通过透镜的高度测量
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117337375A

    公开(公告)日:2024-01-02

    申请号:CN202280036265.X

    申请日:2022-05-11

    IPC分类号: G01B11/25

    摘要: 本发明公开一种光学检验设备(10、140、180),其包含:检验光学器件(14、314),其包含照明组合件(16、316),所述照明组合件包含含有预界定图案的光罩及经配置以发射照明所述光罩的光学辐射的辐射源。聚光光学器件(18、318)将包含所述经照明光罩(34、120)的所述图案(105)的所述发射光学辐射投射于工件(12、312)上。偏转元件(144、146、350、352)定位于所述聚光光学器件的所述光瞳中。成像组合件(20、319)捕获所述工件的图像,其包含通过所述光瞳区域的所述第一部分投射的所述图案的第一复制品(108)及通过所述光瞳区域的第二部分投射的所述图案的第二复制品(110)。处理器(24、324)处理所捕获的图像以评估所述检验光学器件与所述工件之间的距离。

    具有TDI传感器的重新取样
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116420164A

    公开(公告)日:2023-07-11

    申请号:CN202180074791.0

    申请日:2021-08-08

    IPC分类号: G06T7/00

    摘要: 本发明公开用于检验电路的设备,其包含:扫描器,其包含:至少一个多线路时间延迟积分(TDI)传感器,其具有传感器像素的多个平行线路,所述多个线路沿扫描轴彼此分离达分离距离,所述传感器像素中的每一者具有沿所述扫描轴的传感器像素尺寸;线性移位器,其提供所述TDI传感器及将要检验的电路沿所述扫描轴的相互位移;及扫描光学器件,其将从所述电路反射的光引导到所述传感器像素,所述扫描光学器件界定每一传感器像素到所述电路上的投影,所述投影界定光从其到达每一传感器像素的所述电路上的面积,每一投影具有沿所述扫描轴的传感器像素投影尺寸;及图像产生器,其从所述TDI传感器的复合输出像素构造图像。

    用于光学系统的多重图像获取装置

    公开(公告)号:CN113287001A

    公开(公告)日:2021-08-20

    申请号:CN202080008850.X

    申请日:2020-01-09

    IPC分类号: G01N21/956 G02B21/08

    摘要: 一种图像获取装置包含:第一多个相机,其以互相间隔开的配置进行布置,所述第一多个相机各自具有一视场,每一视场位于一平面中;及第二多个光子发射器,其围绕所述第一多个相机中的每一相机以多重大体上圆周布置进行布置,所述大体上圆周布置内的至少一个光子发射器将光引导到所述第一多个相机中的一者的并非是离其最近的视场的视场。

    波束形成光学系统、和直接成像系统

    公开(公告)号:CN106886097B

    公开(公告)日:2021-02-19

    申请号:CN201611093983.3

    申请日:2012-08-16

    IPC分类号: G02F1/11 H04N1/04

    摘要: 一种直接成像系统包括:照明单元,包括多个光源,所述多个光源被配置为发射多个波束;光学系统,用于形成要以位置或角度对准的多个波束;声光调制器,被定位为接收以位置或角度之一对准的多个波束,并且当声波在声方向中传播时,相继地对所述多个波束的不同部分进行衍射;以及扫描元件,适于以扫描速度、利用该声光调制器所调制的多个波束来扫描曝光表面,其中将该扫描速度选择为将所述多个波束的不同部分不相干地联合为单一曝光焦斑。

    修复印刷电路迹线的方法和设备

    公开(公告)号:CN104797087A

    公开(公告)日:2015-07-22

    申请号:CN201410778053.6

    申请日:2014-12-15

    IPC分类号: H05K3/22

    摘要: 本申请涉及修复印刷电路迹线的方法和设备。一种用于材料沉积的方法包含提供具有相对的第一和第二表面的透明施体衬底及形成于所述第二表面上的施体膜。所述施体膜具有厚度δ和热扩散率α且通过热扩散时间τ=(δ2/4α)来表征。所述施体衬底定位成接近受体衬底,其中所述第二表面面朝所述受体衬底。具有不多于所述施体膜的所述热扩散时间的两倍的脉冲持续时间的激光辐射的脉冲经引导以穿过所述施体衬底的所述第一表面,且撞击在所述施体膜上以诱发熔融材料的液滴从所述施体膜喷射到所述受体衬底上。

    用于涂覆衬底的系统及方法

    公开(公告)号:CN113784800B

    公开(公告)日:2024-10-18

    申请号:CN202080008421.2

    申请日:2020-01-06

    IPC分类号: B05C11/04

    摘要: 一种用于将施主材料涂覆到激光辐射透明衬底上的系统,所述系统包含:施主材料施加器,其将施主材料施加到所述激光辐射透明衬底;多遍次精确施主材料厚度确定器,其用于在所述激光辐射透明衬底上提供所要厚度的所述施主材料且包含:线性可移位叶片支架;层厚度均匀化叶片,其绕枢转轴可锁定地可枢转地安装到所述线性可移位叶片支架上,所述叶片具有直边缘;及叶片位置维持器,其可操作以将所述直边缘维持在距所述激光辐射透明衬底的所要分开距离处,所述分开距离沿着所述层厚度均匀化叶片的所述直边缘是均匀的。