纹理逆反射标记
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118938369A

    公开(公告)日:2024-11-12

    申请号:CN202410587616.7

    申请日:2024-05-13

    IPC分类号: G02B5/128 G09F13/16

    摘要: 一种设备,包括逆反射标记和设备,设备被配置为将逆反射标记接收到位于设备上表面的插孔中。逆反射标记包括具有第一逆反射能力的逆反射层。逆反射层包括纹理表面,纹理表面的一部分具有表面拓扑结构,使得处于部分上的表面法向量从纹理表面的部分沿不同方向延伸,以及分布在纹理表面上的多个逆反射微元件。逆反射标记还包括限定逆反射层的逆反射区域的边界,其中,边界的一部分提供低于所述第一逆反射能力的第二逆反射能力。

    修正畸变
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111796665B

    公开(公告)日:2024-06-04

    申请号:CN202010253650.2

    申请日:2020-04-02

    IPC分类号: G06F3/01 G01S5/02

    摘要: 一种系统,包括:磁发射器,其被配置为生成磁场;磁传感器,其被配置为基于所述磁场的特性来生成信号;以及一个或多个计算机系统,其被配置为:使所述磁发射器在第一频率处生成第一多个磁场;从所述磁传感器接收第一多个信号;确定指示所述磁传感器在所述磁传感器的第一位置处的位置和取向的数据;确定与所述磁传感器的第一位置相对应的畸变项;使所述磁发射器在所述第一频率处生成第三多个磁场;从所述磁传感器接收第三多个信号;以及确定所述磁传感器相对于所述磁发射器的第二位置和取向,其中,所述第一频率大于所述第二频率。

    具有传感器寄生回路补偿的电磁位置测量系统

    公开(公告)号:CN113804093B

    公开(公告)日:2024-05-31

    申请号:CN202110646059.8

    申请日:2021-06-10

    IPC分类号: G01B7/00

    摘要: 磁跟踪设备包括被配置为生成传感器电动势(EMF)的传感器。该设备包括被配置为第一操作模式和第二操作模式之间进行选择的机构,在第一操作模式中,传感器在接收到磁场时生成传感器EMF,在第二操作模式中,传感器在接收到磁场时生成减少量的传感器EMF。互连电路在第一操作模式和第二操作模式中的每一个中生成寄生EMF。互连电路连接到处理设备,该处理设备接收针对第一操作模式的第一测量,第一测量表示传感器EMF和寄生电EMF,接收针对第二操作模式的第二测量,第二测量表示寄生EMF,比较第一测量和第二测量,并确定传感器EMF的近似值。

    减少电磁跟踪系统之间的干扰

    公开(公告)号:CN113132051B

    公开(公告)日:2024-04-02

    申请号:CN202011557958.2

    申请日:2020-12-25

    IPC分类号: H04K3/00

    摘要: 提供了一种减少两个电磁系统(例如,AR/VR系统)的运行之间的干扰机会的方法。该方法包括:确定第一电磁系统运行所处的一个或多个第一频率;识别不干扰所确定的一个或多个第一频率的一个或多个第二频率;以及将第二电磁系统设置为在所识别的一个或多个第二频率下运行。第一电磁系统和第二电磁系统中的每一个均包括被配置为生成磁场的相应的磁性发射器,以及被配置为基于在磁性传感器处(例如,从相应的磁性发射器)接收到的磁场的特性来生成信号的相应的磁性传感器。

    跟踪包括铁磁流体的传感器的系统和方法

    公开(公告)号:CN109381259B

    公开(公告)日:2023-06-23

    申请号:CN201810903541.3

    申请日:2018-08-09

    IPC分类号: A61B34/20

    摘要: 本发明提供了一种跟踪包括铁磁流体的传感器的系统和方法。系统包括:一个或更多个场产生线圈,其被配置成产生磁场;传感器,其包括包含铁磁流体的壳体,该传感器被配置成被引入磁场附近,其中,当铁磁流体在磁场附近时,该铁磁流体引起磁场的失真;以及一个或更多个场测量线圈,其被配置成:当铁磁流体在磁场附近时测量磁场的特性;以及向计算设备提供表示所测量的磁场的特性的信号,其中,计算设备被配置成基于所测量的磁场的特性来确定传感器的位置和取向中的一个或二者。

    自包含的电磁跟踪单元
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114072631A

    公开(公告)日:2022-02-18

    申请号:CN202080013914.5

    申请日:2020-01-07

    摘要: 一种电磁跟踪系统包括:被配置为输出磁场的磁发射器、响应于磁场的接收器、具有导致磁场的失真的导电元件的电子组件、以及被配置为输出接收器相对于磁发射器的位置的输出机构,其中磁发射器具有围绕由导电材料构成的中空铁磁芯设置的至少一个绕组,通过电子设备使电流流过中空铁磁芯,其中,电子组件至少部分地包含在中空铁磁芯的中空部分内。制造方法包括:将壁成形为中空壳以包围电子组件,用铁磁材料覆盖中空壳,将被包裹的中空壳插入塑料线轴中,以及用线圈导线缠绕塑料线轴以产生三个正交绕组。

    跟踪电磁场中的对象
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111624547A

    公开(公告)日:2020-09-04

    申请号:CN202010116078.5

    申请日:2020-02-25

    IPC分类号: G01S5/02 G01C21/16 A61B34/20

    摘要: 电磁跟踪(EMT)系统包括被跟踪设备、跟踪设备和计算设备。EMT系统被配置为在跟踪设备处接收由被跟踪设备生成的电磁信号,基于该电磁信号来确定被跟踪设备相对于跟踪设备的一组可能的位置和取向,接收表示被跟踪设备的运动的测量出的惯性值,基于该组可能的位置和取向中的至少一个位置和取向来确定与被跟踪设备的运动相对应的估计的惯性值,确定表示估计的惯性值与测量出的惯性值之间的差的差值,响应于确定差值而从该组中确定特定位置和特定取向,并且生成包括特定位置和特定取向的输出。

    确定传感器元件位置的方法

    公开(公告)号:CN1330978C

    公开(公告)日:2007-08-08

    申请号:CN01814661.9

    申请日:2001-07-10

    IPC分类号: G01V3/08

    CPC分类号: G01V3/08 A61B5/062 G01B7/004

    摘要: 本发明涉及一种确定传感器元件(300)位置的方法,借助此方法测量由至少一个磁场发生器单元(200)发射的交变磁场(210),该方法包括:在传感器元件(300)中接收信号,其中,以第一近似计算干扰场(410),所述干扰场由在导电物体(400)中感应的涡流(420)而产生;基于交变磁场(210)计算物体(400)中的涡流(420);基于计算出的涡流(420)计算干扰场(410);以及修正由传感器元件(300)中接收到的信号而确定的位置。