公开(公告)号：CN106916650A

公开(公告)日：2017-07-04

申请号：CN201510996667.6

申请日：2015-12-28

申请人： 王太梅

发明人： 王太梅

IPC分类号： C11D7/60 ,  C11D7/44 ,  C11D7/26 ,  C11D7/32 ,  C11D7/14

CPC分类号： C11D7/44 ,  C11D7/14 ,  C11D7/264 ,  C11D7/265 ,  C11D7/3281

摘要： 本发明公开了除味清洗液，由下列重量百分比的成分混合组成：上梨酸钾3%；五水偏硅酸钠 4%；竹醋粉4%；乙二醛13.5%；薄荷脑0.25%；三氯异氰尿酸15%；柠檬香精0.6%；去离子水余量；本发明配方合理、成本低廉，杀菌去异味效果明显、且对皮肤无刺激性。

公开(公告)号：CN106867717A

公开(公告)日：2017-06-20

申请号：CN201611246941.9

申请日：2016-12-29

申请人： 芜湖乐普汽车科技有限公司

发明人： 姚海明

IPC分类号： C11D7/32 ,  C11D7/26 ,  C11D7/16 ,  C11D7/04 ,  C11D7/60 ,  B08B11/04

CPC分类号： C11D7/3281 ,  B08B11/04 ,  C11D7/04 ,  C11D7/16 ,  C11D7/264 ,  C11D7/3209 ,  C11D7/3263 ,  C11D11/0035

摘要： 本发明涉及玻璃基板加工处理技术领域，具体是涉及一种玻璃基板清洗剂。由以下重量份的组分制成：40份纯净水、20.5份六偏磷酸钠、15份氨水、5.5份香精、7份二乙基苄胺、12.5份丙酮、5份烷基醇酰胺和3.5份原藜芦碱。本发明通过加入合理设计的组分，特别是加入原藜芦碱，可以提升玻璃基板清洗剂的清洗品质约90%。这种玻璃基板的清洗方法比较简单，清洗效率高，清洗较为彻底，满足玻璃基板加工行业的加工标准。

公开(公告)号：CN106833962A

公开(公告)日：2017-06-13

申请号：CN201611215545.X

申请日：2016-12-26

申请人： 上海申和热磁电子有限公司

发明人： 何桥 ,  贺贤汉

IPC分类号： C11D7/60 ,  C11D7/32 ,  C11D7/26 ,  C11D7/10

CPC分类号： C11D7/3281 ,  C11D7/10 ,  C11D7/264 ,  C11D7/265 ,  C11D7/266 ,  C11D7/3218 ,  C11D7/3263 ,  C11D11/0047

摘要： 本发明涉及一种用于去除半导体蚀刻腔体陶瓷涂层零件污染物的清洗剂，以重量份计，包括如下组分：酸性缓冲剂5～10份；氟化物5～10份；胺类有机溶剂30～50份；酯类有机溶剂10～20份；酮类有机溶剂20～30份；纯水10～30份。其制备，包括：按上述重量份，将各组分混合，于常温搅拌30min，制得半导体蚀刻腔体陶瓷涂层零件污染物的清洗剂。本发明的清洗剂既能将污染物彻底去除，确保了该类设备完全清洗干净，无粒子带入污染蚀刻腔体，又保证了基体材质不受损害，从而减少陶瓷涂层脱落的风险。

公开(公告)号：CN106635511A

公开(公告)日：2017-05-10

申请号：CN201611082108.5

申请日：2016-11-30

申请人： 四川中塑高分子材料有限公司

发明人： 张明

IPC分类号： C11D7/32 ,  C11D7/26 ,  C11D7/14 ,  C11D7/60

CPC分类号： C11D7/3281 ,  C11D3/395 ,  C11D7/00 ,  C11D7/14 ,  C11D7/266 ,  C11D7/267 ,  C11D7/3209 ,  C11D7/3254

摘要： 本发明涉及地板清洁技术领域，具体是关于一种运动地板清洁剂，包括以下重量份组分制得：水80‑100份、N‑(2,6‑二氧代‑3‑哌啶基)‑邻苯二甲酰亚胺10‑14份、(2‑羟乙基)二异丙基甲基溴化铵咕吨‑9‑羧酸酯16‑20份、2‑(乙酰氧基)苯甲酸5‑8份、二苯乙酸2‑(二乙基氨基)乙基酯盐酸盐12‑16份、2,3,4,5,6‑五羟基‑2‑己烯酸‑4‑内酯10‑22份、硅酸钾4‑6份、丁氧基乙酯6‑8份。本发明的清洁剂满足日益严格的环保压力，不含次氯酸钠及季铵盐类等刺激性表面活性物质，所使用的原料组分对人体无害，且根据各原料组分的性质搭配组合，具有明显的杀菌清洁效果，尤其其在使用过程中对地板材质无任何伤害，特别适于地板清洁领域的广泛应用。

公开(公告)号：CN106635507A

公开(公告)日：2017-05-10

申请号：CN201610726914.5

申请日：2016-08-26

申请人： 曹平

发明人： 曹平

IPC分类号： C11D7/22 ,  C11D7/26 ,  C11D7/32 ,  C11D7/44 ,  C11D7/60

CPC分类号： C11D7/265 ,  C11D7/22 ,  C11D7/267 ,  C11D7/3209 ,  C11D7/3281 ,  C11D7/44

摘要： 本发明涉及一种衣物护色清洗剂，包括香精、D‑异抗坏血酸钠、二甲基硅油、核黄素、柠檬酸钾、丙烯酸、水，各组分的质量份数为：香精2.2‑2.5、D‑异抗坏血酸钠1.8‑3、二甲基硅油4‑6.2、核黄素3‑4.5、柠檬酸钾3.8‑6.5、丙烯酸1.2‑1.7、水25‑37。本发明涉及的衣物护色清洗剂去污能力强，能有效清洗衣物的顽固油渍、黄斑、锈渍、污渍等,去污能力强、对衣物没有损伤、衣物色泽鲜艳不掉色。不在清洗对象表面残留下不溶物，不影响清洗对象的质量。

公开(公告)号：CN106547178A

公开(公告)日：2017-03-29

申请号：CN201610847724.9

申请日：2016-09-23

申请人： 气体产品与化学公司

发明人： 稻冈诚二

IPC分类号： G03F7/42 ,  C11D7/32 ,  C11D7/26 ,  C11D7/10 ,  C11D7/50

CPC分类号： C11D11/0047 ,  C11D7/265 ,  C11D7/3209 ,  C11D7/3245 ,  C11D7/50 ,  H01L21/02068 ,  G03F7/425 ,  C11D7/10 ,  C11D7/263 ,  C11D7/266 ,  C11D7/3218 ,  C11D7/3281 ,  C11D7/5009 ,  C11D7/5013

摘要： 一种可用于从半导体衬底去除残留物的组合物，所述组合物包含有效清洁量的：约55至80重量％的水；约0.3至约5.0重量％的EDTA；约10.0至约30.0重量％的胺化合物，其中所述胺化合物选自仲胺、叔胺和其混合物；约0.1至约5.0重量％的多官能有机酸；约0.01至约8.0重量％的氟离子源；约0至约60重量％的水混溶性的有机溶剂；和约0至约15重量％的腐蚀抑制剂。

公开(公告)号：CN106544189A

公开(公告)日：2017-03-29

申请号：CN201610890357.0

申请日：2016-10-12

申请人： 易洁(北京)科技有限公司

发明人： 刘琛

IPC分类号： C11D7/60 ,  C11D7/36 ,  C11D7/32 ,  C11D7/26 ,  C11D7/10 ,  C11D3/60 ,  C11D3/36 ,  C11D3/30 ,  C11D3/28 ,  C11D3/20 ,  C11D3/04

CPC分类号： C11D7/36 ,  C11D3/046 ,  C11D3/048 ,  C11D3/2079 ,  C11D3/28 ,  C11D3/30 ,  C11D3/362 ,  C11D7/10 ,  C11D7/105 ,  C11D7/265 ,  C11D7/3218 ,  C11D7/3281 ,  C11D11/0035

摘要： 本发明公开了一种玻璃水制作工艺，该制作工艺包括以下步骤：制备62质量份的去离子水；投入乙二醇并且进行搅拌；投入的硼砂进行乳化；投入亚硝酸钠并且进行搅拌；投入磷酸三丁酯进行乳化；投入苯并三氮唑进行乳化；投入三乙醇胺进行乳化；投入苯甲酸钠进行乳化；投入色料进行搅拌和乳化，即得到玻璃水。本发明一种玻璃水制作工艺制备的玻璃水是由多种表面活性剂及添加剂复配而成，表面活性剂通常具有润湿、渗透、增溶等功能，从而起到清洗去污的作用，与普通的玻璃水相比，本发明的玻璃水具有清洁更快，用量更少的优点。

公开(公告)号：CN103313932B

公开(公告)日：2016-11-23

申请号：CN201180060035.9

申请日：2011-12-13

申请人： 科莱恩金融(BVI)有限公司

发明人： P·克卢格 ,  M·F·皮尔茨 ,  U·巴克

IPC分类号： C01B15/08 ,  C01B15/12 ,  A61K8/22 ,  C01B15/037 ,  C07D213/89 ,  C11D3/28 ,  C11D3/32 ,  C11D3/39 ,  C11D7/32

CPC分类号： A61K8/4926 ,  A61K8/22 ,  A61K2800/30 ,  A61Q5/04 ,  A61Q5/08 ,  A61Q5/10 ,  C01B15/037 ,  C01B15/085 ,  C01B15/123 ,  C07D213/89 ,  C11D3/28 ,  C11D3/32 ,  C11D3/394 ,  C11D3/3947 ,  C11D7/3281 ,  D06L4/12

摘要： 描述了组合物，所述组合物包含a)一种或多种选自过氧化氢和释放过氧化氢的物质的物质，b)水，d)一种或多种选自羟基吡啶酮及其盐的物质，其特征在于，所述组合物不包含具有增稠性质的聚合物。所述组合物尤其由于其有利的储存稳定值而出众。

公开(公告)号：CN105874562A

公开(公告)日：2016-08-17

申请号：CN201480055153.4

申请日：2014-10-09

申请人： E.I.内穆尔杜邦公司 ,  EKC技术公司

发明人： H·崔

IPC分类号： H01L21/02 ,  H01L21/3213 ,  H01L21/311

CPC分类号： C11D11/0047 ,  B08B3/08 ,  B08B3/10 ,  C11D3/2082 ,  C11D3/3942 ,  C11D3/3947 ,  C11D7/04 ,  C11D7/265 ,  C11D7/3209 ,  C11D7/3218 ,  C11D7/3245 ,  C11D7/3281 ,  C23F1/18 ,  C23F1/26 ,  C23F1/28 ,  C23F1/34 ,  C23F1/38 ,  C23F1/40 ,  G03F7/423 ,  G03F7/425 ,  G03F7/426 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/02063 ,  H01L21/31111 ,  H01L21/31144 ,  H01L21/32134 ,  H01L21/76807 ,  H01L21/76814

摘要： 本公开涉及用于从半导体基板移除基本上由TiN、TaN、TiNxOy、TiW、W、Ti以及Ti和W的合金组成的硬遮罩的方法。所述方法包括使所述半导体基板与移除组合物接触。所述移除组合物包含0.1重量％至90重量％的氧化剂；0.0001重量％至50重量％的羧酸盐；以及补足100重量％的所述移除组合物的剩余部分，包括去离子水。

公开(公告)号：CN105733847A

公开(公告)日：2016-07-06

申请号：CN201610147191.3

申请日：2016-03-16

申请人： 李贵福

发明人： 李贵福

IPC分类号： C11D7/40 ,  C11D7/60 ,  C11D7/36 ,  C11D7/26 ,  C11D7/32

CPC分类号： C11D7/40 ,  C11D7/265 ,  C11D7/266 ,  C11D7/3281 ,  C11D7/36 ,  C11D11/0023 ,  C11D11/0064

摘要： 本发明主要涉及一种发动机清洗液及其制备和清洗方法，其配方按质量比如下：食品级工业白油55?60％、食品级工业蜡油25?30％、抗氧化防腐剂3?6%、降凝剂2?4%、清净剂3.5?7%、分散剂1.5?3%。该清洗液所用的基础原料是石油产品中最有环保基础的产品，在对发动机起到保护作用的同时，能够不影响环境。同时具有很好的流动性，能在发动机清洗剂的作用下将发动机的每个润滑油道充分清洗，适于推广应用。