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公开(公告)号：CN107263035B
公开(公告)日：2019-01-15
申请号：CN201710566297.1
申请日：2017-07-12
申请人： 大连理工大学
IPC分类号： B23P15/00
摘要： 本发明公开了一种高平面度金属超薄板的加工方法，通过将初始毛坯厚度方向的一侧通过机械加工工艺去除部分材料，加工成镂空毛坯，镂空毛坯的镂空侧作为后续加工的镂空支撑结构；镂空毛坯的另一侧作为后续的超薄板零件毛坯。镂空支撑结构使零件内部的残余应力得到有效释放，结合去应力退火工艺，使得厚金属板切出超薄板时，由于内部残余应力释放引起的翘曲变形能够得到有效控制；本发明通过在支撑结构上加工孔结构或槽结构，通过毛细作用渗胶，有效减小了胶层厚度和粘结变形，使得夹持变形得到有效控制；同时，通过同种材料基板上盘，减小了加工过程中温度梯度引起的热变形；本发明采用石蜡或松香蜡粘接，不采用电磁吸盘，可用于加工非铁磁性材料。
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公开(公告)号：CN105300799B
公开(公告)日：2018-01-30
申请号：CN201510767654.1
申请日：2015-11-11
申请人： 大连理工大学
摘要： 本发明公开了一种具有凹槽结构压缩试件的准静态单轴压缩实验方法及装置。实验装置包括压缩夹具及试件，压缩夹具包括位于上部的压缩压板、基部支撑板和用于夹持所述试件的夹持部；试件为板状骨头型试件，在试件的骨头型截面缩减部分的单侧设有凹槽；试件顶端抵在压缩压板上，所述试件底端抵在基部支撑板上，夹持部避开凹槽夹持在试件的上下两端。本发明还公开了应用该实验装置的实验方法，根据弯矩和由背抗弯板在凹槽部所施加的法向力之间力矩平衡的机制来抑制试件的屈曲，仅在试样的背面进行侧向支撑，而其前侧的凹槽是裸露的，适用于多种应变测量，解决了现有的准静态单轴压缩装置加工工艺复杂、成本较高、数据测量困难等问题。
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公开(公告)号：CN104439348B
公开(公告)日：2017-01-11
申请号：CN201410635050.7
申请日：2014-11-12
申请人： 大连理工大学
IPC分类号： B23B31/02
摘要： 本发明公开了一种用于旋转超声加工的非接触能量传输装置，包括固定端和旋转端两部分，所述的固定端与旋转端相对位置分别有轴向敞开式或径向敞开式两种布置方式。所述的固定端与旋转端相对位置为轴向敞开式时，固定端磁芯为从罐型磁芯上截取得到的部分磁芯，所截取的部分磁芯的圆心角小于等于180°；旋转端磁芯为完整的罐形磁芯。所述的固定端与旋转端相对位置为径向敞开式时，固定端磁芯为从环形内开槽磁芯上截取得到的部分磁芯，所截取磁芯的圆心角小于等于180°；旋转端磁芯为完整的环形外开槽磁芯。本发明可提高加工效率和自动化水平、节约改造成本和资金投入、提高超声加工装置的安全性、提高超声加工装置的适应性、安装和调试性能好。
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公开(公告)号：CN106078516A
公开(公告)日：2016-11-09
申请号：CN201610457781.6
申请日：2016-06-21
申请人： 大连理工大学
IPC分类号： B24B53/017 , B24B53/12
CPC分类号： B24B53/12 , B24B53/017
摘要： 本发明公开了一种新型CMP抛光垫修整器，其特征在于：包括盘型基体和位于所述盘型基体上的修整部件，所述修整部件上表面设有多个微凸起和多个微孔，所述微孔与位于所述盘型基体内的腔体连通，所述微孔的轴线与所述修整部件的上表面垂直，或有小于90°的夹角。本发明的一种新型CMP抛光垫修整器所包含的多微孔结构可以解决修整过程中的堵塞问题，减少残屑对抛光垫的损伤；本发明提出了具有一定锥度的微凸起结构，且微凸起结构的顶部尺寸要小于底部，即微凸起的切割面的角度大于90°，该结构能起到对修整过程的残屑的容屑作用，可实现对抛光垫的低损伤修整。
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公开(公告)号：CN105300799A
公开(公告)日：2016-02-03
申请号：CN201510767654.1
申请日：2015-11-11
申请人： 大连理工大学
摘要： 本发明公开了一种具有凹槽结构压缩试件的准静态单轴压缩实验方法及装置。实验装置包括压缩夹具及试件，压缩夹具包括位于上部的压缩压板、基部支撑板和用于夹持所述试件的夹持部；试件为板状骨头型试件，在试件的骨头型截面缩减部分的单侧设有凹槽；试件顶端抵在压缩压板上，所述试件底端抵在基部支撑板上，夹持部避开凹槽夹持在试件的上下两端。本发明还公开了应用该实验装置的实验方法，根据弯矩和由背抗弯板在凹槽部所施加的法向力之间力矩平衡的机制来抑制试件的屈曲，仅在试样的背面进行侧向支撑，而其前侧的凹槽是裸露的，适用于多种应变测量，解决了现有的准静态单轴压缩装置加工工艺复杂、成本较高、数据测量困难等问题。
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公开(公告)号：CN103752919B
公开(公告)日：2016-01-13
申请号：CN201410008940.5
申请日：2014-01-09
申请人： 大连理工大学
摘要： 本发明一种非圆胀圈型密封环加工方法属于机械加工领域，特别涉及一种非圆胀圈型密封环加工方法。该加工方法在一次装夹的情况下，加工非圆胀圈型密封环径向内表面、外表面及一侧的轴向端面之后，切下密封环之前，先依次加工出密封环的部分切口；切下非圆胀圈型密封环之后，利用已加工出的部分切口定位，完成切口的加工。本发明有效地减少加工非圆胀圈型密封环过程中产生的误差，在切下非圆胀圈型密封环之前加工切口，不仅能够准确地在非圆轮廓上找到需要加工切口的特定位置，而且切下之前的胀圈型密封环具有较强的刚度，因此，能够有效确保胀圈型密封环切口的加工精度。
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公开(公告)号：CN104018211A
公开(公告)日：2014-09-03
申请号：CN201410269475.0
申请日：2014-06-17
摘要： 本发明公开了一种纳米精度的电化学刻蚀加工方法，其包括如下步骤：在模板电极或工件表面固定一层氧化还原水合凝胶聚合物超薄膜；将模板电极和工件浸入工作溶液，叠放于容器底部，使模板电极表面和工件表面分别与软质聚合物超薄膜的两面保持自然紧密接触；另在容器内设辅助电极和参比电极，并与电化学控制仪相连；启动电化学控制仪，调控模板电极的电位，电化学氧化超薄膜中的电化学活性基团，由其快速地化学氧化与之接触的工件表面夺取电子，而工件表面失去的电子被超薄膜慢速地传递至模板电极，使刻蚀持续进行；刻蚀完毕后，关闭电化学控制仪，移开模板电极，即可。本方法能以纳米精度将模板电极表面微结构图案的互补结构刻蚀加工在工件表面。
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公开(公告)号：CN103924287A
公开(公告)日：2014-07-16
申请号：CN201410185241.8
申请日：2014-05-04
IPC分类号： C25F3/12 , H01L21/3063
摘要： 本发明提供一种电致化学抛光方法，包括以下步骤：配制含有电活性中介体、pH调节剂、粘度调节剂和抑制剂的工作液；将工作电极工作面与工件表面平行相对设置，工作电极工作面具有小于1μm平整度；将工作电极工作面和工件表面浸入工作液中，通过微纳复合进给机构调整工作电极工作面与工件表面的间距至0.05μm～20μm；启动电源使工作电极和辅助电极通电，工作电极工作面附近的电活性中介体通过电化学反应生成刻蚀剂，通过刻蚀剂扩散至工件表面并发生扩散控制的刻蚀反应，对工件表面局部高点进行选择性刻蚀，实现对工件表面无应力抛光。
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公开(公告)号：CN103207440A
公开(公告)日：2013-07-17
申请号：CN201310138132.6
申请日：2013-04-18
申请人： 大连理工大学
IPC分类号： G02B7/183
摘要： 一种双向多拱形大口径空间反射镜，属于光学系统精密机械技术领域。该反射镜结构包括反射镜镜面和背部基体，背部基体中制作有开放型的轻量化孔和支撑孔，背部基体为加筋板式结构；在背部基体中设置凹槽，背部基体为由径向多拱形和环向多拱形组成的双向多拱形。本发明通过调整凹槽的布置，同时沿两个方向改变反射镜的质量分布，使反射镜结构在刚度不降低的情况下减轻基体的质量，提高结构的比刚度，结构形式更加合理，实现了更大程度的轻量化。具体设计实例表明，与平背形反射镜结构相比，其质量可减少24.5%。该反射镜结构具有自重变形小，刚度分布合理，且质量较小，适用于大口径空间望远镜系统。
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公开(公告)号：CN118190676A
公开(公告)日：2024-06-14
申请号：CN202410378310.0
申请日：2024-03-29
申请人： 大连理工大学
摘要： 本发明公开了一种基于视觉对准的硬脆材料强度测量装置及其方法，所述测量装置包括基础试验单元、视觉定位单元和试样微调单元，所述的基础试验单元包括万能力学试验机、压头、环规和支架，所述的视觉定位单元包括高倍显微镜头、CCD相机、显示器、同轴光源和万向调焦托架，所述试样微调单元包括基座、滑动轨道、千分尺和试样夹持平台。本发明将视觉定位装置和微调装置集成，方便实验人员在同一装置上对试样进行观察和微调操作，从而实现压头中心与试样拉伸面缺陷集中区的精确对准，提高强度试验准确性。本发明使用简单的微调装置，操作方便，不需要过于复杂的自动控制。能够简单快速的调整试样位置，提高强度试验效率。
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