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公开(公告)号:CN112094396A
公开(公告)日:2020-12-18
申请号:CN202010550604.9
申请日:2020-06-16
Applicant: SKC株式会社
IPC: C08G18/76 , C08G18/75 , C08G18/66 , C08G18/48 , C08G18/32 , C08G18/12 , C08J9/04 , C08L75/08 , B24B37/24 , B24B1/00 , H01L21/3105
Abstract: 根据本发明的组合物可调节聚氨酯类预聚物中的一个NCO基团反应过的甲苯2,4‑二异氰酸酯及未反应的甲苯2,6‑二异氰酸酯的重量比,以控制胶凝时间等物性。因此,通过固化根据本发明的组合物来获得的抛光垫既具有适合于软垫的硬度又可以控制抛光率和垫切割率,从而利用上述抛光垫可有效地制造出高质量的半导体器件。
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公开(公告)号:CN112004797A
公开(公告)日:2020-11-27
申请号:CN201980028035.7
申请日:2019-04-25
Applicant: SKC株式会社
IPC: C07C319/08 , C07C319/28 , C07C321/04
Abstract: 根据一个实施例,在以与常规方法相似的方式产生多元硫醇时,通过调节反应条件以便防止硫脲残留在产物内,可以以常规方式产生具有改善的储存稳定性的多元硫醇。特别地,反应中使用的硫脲的当量重量可以调节至预定的范围,从而减少未反应的硫脲的量,并且可以在随后的工艺中再一次除去硫脲,从而在实现高产率的同时有效地除去残留的硫脲。由此产生的多元硫醇不含残留的硫脲,并且因此即使在延长的储存或高温条件下也没有示出由沉淀物引起的变色或混浊。
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公开(公告)号:CN111975655A
公开(公告)日:2020-11-24
申请号:CN202010274916.1
申请日:2020-04-09
Applicant: SKC株式会社
Abstract: 本发明提供了一种抛光垫,其交联密度被调节以增强CMP工艺的性能,例如抛光速率和垫磨削速率。另外,在根据本实施方案的抛光垫的制备方法中,可以通过控制用于固化的模具的预热温度的简单方法来实现这种交联密度。因此,可以将所述抛光垫应用于包括CMP工艺的制备半导体器件的工艺中,以提供具有优异品质的半导体器件,例如晶圆。
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公开(公告)号:CN111745534A
公开(公告)日:2020-10-09
申请号:CN202010222116.5
申请日:2020-03-26
Applicant: SKC株式会社
IPC: B24B37/24 , B24D11/00 , H01L21/304
Abstract: 本发明公开了一种使缺陷发生率最小化的抛光垫及其制备方法。由于所述抛光垫包含具有壳的细小空心颗粒,所述壳的玻璃化转变温度(Tg)可调节,从而可控制所述壳的硬度和抛光层表面上的微孔的形状。由于所述抛光层中的Si含量可调节,从而可以防止由硬质添加剂引起的半导体衬底的表面损伤。因此,所述抛光垫可以在CMP工艺期间提供高的抛光速率,同时能够使诸如在半导体衬底表面上的划痕等的缺陷的发生率最小化。
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公开(公告)号:CN111378085A
公开(公告)日:2020-07-07
申请号:CN201911363418.8
申请日:2019-12-26
Applicant: SKC株式会社
IPC: C08G18/12 , C08G18/66 , C08G18/48 , C08G18/32 , C08L75/08 , C08J9/12 , C08J9/14 , C08J9/228 , B24B37/24 , H01L21/306 , C08G101/00
Abstract: 本发明的组合物可通过调节构成氨基甲酸酯类预聚物内的链的低聚物的组成来控制凝胶时间等的物性。因此,固化本发明的组合物来获取的研磨垫可控制微细孔特性、研磨率及垫切割率,可利用上述研磨垫来有效制备高质量的半导体器件。
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公开(公告)号:CN108581822B
公开(公告)日:2020-06-05
申请号:CN201810493229.1
申请日:2018-05-22
Applicant: SKC株式会社
Abstract: 本发明实施方式涉及一种多孔聚氨酯抛光垫及采用该抛光垫制备半导体器件的方法。所述多孔聚氨酯抛光垫包括聚氨酯类预聚物和固化剂,所述抛光垫的厚度为1.5‑2.5mm,具有平均直径为10‑60μm的多个孔,抛光垫的比重为0.7‑0.9g/cm3,25℃下的表面硬度为45‑65Shore D,抗拉强度为15‑25N/mm2,延伸率为80‑250%,从与待抛光的物体直接接触的抛光表面至预定深度测得的AFM(原子力电子显微镜)弹性模量为30‑100MPa,其中,所述预定深度为距抛光表面1‑10μm的深度。
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公开(公告)号:CN107452461B
公开(公告)日:2020-04-14
申请号:CN201710398939.1
申请日:2017-05-31
Applicant: SKC株式会社
Abstract: 本发明公开一种磁性片,该磁性片具有改善的耐酸/耐碱性,耐腐蚀性,并具有在NFC、WPC、MST频率下优异的磁性能,并且即使在环境发生变化时,例如,在图案蚀刻过程中所进行的蚀刻处理或者在为将磁性片应用到产品上所进行的诸如回流等焊接处理时,该磁性片在重量和厚度上几乎不发生改变。
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公开(公告)号:CN110703378A
公开(公告)日:2020-01-17
申请号:CN201910614495.X
申请日:2019-07-09
Applicant: SKC株式会社
IPC: G02B5/30 , G02B1/14 , G02F1/1335
Abstract: 本发明的包括依次层叠聚酯基材层、底涂层及硬涂层而成的层叠体的光学多层膜可通过调节上述基材层的面内相位差和各个层的折射率,来可在防止彩虹斑点和可视性下降的同时提高机械物性。因此,包括上述光学多层膜的光学部件及显示装置具有良好的光学特性,即使在严苛的环境下,也可正常运行。
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公开(公告)号:CN110315821A
公开(公告)日:2019-10-11
申请号:CN201811243520.X
申请日:2018-10-24
Applicant: SKC株式会社
IPC: B32B27/06 , B32B27/18 , B32B27/20 , B32B27/22 , B32B27/30 , B32B17/10 , B32B33/00 , C08K5/103 , C08K5/3475 , C08L29/14 , B60R1/00 , H04N5/225
Abstract: 本发明涉及透光性层叠体用中间膜、透光性层叠体、汽车用摄像系统。透光性层叠体用中间膜在其整个面的一部分或全部上具有光致变色层,所述光致变色层包含聚乙烯醇缩醛树脂、增塑剂及光致变色染料,其中,所述中间膜包含紫外线吸收剂,所述紫外线吸收剂在吸收光谱中的315nm以上且小于325nm的区域和在360nm以上且小于365nm的区域中不具有峰值。本发明的光致变色中间膜、透光性层叠体等可以满足适合用于汽车玻璃的耐贯通性、耐冲击性等机械性能且相对长时间保持光致变色特性,因此能够用于车窗、建筑材料等,其使用度很大。
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