公开(公告)号：CN109548213A

公开(公告)日：2019-03-29

申请号：CN201811382227.1

申请日：2018-11-20

申请人： 成都赛纳为特科技有限公司

发明人： 王清源 ,  徐立

IPC分类号： H05B6/64 ,  H05B6/72

CPC分类号： H05B6/64 ,  H05B6/72

摘要： 本发明采用一个到两个辐射阵列在同相馈入式微波加热炉的加热腔的后方或上方尽量多地激励起高次模THn0模式（n为整数，大于等于2），从而在所述加热腔中形成驻波。本发明包括加热腔，至少一个辐射阵列。所述至少一个辐射阵列包括沿Z轴的至少两行辐射器。所述辐射阵列通过地板向所述加热腔辐射微波能量。位于同一辐射阵列上沿Z轴相邻的两个属于同一列的辐射器辐射的微波的幅度相同，相位相同。为了进一步改善加热的均匀性，我们使用了可以横向平移的或者可以绕加热腔的垂直轴线进动的旋转圆盘。本发明通过控制同相馈入式微波加热炉的空腔中的微波模式来改进同相馈入式微波加热炉在三维空间中的加热的均匀性。

公开(公告)号：CN109475020A

公开(公告)日：2019-03-15

申请号：CN201811380235.2

申请日：2018-11-20

申请人： 成都赛纳为特科技有限公司

发明人： 王清源

IPC分类号： H05B6/64 ,  H05B6/70 ,  H05B6/72

CPC分类号： H05B6/64 ,  H05B6/701 ,  H05B6/72

摘要： 本发明采用一个到两个辐射阵列在阵列侧馈式微波加热炉的加热腔的后方或上方尽量多地激励起高次模TEn0模式（n为整数，大于等于2），从而在所述加热腔中形成驻波。所述辐射阵列通过地板向所述加热腔辐射微波能量。所述辐射阵列位于所述阵列侧馈式微波加热炉的所述加热腔的后面，从后向前向加热腔辐射微波能量，或者所述辐射阵列位于所述阵列侧馈式微波加热炉的所述加热腔的前面，从前向后向加热腔辐射微波能量。所述加热腔的形状为矩形体。本发明通过控制阵列侧馈式微波加热炉的空腔中的微波模式来改进阵列侧馈式微波加热炉在三维空间中的加热的均匀性。本发明可以用于对各种材料的加热，或者用于加快化学反应的速度。

公开(公告)号：CN108781486A

公开(公告)日：2018-11-09

申请号：CN201780016969.X

申请日：2017-03-23

申请人： 松下知识产权经营株式会社

发明人： 吉野浩二 ,  贞平匡史 ,  久保昌之

IPC分类号： H05B6/72 ,  F24C7/02 ,  H05B6/68

CPC分类号： F24C7/02 ,  H05B6/68 ,  H05B6/72

摘要： 构成为：控制马达(15)，使得辐射天线(5)在反射波检测量为最小的方向上停止，并且使辐射天线(5)在与反射波检测量为最小的方向不同的方向上停止。根据该结构，第一，在反射波检测量为最小的方向上使辐射天线(5)停止。由此延长了最高效的条件下的加热时间，与恒定旋转时相比，加热效率提高。第二，使辐射天线(5)在不同的方向上停止。由此使得产生不同于在反射波检测量为最小的方向上产生的加热不均的方向上的加热不均。其结果，使得在不同位置处产生的加热不均之间的加热不均互相抵消，能够实现均匀加热。

公开(公告)号：CN104487854B

公开(公告)日：2018-05-04

申请号：CN201380028062.7

申请日：2013-04-01

申请人： 微立方有限责任公司

发明人： 进耀·朱 ,  迪内希·I·莫迪 ,  卡坦·绍夫 ,  阿莫瑞什·J·沃克 ,  卡比·蒋 ,  克里斯多夫·阿·纽 ,  克莉丝汀·M·塔特

IPC分类号： G01R27/04

CPC分类号： H05B6/6447 ,  A61B18/1815 ,  A61B2018/00267 ,  A61B2018/00642 ,  A61B2018/00708 ,  A61B2018/00755 ,  A61B2018/00785 ,  A61B2018/00875 ,  A61B2018/1846 ,  H05B1/025 ,  H05B6/664 ,  H05B6/705 ,  H05B6/72

摘要： 本发明涉及在微波能传输期间使用返回功率(RP)的测量以实施一个或多个功能的装置和方法。例如，微波装置和系统包括一个或多个特征，以测量返回的微波能。可使用对返回微波能的一次或多次测量，以获得关于天线形状、系统状态和系统性能中一个或多个的信息。也可使用对返回微波能成形元件的一次或多次测量，以获得关于目标材料的一个或多个性能的信息。本发明也公开了用于传输微波能至多个目标材料以取得多个期望的微波效应的装置和方法。

公开(公告)号：CN103827646B

公开(公告)日：2018-01-23

申请号：CN201280035013.1

申请日：2012-05-02

申请人： GEA食品策划巴克尔公司

发明人： 约瑟夫·约翰·玛利亚·凡·伦斯

IPC分类号： G01K11/00 ,  G01K13/06 ,  A21B1/42 ,  A47J37/04

CPC分类号： H05B6/782 ,  G01K11/006 ,  G01K13/06 ,  G01K2207/06 ,  H05B6/645 ,  H05B6/72

摘要： 本发明涉及一种用于含蛋白质产品的加热处理设备，运输装置运输所述产品通过所述设备并且经过至少一个微波辐射计天线，其中所述微波辐射计天线（1）位于屏蔽装置（6）中，该屏蔽装置至少部分地围绕所述运输装置（5）的截面延伸，并且至少部分地将所述微波辐射计天线（2）与外部电磁辐射源隔离。

公开(公告)号：CN105554932A

公开(公告)日：2016-05-04

申请号：CN201510979797.9

申请日：2015-12-22

申请人： 广东美的厨房电器制造有限公司 ,  美的集团股份有限公司

发明人： 张斐娜 ,  刘民勇 ,  王轩 ,  刘建伟 ,  孙宁 ,  栾春

IPC分类号： H05B6/72 ,  H05B6/64 ,  H01Q1/50 ,  H01Q1/22

CPC分类号： H05B6/72 ,  H01Q1/22 ,  H01Q1/50 ,  H05B6/64

摘要： 本发明涉及家用电器领域，公开了一种用于微波加热设备的天线及微波加热设备，所述天线将微波源产生的微波发射至所述微波加热设备的加热室，该天线包括：接地板；以及天线杆，包括：第一天线杆，与所述接地板垂直，且所述第一天线杆的端口为微波馈入口；第二天线杆，与所述第一天线杆垂直连接。如此在没有波导的情况下，通过所述天线将微波源产生的微波发射至微波加热设备的加热室，减少了微波传递环节，提高了微波传递效率，从而缩短了加热时间。

公开(公告)号：CN105472805A

公开(公告)日：2016-04-06

申请号：CN201510724345.6

申请日：2007-07-10

申请人： 戈吉有限公司

发明人： E.本-施米尔 ,  A.比尔钦斯基 ,  U.达马里 ,  O.埃纳夫 ,  B.罗索 ,  S.本-海姆

IPC分类号： H05B6/80 ,  H05B6/68

CPC分类号： H05B6/808 ,  B65D81/3453 ,  B65D2203/10 ,  B65D2581/3435 ,  B65D2581/3447 ,  B65D2581/3487 ,  B65D2581/3491 ,  B65D2581/3493 ,  H05B6/6402 ,  H05B6/6435 ,  H05B6/6447 ,  H05B6/6455 ,  H05B6/687 ,  H05B6/688 ,  H05B6/705 ,  H05B6/72 ,  Y02B40/143

摘要： 一种使用实现均匀和/或受控不均匀的技术进行食物的RF加热的装置和方法。

公开(公告)号：CN105407565A

公开(公告)日：2016-03-16

申请号：CN201510817671.1

申请日：2011-05-03

申请人： 高知有限公司

发明人： 平夏斯·艾恩齐格 ,  艾兰·本-什穆尔 ,  亚历山大·比尔钦斯基 ,  阿米特·拉贝尔 ,  丹尼斯·迪卡洛夫 ,  迈克尔·西加洛夫 ,  约尔·比勃曼

IPC分类号： H05B6/68

CPC分类号： H05B6/705 ,  H05B1/02 ,  H05B6/00 ,  H05B6/6447 ,  H05B6/6455 ,  H05B6/68 ,  H05B6/686 ,  H05B6/687 ,  H05B6/688 ,  H05B6/70 ,  H05B6/72 ,  H05B2206/044 ,  Y02B40/143 ,  Y02B40/146

摘要： 本申请涉及模态分析。在此披露了用于经由至少一个辐射元件向能量施加带中的物体施加电磁能的设备以及方法。至少一个处理器可以被配置为确定该能量施加带中的一个第一区以及一个第二区的位置。另外，该处理器可以被配置为对一个来源进行调节以便向该能量施加带中的该第一区施加第一预定量的RF能量并且向该能量施加带中的该第二区施加第二预定量的RF能量。该第一预定能量量值可以不同于该第二预定能量量值。

公开(公告)号：CN105027670A

公开(公告)日：2015-11-04

申请号：CN201380073951.5

申请日：2013-12-26

申请人： 东京毅力科创株式会社

发明人： 河西繁 ,  三浦仁嗣

IPC分类号： H05B6/78 ,  H01L21/20 ,  H01L21/268 ,  H05B6/64 ,  H05B6/72

CPC分类号： H01L21/02667 ,  H01L21/02422 ,  H01L21/02532 ,  H01L21/02631 ,  H01L21/2686 ,  H01L21/67115 ,  H01L21/6719 ,  H05B6/70 ,  H05B6/701 ,  H05B6/708 ,  H05B6/72 ,  H05B6/78 ,  H05B6/80

摘要： 本发明提供一种能够使用微波对被处理体实施均匀的热处理的加热处理装置。加热处理装置(10)具有内部被导入有效波长为λg的微波的4个处理室(11)，4个处理室(11)相互平行地配置，并且4个处理室(11)中的每一个具有与基板(G)相对的开口部(15)，在长度方向上从一端内壁至另一端内壁的长度为m×λg/2，其中，m是正整数，向处理室(11)的内部激发微波的天线(14)在处理室(11)的长度方向上从端部的内壁偏移λg/4+p×λg/2地配置，其中，p为包含0的正整数，当从与各处理室(11)的长度方向垂直的方向以各处理室(11)重叠的方式观察各处理室(11)时，各处理室(11)在长度方向上错开λg/8地配置。

公开(公告)号：CN103188835B

公开(公告)日：2015-03-25

申请号：CN201210584999.X

申请日：2012-12-28

申请人： 东京毅力科创株式会社

发明人： 池田太郎 ,  河西繁 ,  山下润 ,  伴昌和

IPC分类号： H05B6/64 ,  H05B6/80 ,  H01L21/67

CPC分类号： H05B6/6402 ,  H05B6/6426 ,  H05B6/70 ,  H05B6/707 ,  H05B6/72 ,  H05B6/806

摘要： 本发明提供电力的利用效率和加热效率优异、能够对被处理体进行均匀的处理的微波加热处理装置和处理方法。在微波加热处理装置（1）中，在处理容器（2）的顶部（11），四个微波导入口（10）分别配置为以其长边和短边与四个侧壁部（12A、12B、12C、12D）的内壁面平行，且配置于相互变更90°角度的旋转位置。各微波导入口（10）配置为，在沿与各自的长边垂直的方向平行移动的情况下，不与具有平行的长边的其它微波导入口（10）重叠。