一种光气化生产MDI用的MDA及其处理方法

    公开(公告)号:CN116162031A

    公开(公告)日:2023-05-26

    申请号:CN202310003587.0

    申请日:2023-01-03

    Abstract: 本发明公开了一种光气化生产MDI用的MDA及其处理方法,采用HCl气体气提原料MDA,使MDA中的氧化产物(醌、亚胺)能快速的与MDA发生缩合反应,降低MDA中的氧化产物(醌、亚胺),HCl气提量与原料MDA质量比为(0.02‑0.1):1,气提时间为1‑30min。同时采用负压精馏脱水,可以深度脱除反应生成的水分,在后续光气化反应过程中降低副反应的发生,提高反应收率,延长运行周期。该方法工艺简单,操作方便,运行成本低,可实现自动稳定控制,具有很强的工业适用性。

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