公开(公告)号：CN105679689A

公开(公告)日：2016-06-15

申请号：CN201510886162.4

申请日：2015-12-04

Applicant: 东京毅力科创株式会社 ,  株式会社清和光学制作所

Inventor： 田村宗明 ,  赤池伸二 ,  齐木健太 ,  舆水一彦 ,  冈崎伊佐央 ,  川月光也 ,  津田清

IPC: H01L21/66

CPC classification number: G01R31/2891 ,  G01R31/2887 ,  H01L22/30

Abstract: 本发明提供一种能够在不使用机械式靶的情况下利用光学部件在短时间内对一对照相机进行对位的探测装置和探测方法。在探测装置(100)的下部拍摄单元(35)的投影光学部(67)中，通过使自投影用光源(81)照射出的光通过靶(65)，从而生成光学式靶标。利用自投影用光源(81)照射出的光将靶标投影于成像位置(P)和下部照相机(61)的成像部(61a)。由于上部照相机(91)的成像部(91a)和成像位置(P)配置在互相光学共轭的位置，因此，还能够将成像于成像位置(P)的靶标投影于上部照相机(91)的成像部(91a)。

公开(公告)号：CN111788523B

公开(公告)日：2024-03-15

申请号：CN201980016078.3

申请日：2019-11-07

Applicant: 互应化学工业株式会社 ,  株式会社清和光学制作所

Inventor： 樋口伦也 ,  藤原勇佐 ,  桥本壮一 ,  荒井贵 ,  冈崎伊佐央 ,  柳贤悟

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  G03F7/028 ,  G03F7/029 ,  G03F7/031 ,  H05K3/28

Abstract: 本发明提供将感光性树脂组合物的涂膜曝光后进行显影而制造被膜时，被膜的形状可具有高分辨率的被膜的制造方法。被膜的制造方法包括由感光性树脂组合物形成涂膜，向涂膜照射光源发出的光而进行曝光，将曝光后的涂膜用碱性溶液进行显影。感光性树脂组合物含有含羧基树脂(A)、不饱和化合物(B)、光聚合引发剂(C)和环氧树脂(D)。对涂膜照射的光包含规定的波长的光。

公开(公告)号：CN111788523A

公开(公告)日：2020-10-16

申请号：CN201980016078.3

申请日：2019-11-07

Applicant: 互应化学工业株式会社 ,  株式会社清和光学制作所

Inventor： 樋口伦也 ,  藤原勇佐 ,  桥本壮一 ,  荒井贵 ,  冈崎伊佐央 ,  柳贤悟

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  G03F7/028 ,  G03F7/029 ,  G03F7/031 ,  H05K3/28

Abstract: 本发明提供将感光性树脂组合物的涂膜曝光后进行显影而制造被膜时，被膜的形状可具有高分辨率的被膜的制造方法。被膜的制造方法包括由感光性树脂组合物形成涂膜，向涂膜照射光源发出的光而进行曝光，将曝光后的涂膜用碱性溶液进行显影。感光性树脂组合物含有含羧基树脂(A)、不饱和化合物(B)、光聚合引发剂(C)和环氧树脂(D)。对涂膜照射的光包含规定的波长的光。

公开(公告)号：CN105679689B

公开(公告)日：2019-01-22

申请号：CN201510886162.4

申请日：2015-12-04

Applicant: 东京毅力科创株式会社 ,  株式会社清和光学制作所

Inventor： 田村宗明 ,  赤池伸二 ,  齐木健太 ,  舆水一彦 ,  冈崎伊佐央 ,  川月光也 ,  津田清

IPC: H01L21/66

Abstract: 本发明提供一种能够在不使用机械式靶的情况下利用光学部件在短时间内对一对照相机进行对位的探测装置和探测方法。在探测装置(100)的下部拍摄单元(35)的投影光学部(67)中，通过使自投影用光源(81)照射出的光通过靶(65)，从而生成光学式靶标。利用自投影用光源(81)照射出的光将靶标投影于成像位置(P)和下部照相机(61)的成像部(61a)。由于上部照相机(91)的成像部(91a)和成像位置(P)配置在互相光学共轭的位置，因此，还能够将成像于成像位置(P)的靶标投影于上部照相机(91)的成像部(91a)。