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公开(公告)号:CN107073674A
公开(公告)日:2017-08-18
申请号:CN201580058353.X
申请日:2015-10-30
摘要: 本发明涉及一种用于对金属筐体等工件进行研磨并进行镜面精加工的化学机械研磨(CMP)装置。化学机械研磨装置包括:研磨垫(2),该研磨垫(2)具有环状研磨面(2a),环状研磨面(2a)具有弯曲的纵截面;工件保持部(11),该工件保持部(11)对具有多边形形状的工件(W)进行保持;旋转装置(15),该旋转装置(15)使工件保持部(11)绕工件(W)的轴心旋转;按压装置(14),该按压装置(14)将工件(W)的周缘部按压到环状研磨面(2a);以及动作控制部(25),该动作控制部(25)根据工件(W)的旋转角度改变旋转装置(15)使工件(W)旋转的速度。在研磨台(3)的半径方向上,按压装置(14)配置于比工件保持部(11)靠内侧的位置。
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公开(公告)号:CN101130668B
公开(公告)日:2012-10-31
申请号:CN200710146855.5
申请日:2007-08-24
申请人: 福吉米股份有限公司
发明人: 上村泰英
IPC分类号: H01L21/304 , C09G1/16
CPC分类号: H01L21/02024 , B24B37/044 , C09G1/02 , C09K3/1463
摘要: 本发明提供使用抛光用组合物进行抛光后,抛光对象表面的起因于抛光加工的LPD(光点缺陷)的数量可以降低的抛光用组合物,以及使用该抛光用组合物的抛光方法。本发明的抛光用组合物含有选自聚乙烯基吡咯烷酮和聚N-乙烯基甲酰胺的至少一种水溶性高分子和碱。
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公开(公告)号:CN101654269B
公开(公告)日:2014-04-16
申请号:CN200910168548.6
申请日:2009-08-18
申请人: 福吉米股份有限公司
CPC分类号: C01F7/448 , C01F7/02 , C01P2004/30 , C01P2004/38 , C01P2004/39 , C01P2004/54 , C01P2004/61 , C01P2004/62 , C09K3/1409
摘要: 本发明提供适合制造氧化铝粒子的氧化铝粒子的制造方法,该氧化铝粒子可适合用作以下用途中的磨粒,即为了得到平滑度高且缺陷低的研磨面而对研磨对象物进行研磨的用途;本发明还提供适合制造勃姆石粒子的勃姆石粒子的制造方法,该勃姆石粒子可用作上述氧化铝粒子的原料。本发明的勃姆石粒子的制造方法中,通过将氢氧化铝粉末与成核剂一起供于水热反应,可以制造一次粒子形状为六面体、平均一次粒径为0.6μm以下的勃姆石粒子。本发明的氧化铝粒子的制造方法包括:对通过上述方法得到的勃姆石粒子进行干燥的工序;对干燥后的勃姆石粒子进行煅烧而得到氧化铝粒子的工序;对所得的氧化铝粒子进行粉碎的工序。
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公开(公告)号:CN103305895A
公开(公告)日:2013-09-18
申请号:CN201310073513.0
申请日:2013-03-08
申请人: 株式会社山本镀金试验器 , 福吉米股份有限公司
摘要: 本发明提供一种镀覆装置和镀覆物的制造方法,该镀覆装置能够适当确保合粒状物的附着量,同时附着在被镀覆物上的粒状物的分布不均减小,进一步容易控制附着在被镀覆物上的粒状物的量。线锯1的制造装置100通过实施电镀而使研磨粒4固结在金属丝2的外周面上。制造装置100具备收纳有镀覆液32b、和研磨粒4在镀覆液32b中沉淀而成的沉淀层32c这样的内侧镀覆槽32。金属丝2从内侧镀覆槽32的底部32a或侧部32f进入沉淀层32c,同时在与沉淀层32c的表面32c1交叉的方向上移动,由此在与沉淀层32c的表面32c1交叉的交叉部分X使研磨粒4附着。
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公开(公告)号:CN101654269A
公开(公告)日:2010-02-24
申请号:CN200910168548.6
申请日:2009-08-18
申请人: 福吉米股份有限公司
CPC分类号: C01F7/448 , C01F7/02 , C01P2004/30 , C01P2004/38 , C01P2004/39 , C01P2004/54 , C01P2004/61 , C01P2004/62 , C09K3/1409
摘要: 本发明提供适合制造氧化铝粒子的氧化铝粒子的制造方法,该氧化铝粒子可适合用作以下用途中的磨粒,即为了得到平滑度高且缺陷低的研磨面而对研磨对象物进行研磨的用途;本发明还提供适合制造勃姆石粒子的勃姆石粒子的制造方法,该勃姆石粒子可用作上述氧化铝粒子的原料。本发明的勃姆石粒子的制造方法中,通过将氢氧化铝粉末与成核剂一起供于水热反应,可以制造一次粒子形状为六面体、平均一次粒径为0.6μm以下的勃姆石粒子。本发明的氧化铝粒子的制造方法包括:对通过上述方法得到的勃姆石粒子进行干燥的工序;对干燥后的勃姆石粒子进行煅烧而得到氧化铝粒子的工序;对所得的氧化铝粒子进行粉碎的工序。
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公开(公告)号:CN101469253A
公开(公告)日:2009-07-01
申请号:CN200810189530.X
申请日:2008-12-29
申请人: 福吉米股份有限公司
CPC分类号: C09G1/02 , C09K3/1463 , H01L21/3212
摘要: 本发明涉及研磨用组合物。本发明提供研磨用组合物,其在制备布线结构体的研磨工序中可以兼顾抑制表面阶梯度的产生和实现高的研磨速度。研磨用组合物,其含有磨料、加工促进剂、用R-POE(式中、R表示具有支链结构的碳原子数为10~16的烷基,POE表示聚氧乙烯链)表示且HLB为7~12的非离子表面活性剂、阴离子表面活性剂、保护膜形成剂、氧化剂和水。
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公开(公告)号:CN101469252A
公开(公告)日:2009-07-01
申请号:CN200810189523.X
申请日:2008-12-29
申请人: 福吉米股份有限公司
CPC分类号: C09G1/02
摘要: 本发明涉及研磨用组合物。本发明提供研磨用组合物,其在制备布线结构体的研磨工序中可以兼顾抑制表面阶梯度的产生和实现高的研磨速度。研磨用组合物,其含有磨料、加工促进剂、表面缩穴抑制剂、和水而成。这里,上述磨料至少包含第一磨料和第二磨料,上述第二磨料的平均一次粒径DL1相对于上述第一磨料的平均一次粒径DS1的比例DL1/DS1为5>DL1/DS1>1,且上述第一磨料的缔合度为1.8以上且5以下,上述第二磨料的缔合度为2.5以下。
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公开(公告)号:CN101200628A
公开(公告)日:2008-06-18
申请号:CN200710193448.X
申请日:2007-11-27
申请人: 福吉米股份有限公司
IPC分类号: C09K3/14 , H01L21/304
CPC分类号: H01L21/3212 , C09G1/02
摘要: 本发明提供更适合研磨含有钨的晶片的用途的研磨用组合物,以及使用该研磨用组合物的研磨方法。本发明的研磨用组合物含有胶体二氧化硅和过氧化氢。研磨用组合物的pH为1~4,研磨用组合物中铁离子浓度为0.02ppm以下。研磨用组合物进一步优选含有磷酸或磷酸盐。
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