薄膜晶体管的制备方法和阵列基板的制备方法

    公开(公告)号:CN104409347A

    公开(公告)日:2015-03-11

    申请号:CN201410594803.4

    申请日:2014-10-28

    摘要: 本发明公开了一种薄膜晶体管的制备方法和阵列基板的制备方法,可以使得薄膜晶体管的沟道不受曝光机分辨率的限制,提高阵列基板的开口率。上述薄膜晶体管的制备方法中:该薄膜晶体管中的第一电极层和第二电极层的制备步骤包括:在衬底基板上沉积金属形成第一金属层;在第一金属层上涂覆光刻胶形成第一光刻胶层;采用光刻工艺在衬底基板上形成第一电极层;在衬底基板上沉积金属形成第二金属层;在第二金属层上涂覆光刻胶形成第二光刻胶层;对第二光刻胶层进行曝光、显影处理,去掉除覆盖在第二电极对应的图案所在区域以外的第二光刻胶层;对第二金属层进行刻蚀,形成第二电极层以及第二电极层与第一电极层之间的沟道;剥离剩余的第二光刻胶层。

    一种薄膜晶体管
    65.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104332490A

    公开(公告)日:2015-02-04

    申请号:CN201410606296.1

    申请日:2014-10-27

    IPC分类号: H01L29/06 H01L29/786

    摘要: 本发明提供了一种薄膜晶体管,涉及场效应晶体管领域,该薄膜晶体管的宽长比较大,有利于提高开态电流。一种薄膜晶体管,包括栅极、源极和漏极,所述源极包括具有开口的环形,沿第一方向所述开口的宽度最大,且所述开口的最大宽度小于所述源极内环沿第一方向上任意两点的最大距离;所述漏极被所述环形包围,且与所述源极不接触;所述漏极与所述源极内环的间隔相同。用于薄膜晶体管、包含该薄膜晶体管的显示面板以及显示装置。

    一种移位寄存器单元、栅极驱动电路及显示装置

    公开(公告)号:CN104282283A

    公开(公告)日:2015-01-14

    申请号:CN201410561541.1

    申请日:2014-10-21

    IPC分类号: G09G3/36 G11C19/28

    摘要: 本发明涉及一种移位寄存器单元、栅极驱动电路及显示装置,所述移位寄存器单元包括上拉模块、输出模块和下拉模块,所述上拉模块用于导通输出模块,所述输出模块用于在导通时将第一时钟信号作为栅极驱动信号输出,所述下拉模块用于关闭所述上拉模块和/或输出模块,所述输出模块包括多个输出线路,每个输出线路上设有一个驱动晶体管,所述驱动晶体管的栅极与所述上拉模块连接,第一极用于输入第一时钟信号,第二极用于输出栅极驱动信号;至少一个输出线路上设有开关器件,用于使所述输出线路导通或关闭。上述移位寄存器单元可以避免栅极驱动信号的驱动能力不足或驱动能力较大,以及由此而因此的显示装置显示异常的问题。

    阵列基板、液晶显示面板以及显示装置

    公开(公告)号:CN108020967B

    公开(公告)日:2021-01-26

    申请号:CN201610935519.8

    申请日:2016-11-01

    IPC分类号: G02F1/1362 G02F1/1368

    摘要: 本文描述了一种阵列基板,所述阵列基板具有显示区和在显示区外围的非显示区,并且包括:提供有栅脉冲信号的多条栅线;提供有数据信号的多条数据线,其中所述多条数据线中的相邻的数据线上的信号具有相反的极性;电荷共享装置,其包括位于非显示区的第一薄膜晶体管,第一薄膜晶体管的第一极连接到所述多条数据线中的两条相邻数据线中的一条,第二极连接到所述两条相邻数据线中的另一条,栅极被配置成在相邻数据帧之间的空白时间期间接收第一控制信号以使得所述第一薄膜晶体管导通。利用此,可以以低成本且简单的结构实现数据线在极性反转时的电荷共享,从而达到节约耗电量的效果。

    薄膜晶体管的制备方法和阵列基板的制备方法

    公开(公告)号:CN104409347B

    公开(公告)日:2018-04-10

    申请号:CN201410594803.4

    申请日:2014-10-28

    摘要: 本发明公开了一种薄膜晶体管的制备方法和阵列基板的制备方法,可以使得薄膜晶体管的沟道不受曝光机分辨率的限制,提高阵列基板的开口率。上述薄膜晶体管的制备方法中:该薄膜晶体管中的第一电极层和第二电极层的制备步骤包括:在衬底基板上沉积金属形成第一金属层;在第一金属层上涂覆光刻胶形成第一光刻胶层;采用光刻工艺在衬底基板上形成第一电极层;在衬底基板上沉积金属形成第二金属层;在第二金属层上涂覆光刻胶形成第二光刻胶层;对第二光刻胶层进行曝光、显影处理,去掉除覆盖在第二电极对应的图案所在区域以外的第二光刻胶层;对第二金属层进行刻蚀,形成第二电极层以及第二电极层与第一电极层之间的沟道;剥离剩余的第二光刻胶层。