-
-
公开(公告)号:CN113138542A
公开(公告)日:2021-07-20
申请号:CN202110069085.9
申请日:2021-01-19
Applicant: 普因特工程有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 根据本发明一实施例的曝光机用光照射装置及包括其的曝光设备,所述曝光机用光照射装置可提供一种如下的曝光机用光照射装置,其包括:支持部;多个发光部,分别各别地设置在所述支持部的一面,且在外周面设置有生成光的多个发光体;以及多个反射部,分别以与所述多个发光部分别对应的方式各别地设置在所述支持部的所述一面,所述多个反射部被分为反射光的主光轴是水平的第一反射组与反射光的主光轴是倾斜的第二反射组。
-
-
-
-
公开(公告)号:CN107017294B
公开(公告)日:2020-12-29
申请号:CN201610836129.5
申请日:2016-09-21
Applicant: 普因特工程有限公司
IPC: H01L29/78 , H01L21/304
Abstract: 本发明提供了一种阳极氧化膜结构切割方法。所述方法包括:通过沿预定切割线蚀刻具有多个阳极氧化孔隙的阳极氧化膜的一个表面而形成蚀刻的凹槽并且通过加大位于蚀刻的凹槽的内底面上的阳极氧化孔隙的入口而形成直径增加的孔隙的蚀刻步骤;以及沿蚀刻的凹槽切割阳极氧化膜的切割步骤。还提供了一种通过所述切割方法产生的单元阳极氧化膜结构。
-
-
-
-
-