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公开(公告)号：CN109545894A
公开(公告)日：2019-03-29
申请号：CN201811386272.4
申请日：2018-11-20
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: H01L31/18 , H01L31/0236
Abstract: 一种倒八棱台形图形化硅衬底的制备方法，本发明涉及一种倒八棱台形图形化硅衬底的制备方法。本发明的目的是为了解决目前干法蚀刻无法制备棱锥、棱台形图形化硅衬底以及难以蚀刻制备具有高指数晶面图形化硅衬底的问题，方法为：周期性二氧化硅掩膜制备、湿法蚀刻和去除二氧化硅掩膜；本发明具有高指数晶面，高指数晶面的均方根粗糙度比低指数晶面粗糙度高约10倍，比(100)晶面的粗糙度高约4倍。而粗糙的表面可以对入射光进行多次反射并增加光程，进而降低表面对光的反射率，因此倒八棱台图形化硅衬底相比于仅有低指数晶面的倒金字塔结构具有更优的光捕获能力。本发明应用于图形化硅衬底的制备领域。
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公开(公告)号：CN105177718B
公开(公告)日：2018-07-03
申请号：CN201510354323.5
申请日：2015-06-24
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 六边角锥体图形化蓝宝石的制备方法，它涉及一种蓝宝石的制备方法。本发明是为了解决干法刻蚀在蓝宝石表面难以制作六边角锥体的问题。本方法如下：将预处理后的圆锥形图形化蓝宝石片置于石英花篮中，将石英烧杯中混合溶液A高温湿法刻蚀，然后用去离子水冲洗圆锥形图形化蓝宝石片，再氮气吹干，即得六边角锥体图形化蓝宝石。本发明的六边角锥体图形化蓝宝石的制备方法能有效地将圆锥形图形化蓝宝石转化为六边角锥体图形化蓝宝石，且生成的六边角锥体图形化蓝宝石规则有序，重复性好。且采用的设备简单，操作方便，易于掌握，过程安全、无污染。本发明属于蓝宝石的制备领域。
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公开(公告)号：CN104802089A
公开(公告)日：2015-07-29
申请号：CN201510263137.0
申请日：2015-05-21
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: B24B53/06
CPC classification number: B24B53/062 , B24B53/06
Abstract: 一种基于杯形工具球面包络的圆弧砂轮在线修整装置，它涉及一种圆弧砂轮在线修整装置，以解决现有的圆弧砂轮修整方法存在的适应范围小、装置功能单一、修整精度低，以及无法为圆弧砂轮修整提供在线修整的问题，它包括第一步进电机、第二步进电机、连接架、水平连接板、旋转机构、竖向移动机构和水平移动机构；旋转机构包括减速电机和连接组件，第一步进电机和水平移动机构安装在连接架上，竖向移动机构与连接组件连接，减速电机安装在连接组件上，减速电机的输出端安装杯形铜质电极或杯形砂轮；第二步进电机安装在水平连接板上，水平连接板安装在砂轮罩上。本发明用于圆弧砂轮的在线修整。
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公开(公告)号：CN103335833B
公开(公告)日：2015-05-13
申请号：CN201310272441.2
申请日：2013-07-02
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: G01M13/00
Abstract: 在线测量超精密静压主轴动态性能的装置及采用该装置测量静压主轴动态性能的方法，本发明涉及一种超精密静压主轴动态性能在线测量方法。本发明解决了现有方法不能实现超精密静压主轴动态性能在线测量或现有方法难以解决测量基准的安装误差和制造误差对测量结果产生影响的问题。本发明采用高精度位移传感器采集传感器与标准球之间的位移信息，获得的位移信息经信号放大器进行放大，经A/D转换电路和数据采集电路后输入至计算机；采用旋转编码器对主轴的相位信息进行采集并输入计算机，通过计算机进行分析与处理，获得超精密静压主轴旋转的动态性能误差数据，完成超精密静压主轴动态性能在线测量。本发明适用于超精密静压主轴动态性能在线测量。
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公开(公告)号：CN102975299B
公开(公告)日：2015-04-08
申请号：CN201210486509.2
申请日：2012-11-26
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 一种双刀盘式超精密飞切铣床，它涉及一种铣床。本发明为解决现有的KDP超精密加工机床的主轴系统的刚度低、加工效率低的问题。所述铣床包括大理石T型床身、横向直线导轨系统、纵向直线导轨系统、双刀盘主轴系统、空气隔振支撑系统；横向直线导轨系统与纵向直线导轨系统垂直布置在大理石T型床身上，横向直线导轨系统位于纵向直线导轨系统的两端，双刀盘主轴系统位于纵上溜板上，两个真空吸盘和双刀盘主轴系统形成相对运动。本发明实现了高精度的直线进给运动和刀盘的回转运动及双工件的同时切削，而且导轨和主轴均采用了液体静压的控制方式，具有高精度、高刚度的优点。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103522190A
公开(公告)日：2014-01-22
申请号：CN201310532718.0
申请日：2013-10-31
IPC: B24B53/06
CPC classification number: B24B53/06
Abstract: 一种圆弧金刚石砂轮电火花与机械复合修整装置，它涉及一种金刚石砂轮修整装置，以解决现有的圆弧金刚石砂轮用修整设备功能单一，修整效率较低以及修整成本较高的问题，它包括第一电机、第一蜗轮蜗杆减速机、第二电机、第二蜗轮蜗杆减速机、机座、支座、丝杠、固定架、砂轮轴、第三电机、绝缘垫木、带轮、传动带、第一旋拧件、第二旋拧件、弹簧、碳刷、高频脉冲电源和修整轮；第一蜗轮蜗杆减速机安装在机座上，支座的上端安装有第二蜗轮蜗杆减速机，第一旋拧件穿设在第二旋拧件内且第一旋拧件能沿第二旋拧件的轴向往复运动，第一旋拧件与弹簧的一端连接，碳刷与弹簧的另一端连接。本发明用于圆弧金刚石砂轮的修整。
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公开(公告)号：CN103344425A
公开(公告)日：2013-10-09
申请号：CN201310268146.X
申请日：2013-06-28
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: G01M13/00
Abstract: 基准平面式超精密直驱式静压主轴动态性能在线测试方法，涉及静压主轴性能测试领域。本发明是为解决现有方法不能实现超精密静压主轴动态性能在线测试的问题。本发明方法如下：在直驱式超精密静压主轴转子的上端部安装高精度标准平面作为测量基准，采用高精度位移传感器测量主轴旋转时标准平面与高精度位移传感器之间的位移变化，通过传感器信号放大与数据采集系统将测得的位移变化量转换成数字信号后送入计算机进行数据分析与处理，从而实现超精密直驱式主轴动态性能的在线测量。本发明可以实现对处于实际加工状态下的超精密静压主轴的动态性能进行实时在线测量，不影响超精密机床的加工过程。
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公开(公告)号：CN102554787A
公开(公告)日：2012-07-11
申请号：CN201210013695.8
申请日：2012-01-17
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: B24B53/075 , B24B41/06
CPC classification number: Y02P70/177
Abstract: 抛光砖用金刚石磨块修整装置，它涉及一种金刚石磨块修整装置。本发明为解决现有的金刚石磨块修整方法存在修整效率低、修整后的磨块直线度差的问题。第一丝杠导轨工作台的导轨与第二丝杠导轨工作台的导轨呈T字形设置，所述第一大皮带轮固套在第一传动轴的一端上，所述第一传动轴的一端上固装有第一电极，所述第一小皮带轮通过第一同步带与第一大皮带轮传动连接，所述第一磨块夹具固套在第一传动轴的中部；所述第二传动轴的一端上固装有第二电极，所述第二小皮带轮通过第二同步带与第二大皮带轮传动连接，所述第二磨块夹具固套在第二传动轴的中部；第一磨块夹具和第二磨块夹具上沿圆周方向均布加工有多个凹槽。本发明用于修整金刚石磨块。
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公开(公告)号：CN102241084A
公开(公告)日：2011-11-16
申请号：CN201110108993.0
申请日：2011-04-28
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 双刀盘卧式超精密液体静压电主轴系统，它涉及一种液体静压电主轴系统。本发明为解决现有的KDP超精密加工机床的主轴系统的刚度低、加工效率低的问题。第一轴系支架位于壳体内腔的一端，第一轴系支架通过第一固定挡板与壳体固接，第二轴系支架位于壳体内腔的另一端，直流双输出轴电机的第一输出轴通过第一止推板与第一主轴的一端固接，第一主轴的另一端与第一刀盘固接，第一轴套套装在第一主轴上，第一轴套固装在第一轴系支架上；直流双输出轴电机的第二输出轴通过第二止推板与第二主轴的一端固接，第二主轴的另一端与第二刀盘固接，第二轴套套装在第二主轴上，第二轴套固装在第二轴系支架上。本发明的主轴系统用于加工KDP晶体光学零件。
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公开(公告)号：CN101670556B
公开(公告)日：2011-01-05
申请号：CN200910308691.0
申请日：2009-10-23
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 胶体液流动压空化射流抛光装置及方法，它涉及一种抛光装置及方法。本发明为解决现有超光滑表面抛光方法加工效率低、成本高、工件材料适应性受限以及现有的超光滑表面抛光装置存在设备复杂、维护成本高的问题。装置：空化射流器固定在支架上，空化射流器的输入端通过管路与第一液流换向阀的出口连接。方法：一、胶体抛光液面淹没被抛光工件10～200mm；二、空化射流器的油压为0.5～15MPa；三、空化射流压力为0.5～15MPa；四、空化射流器的喷口设置在胶体抛光液中，空化射流器以15～250m/s的速度喷向工件，抛光后取出工件即为抛光工件。本发明用于光学玻璃、微晶玻璃、半导体材料及单晶材料的超精密、超光滑抛光。
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