形成抗蚀剂下层膜的组合物及使用该组合物的抗蚀剂图案的形成方法

    公开(公告)号:CN103415809B

    公开(公告)日:2017-03-15

    申请号:CN201280012762.2

    申请日:2012-03-08

    IPC分类号: G03F7/11 H01L21/027

    摘要: 本发明的课题是提供即使在形成膜厚20nm以下的薄膜的情况下,也可以形成没有缺陷的均匀的抗蚀剂下层膜的形成光刻用抗蚀剂下层膜的组合物。作为解决本发明课题的手段涉及一种形成光刻用抗蚀剂下层膜的组合物,其包含:在聚合物链的末端具有下述式(1)所示结构的聚合物、交联剂、用于促进交联反应的化合物以及有机溶剂。(式中,R1、R2以及R3各自独立地表示氢原子、碳原子数1~13的直链状或支链状的烃基、或羟基,上述R1、R2以及R3中的至少1个为上述烃基,m以及n各自独立地表示0或1,在n表示1时上述聚合物的主链与亚甲基结合,在n表示0时上述聚合物的主链与由-O-表示的基团结合。)。

    高溶解性改性环氧树脂组合物

    公开(公告)号:CN105829387A

    公开(公告)日:2016-08-03

    申请号:CN201480068798.1

    申请日:2014-12-10

    IPC分类号: C08G59/16

    摘要: 本发明的课题在于提供液状或固体的具有优异的溶解性及高保存稳定性的环氧树脂组合物。作为解决手段,本发明提供一种改性环氧树脂组合物,其特征在于,含有化合物A和化合物B,所述化合物A由分子内的1~3个缩水甘油基被式(1)(式中,R1及R2各自独立地为烷基、烯基、炔基、芳基、芳烷基、杂环基或它们的卤化、氨基化、硝基化衍生物。)表示的官能团取代的三?(2,3?环氧丙基)?异氰脲酸酯形成,所述化合物B由三?(2,3?环氧丙基)?异氰脲酸酯形成,化合物A的取代前的三?(2,3?环氧丙基)?异氰脲酸酯和化合物B的三?(2,3?环氧丙基)?异氰脲酸酯由基于这两者的总质量为2~15质量%的β型三?(2,3?环氧丙基)?异氰脲酸酯、和余量的α型三?(2,3?环氧丙基)?异氰脲酸酯形成。

    一种环氧丙烯酸型光敏涂料合成方法

    公开(公告)号:CN104356885A

    公开(公告)日:2015-02-18

    申请号:CN201410579025.1

    申请日:2014-10-25

    发明人: 周祖渝

    摘要: 本发明涉及一种环氧丙烯酸型光敏涂料合成方法,包括如下步骤:先用丙烯酸羟乙酯和顺丁烯二酸酐反应生成半酯;用上述丙烯酸羟乙酯与顺酐反应制得的半酯加成物再与环氧树脂或环氧大豆油进行开环反应生成含多个双键端基的光敏预聚物;将光敏顶聚物、活性稀释剂、光引发剂充分混合,静置脱泡样品瓶中存放;将配好的涂料样品涂覆在干净玻片上,涂好的样片放置一定时间,在200W紫外光灯下照射固化,得到环氧丙烯酸型光敏涂料。本发明方法简单、成本低廉、反应平稳、易控制,合成的环氧丙烯酸型光敏涂料光敏性能更加优异。