公开(公告)号：CN109307985A

公开(公告)日：2019-02-05

申请号：CN201810834820.9

申请日：2018-07-26

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 大桥正树 ,  畠山润 ,  阿达铁平

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明为锍盐、聚合物、抗蚀剂组合物和图案化方法。涂布包含衍生自具有聚合性基团的特定结构的锍盐的重复单元的聚合物，以形成因为改进的LWR、CDU和分辨率而适于精确图案化的抗蚀剂膜。

公开(公告)号：CN107918248A

公开(公告)日：2018-04-17

申请号：CN201710912844.7

申请日：2017-09-30

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 畠山润 ,  大桥正树 ,  佐佐见武志

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/038 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/0045 ,  C08F12/24 ,  C08F212/14 ,  C08F220/28 ,  C08F220/30 ,  C08F2220/283 ,  C08F2220/301 ,  C08F2800/20 ,  C09D125/18 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/2006 ,  G03F7/322 ,  G03F7/38 ,  C08F212/32 ,  G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038

Abstract: 本发明涉及抗蚀剂组合物和图案化方法。本发明提供包含基体聚合物和羧酸或磺酰胺的金属盐的抗蚀剂组合物，金属选自钙、锶、钡、铈、铝、铟、镓、铊、钪和钇。抗蚀剂组合物显示出增敏效果和酸扩散抑制效果，且形成具有改进的分辨率、LWR和CDU的图案。

公开(公告)号：CN107703716A

公开(公告)日：2018-02-16

申请号：CN201710668353.2

申请日：2017-08-08

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 畠山润 ,  大桥正树

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明涉及抗蚀剂材料和图案形成方法。本发明提供在正型抗蚀剂材料和负型抗蚀剂材料中都为高灵敏度且LWR、CDU小的抗蚀剂材料以及使用其的图案形成方法。抗蚀剂材料，其包含基础聚合物和产酸剂，该产酸剂包含由下述式(1-1)表示的锍盐或者由下述式(1-2)表示的碘鎓盐。

公开(公告)号：CN105676591A

公开(公告)日：2016-06-15

申请号：CN201510893730.3

申请日：2015-12-08

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 熊木健太郎 ,  渡边聪 ,  土门大将 ,  畠山润

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明提供收缩材料，其包括包含式(1)的重复单元的聚合物和含有抗消失性溶剂的溶剂。通过将包含基础树脂和产酸剂的抗蚀剂组合物涂布到基材上以形成抗蚀剂膜、曝光、在有机溶剂显影剂中显影以形成负型抗蚀剂图案、将该收缩材料涂布到该图案上和用有机溶剂将过量的收缩材料除去以由此使该图案中的孔和/或狭缝的尺寸收缩，从而形成图案。

公开(公告)号：CN102253600B

公开(公告)日：2014-09-24

申请号：CN201110141668.4

申请日：2011-02-25

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 增永惠一 ,  渡边聪 ,  畠山润 ,  大泽洋一 ,  土门大将

IPC: G03F7/038 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/0382 ,  G03F1/14 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  Y10S430/11 ,  Y10S430/111

Abstract: 提供了一种化学放大负性抗蚀剂组合物，包括(A)可溶于碱的基础聚合物，(B)酸产生剂和(C)含氮化合物，所述基础聚合物(A)在酸催化作用下变为碱不溶性。包括在侧链上具有氟化羧酸鎓盐的聚合物作为基础聚合物。用平版印刷法加工该负性抗蚀剂组合物可以形成抗蚀图案，其具有均匀的低酸扩散，LER改善和基材毒化降低的优点。

公开(公告)号：CN120020644A

公开(公告)日：2025-05-20

申请号：CN202411622559.8

申请日：2024-11-14

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 畠山润 ,  大桥正树

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039

Abstract: 本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供无论正型或负型皆为高感度，且LWR、CDU经改善的抗蚀剂材料及使用其的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂材料，含有：经碘化的苯酚化合物的锍盐。

公开(公告)号：CN119805858A

公开(公告)日：2025-04-11

申请号：CN202411399215.5

申请日：2024-10-09

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 畠山润 ,  藤原敬之

IPC: G03F7/004 ,  C07D333/76 ,  C07D333/54 ,  C07C381/12 ,  C07C25/18 ,  C07C309/42 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039

Abstract: 本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供正型或负型皆高感度，且LWR及CDU经改善的抗蚀剂材料、以及使用其的图案形成方法。本发明的解决手段为一种抗蚀剂材料，包含：双鎓盐，其含有具有与具有碘原子或溴原子的芳香族基团连接的α位或β位具有氟原子或三氟甲基的磺酸阴离子结构及与该具有碘原子或溴原子的芳香族基团经由碳数1以上的连接基团进行键结的羧酸阴离子结构的2价阴离子、以及鎓阳离子。

公开(公告)号：CN119689779A

公开(公告)日：2025-03-25

申请号：CN202411313908.8

申请日：2024-09-20

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 畠山润 ,  藤原敬之

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039

Abstract: 本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题为提供无论正型或负型皆为高感度且LWR及CDU经改善的抗蚀剂材料、以及使用其的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂材料，含有：酸产生剂，包含将具有碘原子或溴原子的2个芳香族基团连接而成的芳香族磺酸的鎓盐。

公开(公告)号：CN119439614A

公开(公告)日：2025-02-14

申请号：CN202411039990.X

申请日：2024-07-31

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 畠山润 ,  福岛将大

IPC: G03F7/004

Abstract: 本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供为高感度，且LWR、CDU经改善的抗蚀剂材料以及使用该抗蚀剂材料的图案形成方法。该课题的解决手段是一种抗蚀剂材料，含有：基础聚合物，具有三氟甲氧基苯磺酰胺阴离子、二氟甲氧基苯磺酰胺阴离子、三氟甲氧基苯磺酰亚胺阴离子或二氟甲氧基苯磺酰亚胺阴离子键结于主链而成的锍盐结构。

公开(公告)号：CN119431206A

公开(公告)日：2025-02-14

申请号：CN202411046998.9

申请日：2024-08-01

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 福岛将大 ,  大桥正树 ,  畠山润

IPC: C07C381/12 ,  C07C309/24 ,  C07C25/18 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明涉及鎓盐、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供：在使用高能射线的光学光刻中，溶剂溶解性优异、高感度，且高对比度，又曝光裕度、线宽粗糙度等光刻性能优异的化学增幅抗蚀剂组成物中使用的鎓盐；包含该鎓盐作为光酸产生剂的化学增幅抗蚀剂组成物；以及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。本发明的解决手段为下式(1)表示的鎓盐。#imgabs0#式中，R13及R14中的一者是具有下式(1a)表示的部分结构的基团；#imgabs1#式中，Q1～Q3各自独立地为氢原子、氟原子或碳数1～6的氟化饱和烃基，但当Q1及Q2皆为氢原子时，Q3为氟原子或碳数1～6的氟化饱和烃基。又，Q1～Q3中的氟原子的数量的合计为2以上。