自包含的电磁跟踪单元
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN114072631B

    公开(公告)日:2024-09-10

    申请号:CN202080013914.5

    申请日:2020-01-07

    摘要: 一种电磁跟踪系统包括:被配置为输出磁场的磁发射器、响应于磁场的接收器、具有导致磁场的失真的导电元件的电子组件、以及被配置为输出接收器相对于磁发射器的位置的输出机构,其中磁发射器具有围绕由导电材料构成的中空铁磁芯设置的至少一个绕组,通过电子设备使电流流过中空铁磁芯,其中,电子组件至少部分地包含在中空铁磁芯的中空部分内。制造方法包括:将壁成形为中空壳以包围电子组件,用铁磁材料覆盖中空壳,将被包裹的中空壳插入塑料线轴中,以及用线圈导线缠绕塑料线轴以产生三个正交绕组。

    用于三维跟踪系统的误差补偿
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114549620A

    公开(公告)日:2022-05-27

    申请号:CN202111360553.4

    申请日:2021-11-17

    IPC分类号: G06T7/66 G06T7/70 G06T17/00

    摘要: 用于跟踪一个或多个反射标记的跟踪系统包括至少两个光学传感器,所述至少两个光学传感器被配置为获得包括至少一个标记的环境的图像数据。跟踪系统从至少两个光学传感器获得图像数据。跟踪系统被配置用于:从图像数据提取表示来自至少一个标记的光学信号的反射的光学签名,确定至少一个标记的光学签名的光学质心,估计针对至少一个标记的初始姿态,基于初始姿态从至少一个标记的光学质心确定偏移误差向量,基于偏移误差向量和光学质心来确定经校正的光学质心,以及基于标记的经校正的光学质心来确定标记在环境中的经校正的三维位置。

    检测导电物体的存在的方法及系统

    公开(公告)号:CN101498687A

    公开(公告)日:2009-08-05

    申请号:CN200910006441.1

    申请日:2004-04-19

    IPC分类号: G01N27/90 A61B5/06

    摘要: 本发明公开了一种用于检测导电物体的存在的方法,该方法包括:确定无扰磁跟踪系统的特征频率函数;测量受扰实时频率函数;利用受扰实时频率函数对该无扰频率函数的卡方最小化,计算位置指示信号的实部和虚部;根据特征频率函数和受扰实时频率函数计算卡方值;以及监测该卡方值,以检测能指示导电物体的存在的变化。本发明的用于检测导电物体的存在的方法可确定磁跟踪系统的特征频率函数,并测量受扰频率函数。该方法还可根据特征无扰频率函数和受扰频率函数计算卡方值,以及监测该卡方值以检测能指示导电物体的存在的变化。

    修正畸变
    8.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111796665B

    公开(公告)日:2024-06-04

    申请号:CN202010253650.2

    申请日:2020-04-02

    IPC分类号: G06F3/01 G01S5/02

    摘要: 一种系统,包括:磁发射器,其被配置为生成磁场;磁传感器,其被配置为基于所述磁场的特性来生成信号;以及一个或多个计算机系统,其被配置为:使所述磁发射器在第一频率处生成第一多个磁场;从所述磁传感器接收第一多个信号;确定指示所述磁传感器在所述磁传感器的第一位置处的位置和取向的数据;确定与所述磁传感器的第一位置相对应的畸变项;使所述磁发射器在所述第一频率处生成第三多个磁场;从所述磁传感器接收第三多个信号;以及确定所述磁传感器相对于所述磁发射器的第二位置和取向,其中,所述第一频率大于所述第二频率。

    具有传感器寄生回路补偿的电磁位置测量系统

    公开(公告)号:CN113804093B

    公开(公告)日:2024-05-31

    申请号:CN202110646059.8

    申请日:2021-06-10

    IPC分类号: G01B7/00

    摘要: 磁跟踪设备包括被配置为生成传感器电动势(EMF)的传感器。该设备包括被配置为第一操作模式和第二操作模式之间进行选择的机构,在第一操作模式中,传感器在接收到磁场时生成传感器EMF,在第二操作模式中,传感器在接收到磁场时生成减少量的传感器EMF。互连电路在第一操作模式和第二操作模式中的每一个中生成寄生EMF。互连电路连接到处理设备,该处理设备接收针对第一操作模式的第一测量,第一测量表示传感器EMF和寄生电EMF,接收针对第二操作模式的第二测量,第二测量表示寄生EMF,比较第一测量和第二测量,并确定传感器EMF的近似值。

    减少电磁跟踪系统之间的干扰

    公开(公告)号:CN113132051B

    公开(公告)日:2024-04-02

    申请号:CN202011557958.2

    申请日:2020-12-25

    IPC分类号: H04K3/00

    摘要: 提供了一种减少两个电磁系统(例如,AR/VR系统)的运行之间的干扰机会的方法。该方法包括:确定第一电磁系统运行所处的一个或多个第一频率;识别不干扰所确定的一个或多个第一频率的一个或多个第二频率;以及将第二电磁系统设置为在所识别的一个或多个第二频率下运行。第一电磁系统和第二电磁系统中的每一个均包括被配置为生成磁场的相应的磁性发射器,以及被配置为基于在磁性传感器处(例如,从相应的磁性发射器)接收到的磁场的特性来生成信号的相应的磁性传感器。