一种用于电子显示玻璃铂金通道进液道的排泡装置

    公开(公告)号:CN108793684A

    公开(公告)日:2018-11-13

    申请号:CN201811029535.6

    申请日:2018-09-05

    IPC分类号: C03B7/02 C03B5/18

    CPC分类号: C03B7/02 C03B5/18

    摘要: 本发明涉及一种用于电子显示玻璃铂金通道进液道的排泡装置,包括用于放置玻璃液(3)的进液道槽体(1),槽体(1)顶部设有一个与槽体(1)配合的盖板(4),盖板(4)下表面与玻璃液(3)上表面之间设有气体空间(6),且盖板(4)上设有一个排气孔(5),进液道槽体(1)为U型结构,且其顶部设有凸起的卡条(1a),槽体(1)及卡条(1a)均设有铂金层(2);盖板(4)下表面设有凹槽(4a),凹槽(4a)与卡条(1a)形成压紧配合;盖板(4)上嵌入一个排泡插块(7),排泡插块(7)内设排气道(7a)和排气口(7b),排气道(7a)与排气孔(5)相通。本发明的优点是提高了排泡效果,防止冷凝物质回落,保证玻璃液的品质。

    一种电子显示玻璃铂金通道搅拌桶的液位稳定装置

    公开(公告)号:CN108439769A

    公开(公告)日:2018-08-24

    申请号:CN201810641422.5

    申请日:2018-06-21

    IPC分类号: C03B5/18

    摘要: 本发明涉及一种电子显示玻璃铂金通道搅拌桶的液位稳定装置,包括搅拌桶(1)上设有玻璃液的进液口(14)和出液口(9),顶部盖板(4)中设有搅拌杆(3)通向搅拌桶内以搅拌玻璃液(5),其特征在于:在搅拌桶桶壁的耐火材料(7)中,沿搅拌桶圆周均布设置一组锡液储筒(13),锡液储筒沿桶壁竖向设置,锡液储筒的上端设有加锡通气孔(15)、下端设有锡液连通孔(11);所述出液口(9)的位置高于搅拌桶底部一段距离,在搅拌桶内该距离形成玻璃液浮动数字范围,锡液连通孔(11)位于浮动范围底部。本发明搅拌桶内的玻璃液位得以自动调整,具有玻璃液位控制方便、自动化程度高的优点。

    一种Al、Mn共掺杂ZnO薄膜的制备方法

    公开(公告)号:CN108165940A

    公开(公告)日:2018-06-15

    申请号:CN201711415330.7

    申请日:2017-12-25

    IPC分类号: C23C14/35 C23C14/08

    CPC分类号: C23C14/352 C23C14/086

    摘要: 本发明公开一种Al、Mn共掺杂ZnO薄膜的制备方法,包括以下步骤:S1、清洗衬底,去除衬底表面污垢;S2、在磁控溅射设备的溅射腔内设置ZnO靶材、Al2O3靶材与MnO2靶材,三个靶材依次间隔呈弧形分布;S3、清洗后的衬底置于溅射腔内的样品架上,样品架采用可旋转式样品架,使溅射时衬底能够以圆周方式运行,并依次经过三个靶材;S4、当溅射腔内真空度满足要求时,通入溅射气体氩气,在衬底上溅射沉积得到Al、Mn共掺杂ZnO薄膜;设置三个相互独立的靶材,每个靶材的溅射参数可根据需要单独设置,可制备任意掺杂量的Al、Mn共掺杂ZnO薄膜;制备工艺简单,重复性好,并且可节约大量靶材成本。

    一种共掺杂类金刚石薄膜的制备方法

    公开(公告)号:CN107686972A

    公开(公告)日:2018-02-13

    申请号:CN201710800552.4

    申请日:2017-09-07

    IPC分类号: C23C14/34 C23C14/35 C23C14/06

    摘要: 本发明涉及一种共掺杂类金刚石薄膜的制备方法,包括以下步骤:选用0.3-0.5mm的超白玻璃为衬底材料;对衬底材料进行超声波清洗;设置W靶材和C靶材,W靶材和C靶材相交是设置,且两靶材的交点位于样品架处;把清洗后的超白玻璃衬底放置于样品架上;使用Ar离子轰击W、C两靶材,达到清洗和活化靶材的作用;把清洗后的衬底材料放入真空度抽至3.0×10-4—5.0×10-4Pa的溅射腔室内,通入氩气进行预溅射起辉,同时再通入氮气。本发明的优点:W靶材和C靶材独立控制,改变两靶的工艺参数以及氮气量,能够制备出各种高性能的薄膜,其制备工序简单,实验易控制,可根据实际需要制备不同硬度和透过率的薄膜。

    一种绒面多层膜透明导电玻璃

    公开(公告)号:CN107611187A

    公开(公告)日:2018-01-19

    申请号:CN201710795754.4

    申请日:2017-09-06

    CPC分类号: Y02E10/50

    摘要: 本发明公开一种绒面多层膜透明导电玻璃,包括玻璃基底,玻璃基底顶面由下至上依次设有下ZnO基薄膜与上ZnO基薄膜,上ZnO基薄膜表面设有一组离散分布的球坑,使上ZnO基薄膜表面呈凹凸的织构化结构;上ZnO基薄膜的厚度小于球坑的直径;通过离散分布的球坑,在上ZnO基薄膜表面形成凹凸的织构化结构,从而得到高透过率、低电阻率的多层膜透明导电玻璃;制作时,可以先在下ZnO基薄膜表面制备单层离散的聚苯乙烯小球层,然后利用聚苯乙烯小球层作为掩膜,溅射生长上ZnO基薄膜,之后去除聚苯乙烯小球,即在上ZnO基薄膜表面形成凹凸的织构化结构;由于聚苯乙烯小球层的直径与浓度可控,因而使得上ZnO基薄膜表面的微结构可控,调节ZnO基薄膜的雾度。