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公开(公告)号：CN105407565B
公开(公告)日：2018-05-11
申请号：CN201510817671.1
申请日：2011-05-03
申请人： 高知有限公司
IPC分类号： H05B6/68
CPC分类号： H05B6/705 , H05B1/02 , H05B6/00 , H05B6/6447 , H05B6/6455 , H05B6/68 , H05B6/686 , H05B6/687 , H05B6/688 , H05B6/70 , H05B6/72 , H05B2206/044 , Y02B40/143 , Y02B40/146
摘要： 本申请涉及模态分析。在此披露了用于经由至少一个辐射元件向能量施加带中的物体施加电磁能的设备以及方法。至少一个处理器可以被配置为确定该能量施加带中的一个第一区以及一个第二区的位置。另外，该处理器可以被配置为对一个来源进行调节以便向该能量施加带中的该第一区施加第一预定量的RF能量并且向该能量施加带中的该第二区施加第二预定量的RF能量。该第一预定能量量值可以不同于该第二预定能量量值。
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公开(公告)号：CN102597792B
公开(公告)日：2016-06-08
申请号：CN201080050438.0
申请日：2010-05-12
申请人： 高知有限公司
发明人： 亚历山大·比尔钦斯基 , 艾兰·本-什穆尔 , 平夏斯·艾恩齐格 , 阿米特·拉贝尔
IPC分类号： G01R29/10
CPC分类号： H05B6/705 , H05B1/02 , H05B6/00 , H05B6/6447 , H05B6/6455 , H05B6/68 , H05B6/686 , H05B6/687 , H05B6/688 , H05B6/70 , H05B6/72 , H05B2206/044 , Y02B40/143 , Y02B40/146
摘要： 用于施加EM能量到负载的设备和方法。该设备和方法包括至少一个处理器，该处理器被配置为接收指示对于多个调制空间元素中的每一个由负载所耗散的能量的信息。该处理器还可以被配置为基于所接收的信息将该多个调制空间元素中的每一个与功率应用的相应的持续时间相关联。该处理器可以进一步被配置为调节施加到负载的能量以便对于该多个调制空间元素而言在功率应用的相应的持续时间施加功率到负载。
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公开(公告)号：CN104115234A
公开(公告)日：2014-10-22
申请号：CN201380009217.2
申请日：2013-02-13
申请人： 高知有限公司
CPC分类号： H05B6/707 , H05B6/70 , H05B6/705 , H05B6/72 , H05B6/74 , H05B2206/044 , Y10T29/49018
摘要： 在此披露了一种用于将RF能量施加于空腔中的物体的装置。该装置可以包括多对辐射端口以及多个导电元件。每对辐射端口可以包括两个辐射端口，这两个辐射端口被配置成用于彼此相干地向该空腔中发射RF辐射；并且可以将每个导电元件位于构成一对辐射端口的两个辐射端口之间。这些导电元件可以被安排成使得由该多对辐射端口所发射的RF辐射比不存在这些导电元件时离该空腔的中心更近地聚焦。
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公开(公告)号：CN103843456A
公开(公告)日：2014-06-04
申请号：CN201280047184.6
申请日：2012-08-30
申请人： 高知有限公司
IPC分类号： H05B6/64
CPC分类号： G01N22/00 , G01N27/00 , G01N27/04 , G06F15/00 , H05B6/6441 , H05B6/688 , H05B6/705 , Y02B40/143
摘要： 一种用于在置于能量施加区域中的物体的加工期间施加RF能量来检测该物体的加工状态的方法可以包括在加工期间将RF能量施加到该物体上。该方法还可以包括接收计算出的RF反馈，该反馈与该物体的一种或多种加工状态相关；以及在该加工期间监测该计算出的RF反馈以检测该物体的一种或多种加工状态。
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公开(公告)号：CN102597792A
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN201080050438.0
申请日：2010-05-12
申请人： 高知有限公司
发明人： 亚历山大·比尔钦斯基 , 艾兰·本-什穆尔 , 平夏斯·艾森格 , 阿米特·拉贝尔
IPC分类号： G01R29/10
CPC分类号： H05B6/705 , H05B1/02 , H05B6/00 , H05B6/6447 , H05B6/6455 , H05B6/68 , H05B6/686 , H05B6/687 , H05B6/688 , H05B6/70 , H05B6/72 , H05B2206/044 , Y02B40/143 , Y02B40/146
摘要： 用于施加EM能量到负载的设备和方法。该设备和方法包括至少一个处理器，该处理器被配置为接收指示对于多个调制空间元件中的每一个由负载所耗散的能量的信息。该处理器还可以被配置为基于所接收的信息将该多个调制空间元件中的每一个与功率应用的相应的持续时间相关联。该处理器可以进一步被配置为调节施加到负载的能量以便对于该多个调制空间元件而言在功率应用的相应的持续时间施加功率到负载。
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公开(公告)号：CN102293051A
公开(公告)日：2011-12-21
申请号：CN200980154040.9
申请日：2009-11-10
申请人： 高知有限公司
发明人： 亚历山大·比尔钱斯基 , 艾兰·本-什穆尔
IPC分类号： H05B6/80
CPC分类号： H05B6/68 , H05B6/6447 , H05B6/664 , H05B6/687 , H05B6/688 , H05B6/70 , H05B6/705 , Y02B40/143 , Y02B40/146
摘要： 一种辐射负载的方法，包括：通过改变相应的频率在其中被发送的相应的持续时间，在不同频率处提供不同量的能量。该方法有益于任何方式的加热，其包括：使用微波和/或RF能量进行升温、烘干和融化。
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公开(公告)号：CN111213433A
公开(公告)日：2020-05-29
申请号：CN201880067137.5
申请日：2018-08-14
申请人： 高知有限公司
摘要： 描述了一种用于通过微波能量对腔中的物体进行加热的装置和方法。在一些实施例中，所述装置包括多个天线；微波源，所述微波源被配置为经由所述多个天线向所述腔馈送微波能量；以及多个辐射体。每个辐射体被配置为可控制地移动，以将所述源耦合到所述多个天线中的相应天线，或者将所述源与所述多个天线中的相应天线解耦。
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公开(公告)号：CN105230119B
公开(公告)日：2019-06-04
申请号：CN201480029082.0
申请日：2014-05-21
申请人： 高知有限公司
摘要： 提供了用于处理在一个腔中的一个物体的设备和方法。这些设备包括被配置成用于将用于施加的RF能量供应到一个或多个辐射元件的至少一个射频(RF)能量供应部件，该一个或多个辐射元件被配置成用于响应于该施加的RF能量来发射RF辐射。在一些实施例中，一种提供的设备还包括一个存储器，该存储器存储与该RF能量供应部件关联的一组系数；以及一个处理器，该处理器被配置成用于响应于由该一个或多个辐射元件发射的RF辐射接收反馈，并且基于该反馈和该组系数来控制将RF能量施加到这些辐射元件中的一个或多个辐射元件。
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公开(公告)号：CN105722263B
公开(公告)日：2019-02-19
申请号：CN201610086623.4
申请日：2012-08-30
申请人： 高知有限公司
摘要： 本申请涉及使用RF辐射的物体加工状态感测。一种用于在置于能量施加区域中的物体的加工期间施加RF能量来检测该物体的加工状态的方法可以包括在加工期间将RF能量施加到该物体上。该方法还可以包括接收计算出的RF反馈，该反馈与该物体的一种或多种加工状态相关；以及在该加工期间监测该计算出的RF反馈以检测该物体的一种或多种加工状态。
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