一种晶圆平整固定装置

    公开(公告)号:CN109244029A

    公开(公告)日:2019-01-18

    申请号:CN201811137361.5

    申请日:2018-09-28

    摘要: 一种压边固定机构,安装在封装设备中,用于对放置在封装设备中的翘曲晶圆的边缘区域进行平整固定,包括:支架,固定在封装设备上;以及压边单元,安装在支架上,可相对于支架上下移动,用于压平边缘区域,具有压盘和安装在压盘上的多个压边头,其中,压盘具有圆形的中心件和多根条状件,多根条状件呈中心放射状均匀排布,条状件的一端固定在中心件上,压边头安装在条状件的另一端,具有支撑轴和吸盘,支撑轴的一端安装在条状件上,另一端与吸盘连接,吸盘用于与边缘区域接触并将其压平,该吸盘采用导电性丁腈橡胶制成。

    半导体元件图案的形成方法

    公开(公告)号:CN108630661A

    公开(公告)日:2018-10-09

    申请号:CN201710180930.3

    申请日:2017-03-24

    发明人: 刘恩铨 童宇诚

    摘要: 本发明公开一种半导体元件图案的形成方法,包括:提供一基底材料层具有一第一区域和第二区域;设置多个第一芯轴于基底材料层上方并对应于第一区域;设置多个第二芯轴于基底材料层上方并对应于第二区域;形成第一侧壁间隔物于第一芯轴的侧壁,且形成第二侧壁间隔物于第二芯轴的侧壁,其中该些第一侧壁间隔物形成一第一图案,该些第二侧壁间隔物形成一第二图案,且位于相邻两第二芯轴之间的第二侧壁间隔物彼此相互融合;和转移包括该些第一侧壁间隔物的第一图案和该些第二侧壁间隔物的第二图案至基底材料层,以形成一图案化基底材料层。

    测试机台
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN108010856A

    公开(公告)日:2018-05-08

    申请号:CN201610933382.2

    申请日:2016-10-31

    发明人: 王侃晟

    IPC分类号: H01L21/66

    CPC分类号: H01L22/30

    摘要: 本发明提供了一种测试机台,包括测试腔体和控制器,所述测试腔体的内壁顶部设有可吸水的集水件,所述控制器用于调节所述测试腔体内部的温度或湿度。在本发明提供的测试机台,在测试腔体的内壁顶部设有可吸水的集水件,控制器用于调节测试腔体内部的温度或湿度,通过集水件将在一定湿度环境下产生的水收集起来,防止测试腔体内壁顶部积聚水滴,从而防止水滴滴落在晶圆上产生污染。

    一种基底缺陷检测装置及检测方法

    公开(公告)号:CN107230648A

    公开(公告)日:2017-10-03

    申请号:CN201610178525.3

    申请日:2016-03-25

    发明人: 刘昊 张鹏黎

    IPC分类号: H01L21/66

    CPC分类号: H01L22/30

    摘要: 本发明涉及一种基底缺陷检测装置及检测方法,该装置包括:光源,提供照明辐射光;承载台,用于承载待测基底,并带动待测基底运动;成像单元,将照明辐射光汇聚到待测基底上,并收集经待测基底反射的光;多色光分离单元,将成像单元收集的反射光分离为若干个独立的波段;若干探测单元,用于一对一采集各所述波段的图像信息;以及处理器,用于对采集到的图像信息进行分析计算,得到缺陷测量结果。本发明中,采用多色光分离单元将照明辐射光分离为若干个独立的波段,并利用若干探测单元分别采集各波段的图像信息,用户可以根据待测基底的工艺特性,无需进行波长切换,就可以实时进行最优波段照明的对比度图像选择,从而提高了缺陷检测的工艺适应性。

    测试结构及测试方法
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107146765A

    公开(公告)日:2017-09-08

    申请号:CN201710322961.8

    申请日:2017-05-09

    发明人: 王帆

    IPC分类号: H01L21/66

    CPC分类号: H01L22/30 H01L22/14

    摘要: 本发明提供了一种测试结构及测试方法,所述测试结构包括第一金属线和第二金属线,所述第一金属线设置在第一晶圆的第一表面上,所述第二金属线设置在第二晶圆的第二表面上,将所述第一晶圆的第一表面与所述第二晶圆的第二表面进行键合工艺,并使所述第一金属线与所述第二金属线相交形成金属键合区域。在本发明提供测试结构和测试方法中,通过将具有第一金属线的第一晶圆与具有第二金属线的第二晶圆进行键合,使第一金属线与第二金属线相交形成金属键合区域,通过测量金属键合区域的接触电阻可精确表征键合工艺后金属间扩散及重结晶的好坏程度,测试结构由于不包含非必要的通孔电阻和金属线电阻,从而防止通孔电阻、金属线电阻及对准不良等的影响。