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公开(公告)号：CN114643157B
公开(公告)日：2023-01-10
申请号：CN202210292582.X
申请日：2022-03-23
申请人： 江苏长川科技有限公司
摘要： 本发明涉及变压器生产技术领域，本发明公开了一种变压器散热片的刷漆设备，包括支撑底座，所述支撑底座的后端设置有匀化装置，且支撑底座的后端与匀化装置的前端固定连接，所述匀化装置的顶端设置有刷漆装置，且匀化装置的顶端与刷漆装置的下表面固定连接。该变压器散热片的刷漆设备，通过散热片工件被弹至抖动件内，强力弹簧具有增大弹性的功能，连杆促进抖动件始终保持一定的倾斜度，防止散热片工件往外侧跑出，促使散热片工件可以更好的进行收集，最终可以通过往外抽动支撑底座而将刷好的散热片工件进行取出，保证内部具有全面刷漆后回收便利的效果，实现快速内部漆液分布均匀的效果产生。
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公开(公告)号：CN115502048A
公开(公告)日：2022-12-23
申请号：CN202211270221.1
申请日：2022-10-17
申请人： 苏州苏纳光电有限公司
发明人： 刘林韬
摘要： 本发明公开了一种改善匀胶趋势和均匀性的光刻胶匀胶装置、方法及应用。所述光刻胶匀胶装置包括承载结构以及稳流结构，所述承载结构能够进行匀胶处理，所述稳流结构至少包括盖板；还包括扰流结构，所述扰流结构设置于所述盖板面向所述承载结构的一面，且与所述胶液膜层无接触；当所述基底旋转时，所述扰流结构产生湍流，所述湍流至少能够作用于所述胶液膜层的待改善区域。本发明所提供的光刻胶匀胶装置及方法在保证整体匀胶均匀性的基础上，能够可控地产生胶膜厚度的趋势性分布，使所形成的光刻胶膜层能够准确地匹配后续制程的反应速率差异，进而能够带来整体制程的优异加工精度和良率。
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公开(公告)号：CN108604535B
公开(公告)日：2022-12-20
申请号：CN201780008307.8
申请日：2017-02-03
申请人： 株式会社斯库林集团
IPC分类号： H01L21/027 , B05C11/08 , G03F7/30 , G03F7/32 , H01L21/304
摘要： 本发明由旋转卡盘来保持已将含有金属的涂布液的膜曝光成规定图案的基板。利用狭缝喷嘴对由旋转卡盘所支承的基板的被处理面供给显影液。利用清洗喷嘴对被供给显影液后的基板的被处理面供给去除金属或使金属溶解的清洗液。
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公开(公告)号：CN115400924A
公开(公告)日：2022-11-29
申请号：CN202211343462.4
申请日：2022-10-31
申请人： 天霖(张家港)电子科技有限公司
摘要： 本发明涉及涂胶显影机领域，尤其涉及一种具有平整涂胶功能的涂胶显影机。技术问题如下：不宜通过机械挤压的方式进行涂胶的固定，硅片的取放极为不便，并且通过甩胶的方式进行胶料的平整，胶料被甩到挡板上，胶料的回收处理困难。技术方案如下：一种具有平整涂胶功能的涂胶显影机，包括有电动转盘和匀胶系统等；电动转盘连接有用于硅片上多余胶料去除的匀胶系统。本发明通过基准片对多孔板进行水平度检测，用以模拟硅片放置于该位置时的水平度，用以确保硅片放置时的平整度，并且通过抽风的吸力固定硅片，实现对硅片的便捷取放以及固定，以及将多余胶料进行回收处理，避免胶料在限位环内堆积。
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公开(公告)号：CN115346859A
公开(公告)日：2022-11-15
申请号：CN202210325327.0
申请日：2022-03-30
申请人： 星科金朋私人有限公司
摘要： 公开了半导体器件和使用N2吹扫利用高粘性液体光致抗蚀剂涂覆半导体晶片的方法。一种半导体制造设备，具有外杯和内杯，其中在外杯内部署有晶片吸盘支架。当以第一速度旋转时，将光致抗蚀剂材料施加到部署在晶片吸盘支架上的半导体晶片的第一表面。气体端部被部署在内杯上以用于分配被定向为朝向半导体晶片的底部侧的气体。气体端部利用气体吹扫半导体晶片的第二表面以移除污染物。在利用气体进行吹扫的同时冲洗半导体晶片的第二表面。气体可以是稳定的或惰性的气体，诸如氮气。通过内杯和外杯之间的出口将污染物从半导体晶片的第二表面移除。在中断利用气体的吹扫之后，半导体晶片以更大的第二速度旋转。
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公开(公告)号：CN115338085A
公开(公告)日：2022-11-15
申请号：CN202210871306.9
申请日：2022-07-23
申请人： 孔健宇
摘要： 本发明涉及密封胶灌注技术领域，具体是一种绝缘硅胶密封系统，包括注胶单元、辅助单元、擦除单元和滑动单元，擦除单元设于壳体顶部，擦除单元带动注胶单元进行换位注胶，擦除单元用于擦除溢出的余胶,注胶单元设于擦除单元为内部，滑动单元设于擦除单元下方，滑动单元用于移动和固定注胶件，并且将余胶进行循环使用，辅助单元设于壳体顶部，辅助单元用于将绝缘密封硅胶填充均匀加快凝固；通过注胶单元安装于擦除单元内部，可实现换位注胶，减少绝缘密封硅胶流动时间，提高注胶效率，且避免一次灌注大量绝缘密封硅胶产生空隙和气泡，辅助单元可使绝缘密封硅胶均匀填充，加快绝缘密封硅胶凝固，滑动单元可实现余胶的循环利用，有效避免成本浪费。
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公开(公告)号：CN115315782A
公开(公告)日：2022-11-08
申请号：CN202180022769.1
申请日：2021-03-19
申请人： 东京毅力科创株式会社
发明人： 川上真一路
IPC分类号： H01L21/027 , B05C11/08 , G03F7/20 , G03F7/38
摘要： 本发明的基片处理方法包括：在基片的表面形成抗蚀剂膜的步骤；对基片的上述抗蚀剂膜的表面供给包含水溶性聚合物的处理液，形成界面控制膜的步骤；对形成有界面控制膜的基片进行加热的步骤；和对形成于加热后的基片的抗蚀剂膜进行曝光的步骤。
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公开(公告)号：CN115283214A
公开(公告)日：2022-11-04
申请号：CN202210943513.0
申请日：2022-08-08
申请人： 浙江康盛科工贸有限公司
摘要： 本发明公开了一种工作液无排放美加力表面处理工艺，其特征是设置底部通过工作液连通阀连通的工作罐和储液罐，工作罐内设有做离心运动的工作篮，并具有抽真空设施；储液罐内设有储液仓和真空仓，并具有控制真空仓压力设施。实现对孔隙沟槽等异形零件表面全面渗透，整个浸涂过程各参数可精准控制，涂层物化性能更稳定，工作液在工作罐和储液罐之间无接触转移，工作液零排放无浪费，外观均匀美观，工作场所清洁，真空环境下脱水效率以及整个作业过程工作效率更高。
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公开(公告)号：CN114950881A
公开(公告)日：2022-08-30
申请号：CN202210921859.0
申请日：2022-08-02
摘要： 本发明公开了一种内窥镜密封胶均匀固化的装置及方法，包括夹持装置，设有两处夹持点用于夹持内窥镜的密封部，提高平行度；支撑装置，用于放置内窥镜的插入部；电机驱动装置，通过联轴器与夹持装置的输出轴连接，使得内窥镜同轴旋转从而使密封胶按圆周转动以相同的厚度均匀固化。本发明在内窥镜的密封部均匀涂敷环氧胶，将内窥镜固定在夹持装置上，并用弹簧卡搭扣锁紧，设置电机转动速率，使得内窥镜同轴旋转从而使胶水按圆周转动以相同厚度均匀固化。本发明解决了现有环氧胶流动性大，内窥镜的密封部和插入部重力大，固化后厚度不均匀引起的密封质量隐患与外观不良的问题，本发明装置简便与经济，操作简便，实用性强。
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公开(公告)号：CN114749339B
公开(公告)日：2022-08-23
申请号：CN202210664734.4
申请日：2022-06-14
申请人： 江苏欧晟新材料科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种可调式涂布机的涂胶结构，涉及涂布机技术领域。该可调式涂布机的涂胶结构包括放置板、安装板和涂胶辊，所述安装板固定在放置板顶部，所述涂胶辊前后侧均转动安装有滑动杆，所述滑动杆与贯穿开设在安装板上的滑槽滑动连接，所述涂胶辊中心处贯穿开设有环状连接槽。该可调式涂布机的涂胶结构，通过设置储液箱可以通过进液管对涂胶辊内部输送胶水，设置控制螺杆和固定螺母可以控制加压塞的位置，从而可以调节储液箱和涂胶辊内部的压力，以调节涂胶辊内部胶水的排出速度，从而可以控制胶水的涂布量，且该调节方式使得薄膜表面的胶水分布更加均匀，无需后续进行多次的刮平操作，保证了涂布效率。
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