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公开(公告)号：CN1228690C
公开(公告)日：2005-11-23
申请号：CN03131462.7
申请日：2003-05-15
申请人： 大日本网目版制造株式会社
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： B41J2/465
摘要： 图像记录装置(1)具有用于夹持衬底(9)的平台单元(2)，具有多个辐射部件(40)的辐射单元(4)，和用于相对地移动的平台单元(2)和辐射单元(4)的机构。辐射部件(40)具有DMD，其具有一组用于调制反射光束的微反射镜，和一个微移动机构，用于相对于辐射单元(4)沿X方向移动的DMD，由此微观地沿X方向移动辐射部件(40)的辐射位置。辐射部件(40)还具有一个变焦透镜，由此在衬底(9)上放大和缩小DMD的一幅图像。通过平行地和独立地控制多个辐射部件(40)，图像记录装置(1)能够以高速写入精细图形。
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公开(公告)号：CN1689809A
公开(公告)日：2005-11-02
申请号：CN200510067072.9
申请日：2005-04-27
申请人： 大日本网目版制造株式会社
CPC分类号： H04N1/0678 , H04N1/08 , H04N1/0813 , H04N1/0839 , H04N1/0882
摘要： 牵引端传感器(8 1)设置在牵引端压板(53)的附近。该牵引端传感器(81)检测板是否处于其感测点。基于由该牵引端传感器(81)检测的板(P)的牵引端位置，记录鼓(5)的旋转角位置固定在牵引端压板位置，在此处，板(P)的牵引端被牵引端压板(53)夹紧。因此，就可以通过牵引端压板(53)来固定板(P)，并且，就可以不考虑在制造过程中可能出现的板与板的变化，通过该牵引端压板(53)确保该板(P)的咬口白边。
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公开(公告)号：CN1669680A
公开(公告)日：2005-09-21
申请号：CN200510009408.6
申请日：2005-02-21
申请人： 大日本网目版制造株式会社
摘要： 本发明提供一种喷嘴清洗装置及基板处理装置，能够提高喷出喷嘴的清洗处理的清洗效果。在清洗细缝喷嘴(41)的清洗部(74)上，设置接近细缝喷嘴(41)的喷出口(41a)的下方的导向块(743)。此外，在设置喷出氮气的气体喷嘴(710)和喷出漂洗液(LQ)的清洗喷嘴(750)的同时，利用吸引装置吸引细缝喷嘴(41)的喷出口(41a)的下方。通过设定导向块(743)的X轴方向的厚度为喷出口(41a)的X轴方向的宽度或其以上的厚度，从而进行调整，使得吸引装置的吸引力不直接作用到喷出口(41a)上。由此，可以使吸引装置的吸引力上升，提高清洗效果。
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公开(公告)号：CN1664493A
公开(公告)日：2005-09-07
申请号：CN200410100754.0
申请日：2004-12-13
申请人： 大日本网目版制造株式会社
发明人： 藤原成章
IPC分类号： G01B11/06
摘要： 本发明提供一种即使是滤色片那样的选择性透过特定波长区域的光的透明薄膜也能正确测定其膜厚的膜厚测定方法和装置。首先，对每一种不同的膜厚取得多个作为在基板上形成了具有规定膜厚的无色透明薄膜的试样的分光反射率而计算出的理论分光反射率。接着，取得作为测定对象的滤色片的分光透射率，把该分光透射率中规定透射率以上的波长区域选定为测定波长区域。把对每一种不同膜厚而计算出的多个理论分光反射率通过分光透射率修正，求出修正后理论分光反射率。之后，向在基板上形成了测定对象的滤色片的试样照射光，把从该试样反射的光进行分光而实测分光反射率。比较得到的实测分光反射率和修正后理论分光反射率而计算出滤色片的膜厚。
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公开(公告)号：CN1641648A
公开(公告)日：2005-07-20
申请号：CN200410096218.8
申请日：2004-11-25
申请人： 大日本网目版制造株式会社
发明人： 山崎俊之
IPC分类号： G06F17/50
CPC分类号： G06T11/60
摘要： 一种图形处理装置，设定一围绕目标图形对象展开图的外接区和一包含该外接区的外部区域，并且将该外部区域限定为一选择区。随后，该图形处理装置选择该选择区中出现的多个展开图的至少一个，作为相邻图形对象。然后，显示该相邻图形对象，并且可编辑地显示该目标图形对象。这使得操作者易于识别目标和相邻图形对象之间是否出现干扰，由此实现编辑目标图形对象的有效操作。
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公开(公告)号：CN1629849A
公开(公告)日：2005-06-22
申请号：CN200410095074.4
申请日：2004-11-23
申请人： 大日本网目版制造株式会社
发明人： 山崎俊之
IPC分类号： G06F17/50
CPC分类号： G06T11/20 , B26D7/27 , B26F1/3806 , G06T7/60
摘要： 一种图形处理装置，对目标图形对象的图形原语进行扫描，以搜索最外面的闭合形状，并且显示被扫描的图形原语、搜索起始点、转向点和一区域，该区域由被扫描的图形原语围绕，并且被涂上阴影以区别于其他区域。因此，操作者可判断该目标图形对象的轮廓线是否形成闭合的形状。如果该轮廓未形成闭合形状，则操作者能够容易地判断哪个图形原语未被连接。
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公开(公告)号：CN1626418A
公开(公告)日：2005-06-15
申请号：CN200410100291.8
申请日：2004-12-10
申请人： 大日本网目版制造株式会社
CPC分类号： H01L21/67276 , Y10S414/135 , Y10S414/136
摘要： 本发明涉及一种基板处理装置及基板处理装置的管理方法，在基板处理装置中对各动作部进行各式各样的维护工作。在装置空间的侧面规定位置设置有门，在各个门设置着联锁开关。在每个门的附近设置有联锁解除部，其用于将联锁开关的功能设定为无效，使装置空间内各动作部中特定的动作部的电源为断开状态，将其他动作部的电源维持为接通状态。在装置空间的侧面的规定位置设置着再动作指令部，其用于通过联锁解除部的操作，使成为断开状态的特定的动作部的电源成为接通状态。
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公开(公告)号：CN1574221A
公开(公告)日：2005-02-02
申请号：CN200410045947.0
申请日：2004-05-25
申请人： 大日本网目版制造株式会社
IPC分类号： H01L21/027 , B05C5/02 , B05D1/26 , G03F7/30 , G03F7/16 , H01L21/304
摘要： 本发明提供一种液体供给装置及基板处理装置，防止向基板供应的处理液中混入其它液体。在液体供给装置(30)上设置狭缝喷嘴(31)；喷嘴管道(32)；三通阀(33)；药液供给部(34)；药液管道(35)；洗涤液供给部(36)；洗涤液管道(37)及排液装置(38)。通过将由洗涤液供给部(36)供应的洗涤液从狭缝喷嘴(31)排出，在显影处理中，将附着并残留在狭缝喷嘴(31)及喷嘴管道(32)等上的显影液洗净。之后，由排液装置(38)将洗涤液从洗涤液管道(37)排液，使洗涤液管道(37)处于空的状态。进一步，控制三通阀(33)，将喷嘴管道(32)与药液管道(35)连通地连接，进行从药液供给部(34)的显影液的供应。
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公开(公告)号：CN1173387C
公开(公告)日：2004-10-27
申请号：CN02127003.1
申请日：2002-07-25
申请人： 大日本网目版制造株式会社
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/306 , B08B3/00
CPC分类号： H01L21/67161 , C03C15/00 , C03C23/0075 , C03C23/0085 , H01L21/67173
摘要： 本发明涉及在个别地配置了向通过主运送机构运送的基板提供处理液进行湿式表面处理的湿式处理单元和向通过湿式处理单元进行湿式表面处理的基板表面通过处理流体进行表面处理的高压处理单元的基板处理装置中，防止将基板从湿式处理单元运送到前述高压处理单元期间处理液对主运送机构的浸湿和污染。对于显像处理单元的任一单元，主运送路，显像处理单元，专用运送自动机及高压处理单元按此顺序在Y方向呈直线状配置。在将被处理液浸湿的基板运送到高压处理单元期间，即使基板上附着的处理液或其蒸发物移动到主运送路侧，直到主运送路为止要经过显像处理单元。
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