-
公开(公告)号:CN104838342A
公开(公告)日:2015-08-12
申请号:CN201380063496.0
申请日:2013-12-02
申请人: 3M创新有限公司
发明人: 肖恩·C·多兹 , 马修·S·斯泰 , 米哈伊尔·L·佩库罗夫斯基 , 马修·H·弗雷 , 马克·J·佩莱里特 , 约翰·P·巴埃佐尔德
IPC分类号: G06F3/041
CPC分类号: G06F1/16 , B82B1/002 , B82Y15/00 , B82Y40/00 , G06F3/041 , G06F3/0412 , G06F2203/04103 , G06F2203/04112 , Y10S977/767 , Y10S977/887 , Y10S977/956
摘要: 本文公开了一种图案化导电层以形成透明电导体的方法(该方法不需要蚀刻)。所述方法包括从涂布有导电层的基板剥去可剥离聚合物层以图案化所述导电层。在一些实施例中,在导电层上图案化抗蚀基质材料以防止移除抗蚀基质材料下的导电层。在其它实施例中,使具有压敏粘合剂表面的衬片与图案化的可剥离聚合物材料接触以移除图案化的可剥离聚合物材料和其下面的导电层二者。
-
公开(公告)号:CN104221127A
公开(公告)日:2014-12-17
申请号:CN201280062807.7
申请日:2012-12-19
申请人: 佳能纳米技术公司 , 分子制模股份有限公司
IPC分类号: H01L21/027
CPC分类号: B29D11/0074 , B29C33/3842 , B29C43/003 , B29C43/021 , B29C59/022 , B29C2033/426 , B29C2043/025 , B29C2059/023 , B29D11/00 , B29D11/00769 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , G03F7/0017 , Y10S977/887 , Y10S977/888
摘要: 描述了形成可用于图案化包括例如线栅偏振器(WGP)的大面积光学装置的大面积模板的方法。这些方法提供这种大面积装置的无缝图案化。
-
公开(公告)号:CN101939253B
公开(公告)日:2014-07-23
申请号:CN200980104087.4
申请日:2009-02-03
申请人: 国际商业机器公司
IPC分类号: B82B3/00
CPC分类号: H01L21/0338 , B81B2203/0369 , B81C1/00031 , B81C2201/0149 , B81C2201/0198 , B82Y30/00 , H01L21/0337 , H01L51/0017 , Y10S977/882 , Y10S977/887 , Y10S977/888 , Y10T428/24479 , Y10T428/2457 , Y10T428/24612 , Y10T428/24736 , Y10T428/24802
摘要: 在一个实施例中,包围大区域的六边形瓦片被分为三个群组,每个群组含有彼此分离的所有六边形瓦片的三分之一。在模板层(2OA,2OB,20C)中形成每个群组(01,02,03)中的六边形瓦片的开口,且在每个开口内施加并构图自组装嵌段共聚物的组。重复该过程三次以涵盖所有三个群组,产生遍布宽广区域的自对准图形。在另一实施例中,该大区域被分为两个不重迭且互补的群组的矩形瓦片。每个矩形区域的宽度小于自组装嵌段共聚物的有序范围。以顺序方式在每一群组中形成自组装自对准的线与间隔结构(4OA,5OA;4OB,5OB;4OC,50C),从而线与间隔图形形成为遍及了延伸超出有序范围的大区域。
-
公开(公告)号:CN102004272A
公开(公告)日:2011-04-06
申请号:CN201010265401.1
申请日:2010-08-26
申请人: 索尼公司
CPC分类号: G02B1/118 , B29C33/3842 , B29C59/02 , G02B5/0215 , G03F7/0005 , Y10S977/887
摘要: 本发明提供了光学器件及其制造方法、以及母板的制造方法。其中,具有防反射功能的光学器件,包括:基底;以及多个结构体,由凸部或凹部形成,以等于或小于可见光波长的微小节距配置在基底的表面上。多个结构体被配置为在基底的表面上形成多列轨迹,并且形成准六方点阵图案、四方点阵图案或准四方点阵图案,并且结构体对基底表面的填充率等于或高于65%。
-
公开(公告)号:CN101055418B
公开(公告)日:2011-03-30
申请号:CN200710005775.8
申请日:2007-02-13
申请人: 日立环球储存科技荷兰有限公司
发明人: 兹沃尼米尔·Z·班迪克 , 吴才伟
IPC分类号: G03F7/00
CPC分类号: G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , Y10S425/81 , Y10S977/887
摘要: 本发明涉及非接触漫射固化曝光的系统、方法和装置。一种纳米压印配置,包括UV光漫射器,其使准直UV光束随机化从而减弱来自位于UV光学路径中的缺陷物的遮蔽效应。另外,组合中心圆垫和外环形垫形成两个垫片之间的环形“非接触”区域。设计两个垫组合的尺寸和形状从而避免该盘基板上图案化压印区域之上的直接凝胶垫接触。凝胶垫、非接触配置的目的在于消除沿负载柱产生的任何可能的表面形变,且由此避免任何形变弹性传播到压模抗蚀剂表面。
-
公开(公告)号:CN101809046A
公开(公告)日:2010-08-18
申请号:CN200880108313.1
申请日:2008-09-26
申请人: 旭硝子株式会社
IPC分类号: C08F220/26 , C08F292/00 , G02B5/30 , H01L21/027 , B29C59/02 , C08F2/44
CPC分类号: C08F2/44 , C08F2/48 , C08F290/06 , C08F292/00 , C09D4/00 , G02B5/3058 , Y10S977/887 , Y10T428/24479
摘要: 提供一种能高效制造模具的精细图案被高精度转印的精细图案形成体的光固化性组合物。所述光固化性组合物,其特征在于,相对于100质量份的光固化性单体(A),包含5~60质量份的平均粒径为200nm以下的胶体二氧化硅(B)(固体成分)、和0.1~10质量份的光聚合引发剂(C),光固化性单体(A)包含在1分子中具有3个以上(甲基)丙烯酰氧基的多官能性单体(A1)、和在1分子中具有2个(甲基)丙烯酰氧基的2官能性单体(A2),属于多官能性单体(A1)或2官能性单体(A2)的化合物的至少一部分具有羟基,相对于多官能性单体(A1)与2官能性单体(A2)的总计量(mol),羟基的总量(mol)的比例为10%以上。
-
公开(公告)号:CN100401150C
公开(公告)日:2008-07-09
申请号:CN200510079573.9
申请日:2005-06-20
申请人: 乐金显示有限公司
发明人: 金珍郁
IPC分类号: G02F1/1333 , G03F7/20 , H05B33/10
CPC分类号: H01L27/1288 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , H01L27/1214 , Y10S977/887
摘要: 一种制造平板显示器的方法,包括:将抗蚀剂分布在形成在基板上的薄膜上,通过照射第一光线改变该抗蚀剂的极性;在抗蚀剂的上表面一侧相距基板指定距离处提供具有突出表面和沟槽的软模,该软模被表面处理为与抗蚀剂相同的极性;进行软模和基板的第一和第二次对准;通过用第一光线照射改变抗蚀剂的极性,使得抗蚀剂移入软模的沟槽;通过将第二光线照射到沟槽中的抗蚀剂在薄膜上形成抗蚀剂图案;将软模从抗蚀剂图案分离;以及通过刻蚀薄膜的一部分和抗蚀剂图案形成薄膜图案。
-
公开(公告)号:CN100365507C
公开(公告)日:2008-01-30
申请号:CN01820435.X
申请日:2001-10-12
申请人: 德克萨斯州大学系统董事会
CPC分类号: G11B5/855 , B29C35/0888 , B29C37/0053 , B29C43/003 , B29C2035/0827 , B29C2043/025 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , G03F9/00 , Y10S977/887
摘要: 本发明公开刻痕光刻的模板、形成和使用该模板的方法,以及模板夹持器装置。一刻痕光刻模板可包括带有在本体表面上的多个下凹的本体。本体可以是对触发光基本透明的材料。多个下凹的至少一部分可形成具有特征尺寸约小于250nm的容貌。一模板可这样形成:获得基本上对于触发光透明的材料和在模板的表面上形成多个下凹。在某些实施例中,一模板还可包括至少一个对齐标志。在某些实施例中,一模板还可包括一间隙检测区域。一刻痕光刻模板可用来在衬底上的光致固化液体内形成一刻痕层。在使用过程中,模板可放置在一模板夹持器内。该模板夹持器可包括一带有构造成接纳模板的开口的本体、一支承板,以及连接到本体上的至少一个压电致动器。在使用中,压电致动器可构造成改变模板的物理尺寸。
-
公开(公告)号:CN1778568A
公开(公告)日:2006-05-31
申请号:CN200410052383.3
申请日:2004-11-19
申请人: 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 , 鸿海精密工业股份有限公司
发明人: 余泰成
CPC分类号: G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , Y10S977/887
摘要: 本发明涉及一种热压印方法,尤其是在高分子材料上形成微纳米图案结构的热压印方法。该热压印方法包括提供一基底和一具有预定图案的压模;将压模与基底在真空腔室内对准;通入小分子物质蒸汽;加热压模与基底至基底的玻璃化温度之上,并施压;之后,将压模与基底冷却,最后将压模与基底分离,从而完成压印工艺。本发明通过通入小分子物质蒸汽以降低压模与基底界面间的吸附能,实现微纳米图形结构的精确转移,操作简单、成本低廉;从而克服了现有技术中操作较复杂、成本较高的不足。
-
公开(公告)号:CN1499289A
公开(公告)日:2004-05-26
申请号:CN03133077.0
申请日:2003-07-24
申请人: 惠普开发有限公司
IPC分类号: G03F7/00 , H01L21/027
CPC分类号: B81C99/009 , B29C2059/023 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , H05K3/12 , Y10S977/887 , Y10T428/24479
摘要: 本发明公开了一种微铸碳化硅纳米压印模(10)及制造一种这种微铸碳化硅纳米压印模的方法。采用一种微铸技术来形成一基础层(11)和一些与基础层(11)相连的纳米尺寸特征(12)。该基础层(11)和纳米尺寸特征(12)是一个整体,而且全部用包含碳化硅(SiC)的材料制成,碳化硅比单独的硅硬度要大。结果微铸碳化硅纳米压印模(10)具有较长的使用寿命,因为它能承受几个压印循环而不磨损或损坏。使用寿命较长使得微铸碳化硅纳米压印模(10)在制造上较经济,因其制造成本在使用期内就能回收。
-
-
-
-
-
-
-
-
-