发光元件,所述光提取基底包括:基体基底;多个光散射物体,布置在基体基底上;基质层,形成在基体基底上,以覆盖多个光散射物体;平坦化层,形成在基质层上并且其表面与有机发光元件接触,其中,覆盖基质层、平坦化层和光散射物体中的至少一者具有不同的折射率。

    用于使玻璃基底成型的装置

    公开(公告)号:CN105849055B

    公开(公告)日:2018-08-03

    申请号:CN201480060412.2

    申请日:2014-11-04

    CPC classification number: C03B23/0357 C03B2215/50

    Abstract: 本发明涉及种用于使玻璃基底成型的装置,更具体地,涉及种下述用于使玻璃基底成型的装置,所述装置能够以3D形状形成玻璃基底并防止真空孔的形状转移到基底的表面上。为此,本发明提供种用于使玻璃基底成型的装置,所述装置包括:成型框架;成型凹进,形成在成型框架的个表面上;至少个真空孔,在成型凹进的下部分处形成在成型框架上并连接到外部真空装置;以及减压凹进,形成在成型凹进和真空孔之间并允许成型凹进与真空孔之间相通,以减小通过真空孔施加到位于成型凹进上的玻璃基底的真空压力。

    用于检测基板的边缘的设备

    公开(公告)号:CN104777168B

    公开(公告)日:2018-06-05

    申请号:CN201510020858.9

    申请日:2015-01-15

    Inventor: 成始澔

    Abstract: 一种用于检测基板的边缘的设备可以检测基板的边缘部分的缺陷或倒角宽度。第一直角棱镜和第二直角棱镜被设置在所述边缘部分的上方和下方,使得该第一直角棱镜的倾斜表面和该第二直角棱镜的倾斜表面朝向所述边缘部分的上表面和下表面。发光部件用光照射所述基板的边缘部分。拍摄部件被设置为邻近所述边缘部分。所述拍摄部件由已经通过所述第一直角棱镜的光拍摄所述边缘部分的上表面的图像,由已经通过所述第二直角棱镜的光拍摄所述边缘部分的下表面的图像,并拍摄所述边缘部分的端表面的图像。

    片制造方法和制造装置
    60.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105683073B

    公开(公告)日:2017-05-31

    申请号:CN201480060403.3

    申请日:2014-10-30

    CPC classification number: B65H35/04 B65H2801/61 C03B33/0235

    Abstract: 本发明提供了一种片制造方法,包括:从其上卷绕有物体的辊供应物体的退绕步骤;供给供应的物体的供给步骤;以及切割供给的物体切割步骤,其中,切割包括沿物体的宽度方向切割物体的片切割。此外,本发明提供了一种片制造装置,包括:用于从其上卷绕有物体的辊供应物体的退绕部分;用于供给供应的物体的供给部分;以及对于供给的物体的切割部分,其中,切割包括沿物体的宽度方向切割物体的片切割。

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