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公开(公告)号：CN107678081B
公开(公告)日：2024-02-23
申请号：CN201710827719.6
申请日：2017-09-14
申请人： 南阳利达光电有限公司
摘要： 本发明公开了一种低雾度红外截止滤光片及其镀膜方法，所述低雾度红外截止滤光片包括基板和设于所述基板表面的复合膜层，所述基板为玻璃基板，所述复合膜层通过交替叠合的高折射率材料层和低折射率材料层制成，通过选取形状规整的玻璃基板，采用超声波、离心甩干机、离子源分别对玻璃基板进行清洗、烘干及清扫后开始镀膜，镀膜时采用电子束加热蒸发，在膜层沉积过程离子束不断轰击辅助镀膜，该膜层在停止沉积时，关闭离子源挡板，此时会有特定能量的的离子束继续轰击膜层，直到下一膜层开始沉积。与现有技术相比，本发明方法简单，科学合理，可以有效解决红外截止滤光片型变量大及发雾问题。
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公开(公告)号：CN110333561B
公开(公告)日：2024-02-20
申请号：CN201910695027.X
申请日：2019-07-30
申请人： 威海世高光电子有限公司
发明人： 赵向仁
摘要： 本发明公开了一种减反射膜及其制备方法、微型投影系统，所述减反射膜包括基板、位于基板上的间接过渡层、及位于间接过渡层上的高低折射率膜层，所述高低折射率膜层包括若干交替设置的低折射率膜层和高折射率膜层，所述高折射率膜层的折射率大于或等于1.8，低折射率膜层的折射率小于或等于1.5，间接过渡层的折射率大于低折射率膜层的折射率且小于基板的折射率。本发明的减反射膜通过间接过渡层和高低折射率膜层的设计，能够大大降低减反射膜的反射率，在450nm～630nm范围内的反射率能够0.1％以下，有效控制了由反射率过高引起的杂光、鬼影、成像昏暗等问题，提高了光透过效率。
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公开(公告)号：CN111381299B
公开(公告)日：2024-02-13
申请号：CN202010329589.5
申请日：2020-04-23
申请人： 江苏万新光学有限公司
摘要： 本发明提供了一种低反射色中性低应力树脂镜片及其制备方法，包括：树脂镜片基片、加硬层以及减反射层；其中，所述基片、加硬层以及减反射层依次排列，所述加硬层位于树脂镜片基片表面，所述减反射层位于所述加硬层表面；且所述减反射层主要由高折射率材料铌钛复合氧化物(由Nb2O5和TiO2组成，且其中Nb2O5占所述材料的摩尔分数为75％～95％)层和低折射率材料层——特殊的低应力SiO2膜层交替排列组成。本发明通过调整减反射层结构，得到了满足减反射率树脂镜片，同时获得了具有良好视觉效果的色中性镜片产品。本发明通过严格控制材料组成以及制备工艺，极大地提高了制备眼镜的树脂镜片耐温性能和抗环境性能，具有良好的应用及市场前景。
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公开(公告)号：CN115926234B
公开(公告)日：2024-02-09
申请号：CN202111596759.7
申请日：2021-12-24
申请人： 南亚塑胶工业股份有限公司
IPC分类号： C08J7/048 , C08J5/18 , C08L67/02 , C09D123/08 , C09D129/04 , C09D7/61 , C23C14/06 , C23C14/08 , C23C14/10 , C23C14/24
摘要： 本发明公开一种食品包装用的阻隔膜及其制造方法。制造方法包含：提供一基材薄膜；于所述基材薄膜的表面蒸镀一无机叠层膜；其中，所述无机叠层膜包含彼此堆叠的至少一第一无机材料蒸镀层及一第二无机材料蒸镀层，所述第一无机材料蒸镀层及所述第二无机材料蒸镀层是在同一道的真空蒸镀程序、且在未退真空的条件下所形成，并且所述第一无机材料蒸镀层及所述第二无机材料蒸镀层分别是由不同的无机金属氧化物通过所述同一道的真空蒸镀程序所形成；以及涂布一阻隔涂布液于所述无机叠层膜上，并且固化所述阻隔涂布液，以形成一阻隔涂布层。借此，本发明的食品包装用的制造方法具有低损耗及低的涂布工缴成本。
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公开(公告)号：CN113924384B
公开(公告)日：2024-02-09
申请号：CN202080040665.9
申请日：2020-06-02
申请人： 芝浦机械电子装置株式会社
发明人： 小野大祐
摘要： 本发明提供一种成膜装置，其可形成抑制光学特性的恶化的平坦的膜。所述成膜装置是在工件(10)上形成膜的成膜装置，其包括：搬送部膜处理部(40)，具有包含构成膜的材料的靶(42)、及将被导入靶(42)与旋转台(31)之间的溅射气体等离子体化的等离子体产生器，利用等离子体对靶(42)进行溅射而在工件(10)上形成膜；以及离子照射部(60)，照射离子；搬送部(30)以工件(10)穿过成膜处理部(40)与离子照射部(60)的方式循环搬送工件(10)，离子照射部(60)对工件(10)上的形成途中的膜照射离子。(30)，具有循环搬送工件(10)的旋转台(31)；成
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公开(公告)号：CN117518307A
公开(公告)日：2024-02-06
申请号：CN202311556413.3
申请日：2023-11-21
申请人： 浙江日久新材料科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种新型柔性膜，包括依次层叠的AR层、打底层、预处理层、底涂层以及基材层，所述打底层的原料为金属氧化物；所述预处理层为类网状结构，所述预处理层的原料为金属及其氧化物、半导体及其氧化物。本发明实施方式的新型柔性膜先通过其中的AR层起到增透减反的作用，再通过对打底层和预处理层的材质的选择，起到改善整个新型柔性膜的柔韧度，增加底涂层和AR层间的附着力的效果。
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公开(公告)号：CN117488262A
公开(公告)日：2024-02-02
申请号：CN202311471319.8
申请日：2023-11-07
申请人： 浙江日久新材料科技有限公司
摘要： 本发明公开了AR膜、元件及设备，其中AR膜，包括顺次设置的基材层、打底层、最外层为镀二氧化硅层的复合层、镀氧化铌层，其中，所述复合层为增透的镀氧化钛层与降反的镀二氧化硅层的组合，镀氧化铌层作为放电性调控层其厚度满足：0.1‑10nm。本发明通过优化产品的结构设计，至少在顶层优化型地加镀一层氧化铌，能在作业过程中有效地遮盖住原先因顶层氧化硅放电中产生的波动，从而避免因波动导致镀层形貌厚度等发生变化，从而整体上改善产品的质量和性能，使得产品成型具有更好的性能稳定性。
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公开(公告)号：CN117467938A
公开(公告)日：2024-01-30
申请号：CN202311568372.X
申请日：2023-11-23
摘要： 本发明涉及一种高质量大厚度的二氧化硅膜层的制备方法，属于硅基光子器件制备技术领域。本发明的目的是为了解决现有技术存在的大厚度和高质量、高性能膜层无法兼顾的问题，提供一种高质量大厚度的二氧化硅膜层的制备方法；该方法通过干湿氧化过程与高温退火结合，在重整干湿干工艺的同时对部分干氧和退火过程进行设计，可以在保持生长速率的同时提高大厚度二氧化硅膜层的质量、对光的束缚性。
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公开(公告)号：CN117406322A
公开(公告)日：2024-01-16
申请号：CN202311226220.1
申请日：2023-09-21
申请人： 兰州空间技术物理研究所
IPC分类号： G02B5/26 , G02B5/20 , G02B5/28 , B64G1/58 , C23C14/02 , C23C14/24 , C23C14/08 , C23C14/10 , C23C14/35 , C23C14/18
摘要： 本发明提供一种紫外增反玻璃型二次表面镜，包括基底、前表面薄膜层以及后表面薄膜层。基底采用掺铈玻璃或石英玻璃。后表面薄膜层由金属反射层和保护层组成，金属反射层的材料为高反射率的金属Ag，保护层的材料为Ni‑Cr合金，可防止Ag层氧化且提高耐磨性能。前表面薄膜层由导电层和紫外反射层组成，紫外反射层为Ta2O5/SiO2或者TiOx/SiO2多层光学干涉薄膜，导电层为ITO薄膜或者AZO薄膜，可满足防静电的需求。本发明通过玻璃型二次表面镜的基础上增加紫外线反射，对300～400nm的紫外光具备高反射性能，最终使得200～2500nm太阳光谱范围内的吸收率低于0.06以下、红外发射率大于0.79以上。整体结构寿命长、可靠性高、适应广泛。
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公开(公告)号：CN117344269A
公开(公告)日：2024-01-05
申请号：CN202210742086.X
申请日：2022-06-27
申请人： 核工业西南物理研究院 , 中核同创(成都)科技有限公司
摘要： 本发明属于非晶合金涂层技术领域，具体涉及一种铁基非晶、纳米晶带材表面绝缘涂层制备方法，包括如下步骤：步骤一：对待涂覆非晶、纳米晶带材表面进行化学清洗；步骤二：将待涂覆非晶、纳米晶带材装炉后进行抽真空，真空室加热烘烤除气；步骤三：对步骤二中真空室内的非晶、纳米晶带材通入一定体积比的氩气和反应气体，在带材表面沉积绝缘层；步骤四：真空室放气，取出涂覆完成的非晶、纳米晶带材。采用本发明方法制备的致密绝缘涂层膜绝缘特性良好，膜层厚度小，均匀性好，不损伤基体产品的总厚度及色泽，具有广泛的应用价值，应用范围不仅限于非晶、纳米晶带材及块材，还可作为片式高性能薄膜电阻的电阻膜。
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