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公开(公告)号：CN102466968A
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN201010547689.1
申请日：2010-11-17
Applicant: 上海广电电子股份有限公司
IPC: G03F7/00
Abstract: 本发明涉及一种光学微镜阵列的制作方法，使用曝光显影干刻的手段，在基板出光面形成均匀分布的圆形微镜。其侧面弧度与水平方向成锐角，此制作方法尤其适用于以玻璃为基底的OLED照明器件，可有效提高光输出。
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公开(公告)号：CN102121093A
公开(公告)日：2011-07-13
申请号：CN201010022470.X
申请日：2010-01-07
Applicant: 上海广电电子股份有限公司
Abstract: 本发明涉及一种金属蒸镀复合坩埚，包括上端开口的坩埚容器，其特点是：坩埚容器的开口边上设有一个环状水平平台；环状水平平台外固定连接保温套筒，坩埚容器与保温套筒之间形成一个封闭空间，封闭空间内沿坩埚容器壁盘绕有加热丝，保温套筒底部设有一对环状泄流槽。本发明的坩埚通过增加一保温套筒，提高了坩埚的加热效率，在坩埚停止加热时套筒的保温作用防止金属凝结，从而延长坩埚容器的使用寿命。
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公开(公告)号：CN102071398A
公开(公告)日：2011-05-25
申请号：CN200910199178.2
申请日：2009-11-20
Applicant: 上海广电电子股份有限公司
Abstract: 本发明涉及一种金属蒸镀用坩埚，包括一端开口的坩埚容器，其特点是：坩埚容器的开口边上设有一个环状水平平台，环状水平平台上开有至少一条环状限流凹槽。环状限流凹槽与坩埚容器和环状水平平台同心，且位于水平平台外沿，环状水平平台的宽度至少为加热丝横截面宽度的三倍。环状限流凹槽的深度为环状水平平台厚度的一半，其宽度小于加热丝的直径。本发明具有一个相对宽阔的水平平台，其宽度大于加热丝横截面直径的三倍或三倍以上，因而溢出坩埚本体的金属熔液，在横向漫过水平平台之后，就不会与隐蔽在水平平台下方的加热丝接触，且减少了溢出金属熔液再次受热蒸发导致加热不稳定的情况。
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公开(公告)号：CN101748362A
公开(公告)日：2010-06-23
申请号：CN200810204188.6
申请日：2008-12-09
Applicant: 上海广电电子股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种粉末靶，由ZnO构成、或以ZnO为组成之一且组成为InwGaxSnyZnzOu的多种金属氧化物粉末构成。本发明还公开了一种粉末靶的制备方法，还公开了一种ZnO基薄膜晶体管有源层的制作方法，包括一个制备粉末靶的步骤，粉末靶由ZnO构成、或以ZnO为组成之一的多种金属氧化物构成，采用一个高导热金属底座，在底座上设置有一个填料槽，在槽内设置有与之紧密结合且高度致密的粉末块体，然后采用射频磁控溅射法沉积薄膜晶体管的有源层。本发明提出的ZnO基粉末靶的制作方法简单、使用和维护成本低廉，作为溅射靶材沉积了高质量的薄膜晶体管有源层，所制造的薄膜晶体管性能优越。
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公开(公告)号：CN101748361A
公开(公告)日：2010-06-23
申请号：CN200810204401.3
申请日：2008-12-11
Applicant: 上海广电电子股份有限公司
Abstract: 本发明公开一种溅射靶材的制造方法，涉及半导体器件技术领域；所要解决的是制造多组分、低成本、低熔点、不易开裂、大尺寸的溅射靶材的技术问题；该溅射靶材的制造方法，其特征在于，1)将制造溅射靶材所需的金属粉末和金属氧化物粉末按比例混合；2)将混合后的金属粉末和金属氧化物粉末在模具中压制成靶材的形状；3)将压制好的靶材进行脱气处理，然后进行烧结，烧结的环境是在真空或惰性气氛中，烧结的温度为金属的平均熔点的70-80％。本发明的溅射靶材的制造方法具有多组分，低成本，低熔点，不易开裂的，能制造大尺寸靶材的特点。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1988103B
公开(公告)日：2010-05-05
申请号：CN200510111949.X
申请日：2005-12-23
Applicant: 上海广电电子股份有限公司
Abstract: 本发明公开一种平板显示器荧光屏的涂粉制造设备及其方法，涉及平板显示器荧光屏的涂粉制造技术领域；该制造设备包括荧光粉浆料或溶液的搅拌系统、连接所述搅拌系统的送液系统、可调间隙的匀液系统、平板玻璃的匀速搬运系统；其制造方法：1)荧光粉浆料或液体通过搅拌系统搅拌混合好；2)荧光粉浆料或混合液体搅拌均匀之后就进入了送液系统，所述送液系统通过控制流量和速度能把液体基本均匀的涂覆在玻璃基板上；3)涂覆好荧光粉液体或浆料的玻璃基板在所述搬运系统上面进行平行的匀速的移动，并在匀液系统的作用下，进行匀液，控制荧光粉液体在玻璃基板上的量和分布状态，多余的将会被匀液系统向后推置或向两边流出。
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公开(公告)号：CN101481556A
公开(公告)日：2009-07-15
申请号：CN200810032546.X
申请日：2008-01-11
Applicant: 上海广电电子股份有限公司
Abstract: 一种全彩电致发光显示器用紫外光固化荧光色彩转换膜及制备方法，属于全彩电致发光显示器领域，本发明的紫外光固化荧光色彩转化膜含有活性齐聚物、活性稀释剂、光引发剂、荧光颜料、高分子型分散剂、流平剂、消泡剂、附着力增进剂。本发明的制备方法是将上述各物质按一定比例混合而得到紫外光固化荧光涂料，通过丝网印刷于全彩电致发光显示屏的发光出射面，随后进行紫外光照射而固化，即得到全彩电致发光显示器用紫外光固化荧光色彩转化膜。以单一高辉度蓝色荧光体为背景光源，背景蓝光经此膜可获得比背景蓝光更亮的红、绿两基色，进而与背景蓝光实现电致发光显示器的全彩显示。本发明制备工艺简单，色彩转换效率高。
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公开(公告)号：CN100481300C
公开(公告)日：2009-04-22
申请号：CN200310122932.5
申请日：2003-12-29
Applicant: 上海广电电子股份有限公司 , 清华大学
Abstract: 本发明公开了一种带电阻场发射电子的阴极部件，其特征为：所述的电子阴极部件设有行电极或列电极，在行电极和下电极之间或在列电极和下电极之间设有电阻。设置电阻的反馈作用可以在一定程度上稳定发射，当行电极加负电压，列电极加正电压时，电子从下电极注入到传输层中，并在其中得到加速，最后到达上电极，部分电子则穿过上电极，发射到真空中。由于在下电极和行电极之间增加反馈电阻，能在很大程度上使得发射变得均匀稳定。对于发射大的单元，反馈电阻上的压降增大，电极之间的电压减小，对于发射小的单元，反馈电阻上的压降小，电极之间的压降就大，这就改善了发射的均匀性。
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公开(公告)号：CN101212028A
公开(公告)日：2008-07-02
申请号：CN200610148153.6
申请日：2006-12-28
Applicant: 上海广电电子股份有限公司
IPC: H01L51/56 , H01L21/28 , H01L21/3213
Abstract: 一种有机发光显示器基板电极的图形化方法，涉及有机发光显示器技术领域；本发明解决了刻蚀时透明导电氧化物电极刻断的技术问题；该方法步骤如下：首先制作包含透明导电氧化物电极图形及金属电极图形的第一掩膜版；在带有金属的透明导电氧化物电极玻璃上途敷正性光刻胶；用第一掩膜版作为掩膜，进行曝光；显影、烘烤；对金属进行蚀刻；对透明导电氧化物电极进行蚀刻；脱膜；其次制作包含覆盖金属电极区域的图形的第二掩膜版；在基板上途敷正性光刻胶；用第二掩膜版作为掩膜，进行曝光；显影、烘烤；对金属进行蚀刻；脱膜。本发明利用了刻蚀中透明导电氧化物刻蚀液与金属刻蚀液互不作用的特性，避免了现有技术中透明导电氧化物电极的刻断。
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公开(公告)号：CN101182131A
公开(公告)日：2008-05-21
申请号：CN200610118331.0
申请日：2006-11-14
Applicant: 上海广电电子股份有限公司
Abstract: 本发明公开一种玻璃衬底上制备牢固碳膜的方法，涉及薄膜成型技术领域；本发明以玻璃为衬底，先在玻璃上沉积一层铬、铂、钼、钽、钛、锡、铋、锑、铟，等金属，再在这些金属上沉积铁、钴、镍、钯，或直接在玻璃上沉积铬、铂、钼、钽、钛、锡、铋、锑、铟等与铁、钴、镍、钯的合金或其金属氧化物作为催化剂，然后用常规的化学气相沉积法生长碳膜。合金薄膜采用电子束共蒸发的沉积装置，可以任意控制合金薄膜的成分；生长碳膜时的衬底温度为400℃～600℃。本发明成功地解决了在玻璃衬底上生长碳膜的牢固度问题及低温条件下生长高质量碳膜的问题，并可以控制生长碳膜的密度。
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