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公开(公告)号：CN105122390B
公开(公告)日：2018-02-16
申请号：CN201480022045.7
申请日：2014-05-14
Applicant: 山阳特殊制钢株式会社
CPC classification number: H01F1/26 , B22F1/0055 , B22F5/006 , C22C19/03 , C22C38/02 , C22C38/06 , C22C38/34 , C22C2202/02 , H01F1/20
Abstract: 提供一种薄片表面的平滑性优异并具有高导磁率的磁片用软磁性扁平粉末。该软磁性扁平粉末通过对于软磁性粉末进行扁平化处理而取得，平均粒径为40～53μm，振实密度对于真密度的比为0.20～0.23，平均长宽比为10～40，平均厚度为1.6～3.1μm，氧含量为0.16～0.48质量％，氮含量为10～250ppm。根据本发明，可提供作为磁片使用时突起不良少，能够实现高导磁率的软磁性扁平粉末和使用了它的高导磁率磁片。
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公开(公告)号：CN107077938A
公开(公告)日：2017-08-18
申请号：CN201580047783.1
申请日：2015-09-29
Applicant: 山阳特殊制钢株式会社
CPC classification number: H01F1/14791 , B22F1/0011 , B22F1/0055 , B22F1/0085 , B22F9/082 , B22F9/10 , B22F2201/11 , B22F2201/20 , B22F2301/35 , B22F2304/10 , B22F2999/00 , C21D1/773 , C21D6/008 , C22C38/00 , C22C38/02 , C22C38/06 , C22C2202/02
Abstract: 根据本发明，可提供平均粒径小，片成形性优异，并且具有高导磁率的软磁性扁平粉末及其制造方法。本发明的软磁性扁平粉末，是由Fe－Si－Al系合金构成的扁平粉末，其中，平均粒径D50为30以上且低于50μm，在扁平粉末的纵长方向外加磁场而测量的矫顽磁力Hc为176A/m以下，振实密度对于真密度的比为0.18以下，比表面积BET值为0.6m2/g以上，含氧量为0.6质量％以下，并且软磁性粉末的BET值和氧值满足式(1)[氧值/BET值≤0.50(但不含0)]。
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公开(公告)号：CN104508167B
公开(公告)日：2017-08-04
申请号：CN201380039755.6
申请日：2013-08-12
Applicant: 山阳特殊制钢株式会社
IPC: C22C38/00 , C22C1/04 , C22C19/07 , C22C30/00 , C22C33/02 , C23C14/34 , G11B5/667 , G11B5/851 , H01F10/16 , H01F41/18
CPC classification number: C23C14/3414 , C22C1/0433 , C22C19/07 , C22C33/02 , C22C38/00 , C22C38/10 , G11B5/667 , G11B5/851 , H01F41/183
Abstract: 提供一种溅射中没有裂纹的Fe‑Co系合金溅射靶材。该Fe‑Co系合金溅射靶材，由下式(1)：(FeX‑Co100‑X)100‑YMY...(1)(式中，原子比是0≤X≤100，4≤Y≤28，M元素含有Nb、Ta、Mo、W、Cr和V中的一种或两种以上)所表示的Fe‑Co‑M系合金构成。该溅射靶材的显微组织具有以Fe和Co为主体的相、和由Fe与Co中的一种或两种及M元素所构成的金属问化合物相，在全体显微组织中共晶组织所占的面积为30％以下。
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公开(公告)号：CN107004481A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：CN201680004158.3
申请日：2016-03-08
Applicant: 山阳特殊制钢株式会社
Abstract: 提供一种软磁性扁平粉末及其制造方法，其特征在于，其是由Fe－Si－Al系合金构成的扁平粉末，平均粒径为43～60μm，在扁平粉末的纵长方向外加磁场而测量到的矫顽力Hc在106A/m以下，振实密度相对于真密度的比为0.17以下，氧含量为0.6质量％以下，锰含量为0.1质量％以上且1.0质量％以下的范围，余量全部由不可避免的杂质构成。该软磁性扁平粉末作为磁片使用时，能够实现特别高的导磁率。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104081455B
公开(公告)日：2017-05-24
申请号：CN201380007516.2
申请日：2013-02-01
Applicant: 山阳特殊制钢株式会社
Abstract: 提供一种在磁性记录介质中使用的并且具有低饱和磁通密度的软磁性膜层用合金和溅射靶材料。所述合金包含选自由Y、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Ni、Cu、Al、B、C、Si、P、Zn、Ga、Ge和Sn组成的组中的一种或多种，以及余量的Co和Fe；并且以原子％计，满足下列式(1)至(3)：(1)0.50≤Fe％/(Fe％+Co％)≤0.90；(2)5≤TAM≤25；和(3)15≤TAM+TNM≤25，条件是TAM和TNM分别为：TAM＝Y％+Ti％+Zr％+Hf％+V％+Nb％+Ta％+B％/2；并且TNM＝Cr％+Mo％+W％+Mn％+Ni％/3+Cu％/3+Al％+C％+Si％+P％+Zn％+Ga％+Ge％+Sn％。
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公开(公告)号：CN105473275A
公开(公告)日：2016-04-06
申请号：CN201480044264.5
申请日：2014-07-25
Applicant: 山阳特殊制钢株式会社
Abstract: 本发明提供一种添加有Cu的Ni-Cr-Fe基合金钎料，其用于不锈钢制热交换器等的制造，熔融温度低、低价、且耐蚀性和强度优异。该钎料是以质量％计，包含Cr：15～30％、Fe：15～30％、Cu：2.1～7.5％、P：3～12％、Si：0～8％、余量Ni及不可避免的杂质，且Cr与Fe的合计含量为30～54％、P与Si的合计含量为7～14％的Ni-Cr-Fe基合金钎料。
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公开(公告)号：CN103098135B
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：CN201180040330.8
申请日：2011-08-19
Applicant: 山阳特殊制钢株式会社
CPC classification number: G11B5/656 , C22C19/07 , C23C14/3407 , C23C14/3414 , G11B5/667 , G11B5/851
Abstract: 本发明提供具有低矫顽磁力、高无定形性、高耐腐蚀性及高硬度的垂直磁记录介质用软磁性合金、以及用于制作该合金的薄膜的溅射靶。该合金以at.％计含有Zr及Hf的1种或2种合计为6～20％、含有B1～20％、含有Ti、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Ni、Al、Si、P的1种或2种以上合计0～7％，剩余部分含有Co和/或Fe、以及不可避免的杂质。该合金还满足6≤2×(Zr％+Hf％)-B％≤16、以及0≤Fe％/(Fe％+Co％)＜020。
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公开(公告)号：CN102766848B
公开(公告)日：2015-03-04
申请号：CN201210213690.X
申请日：2009-04-30
Applicant: 山阳特殊制钢株式会社
CPC classification number: G11B5/667 , C22C1/0433 , C22C19/03 , C22C19/058 , C23C14/3414 , G11B5/8404 , G11B5/851
Abstract: 本发明公开一种用于制备垂直磁记录介质的中间层膜的溅射靶材料，其能够显著减小通过溅射形成的薄膜的晶粒尺寸。所述溅射靶材料以原子％计包含1至20％的W；总计0.1至10％的P、Zr、Si和B组成的组一种或多种选自由P、Zr、Si和B组成的组中的元素；和余量的Ni。
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公开(公告)号：CN103119186B
公开(公告)日：2015-01-14
申请号：CN201180039730.7
申请日：2011-08-10
Applicant: 山阳特殊制钢株式会社
CPC classification number: G11B5/8404 , B22F3/15 , C22C1/04 , C22C14/00 , C22C27/06 , C23C14/3414 , G11B5/7325 , G11B5/851
Abstract: 本发明提供含有35～65原子％的Ti、剩余部分含有Cr及不可避免的杂质的CrTi系合金或溅射靶材及它们的制造方法。该CrTi系合金或靶材具有0.50以下的、Cr2Ti(311)的X射线衍射强度[I(Cr2Ti)]相对于Cr(110)的X射线衍射强度[I(Cr)]的强度比[I(Cr2Ti)/I(Cr)]。根据本发明，可以减少CrTi系合金及溅射靶材中的化合物，此外还可以由此抑制溅射时的颗粒产生而提高溅射膜的产品合格率。
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